• 대한전자공학회논문지SD
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• 제47권12호
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• pp.55-67
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• 2010

고다층 배선 기판에 형성된 개방 스터브(open stub)를 제거한 후면드릴가공홀(Back-Drilled-Hole, BDH)과 일반적인 구조인 관통홀(Plated-Through-Hole, PTH) 구조의 전기적 특성에 대한 분석을 하였으며, 고속 선호를 부품 실장면으로부터 내층의 스트립라인으로 전송하기 위해 비아홀의 급전 길이가 가장 긴 전송층을 선택하였다. 10 GHz의 광대역 주파수 내에서 실험계획법(DOE, design of experiment)을 적용하여 비아홀 구조 내에 외층과 급전층 사이의 비아홀의 길이, 접지층에 형성된 천공(anti-pad)의 크기와 급전층에 형성된 패드 (pad)의 크기가 최대 반사 손실 반전력 주파수와 삽입 손실에 미치는 영향을 분석하였다. 이로 부터 거시적 모델(macro model)을 위한 회귀 실험식을 추출하여 실험 결과와 비교 평가하였고, 실험 영역 외에서도 측정 결과와 5% 이내의 오차를 보이고 있음을 확인하였다.

• 마이크로전자및패키징학회지
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• 제19권4호
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• pp.51-56
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• 2012

습식공정으로 thermal via용 SI 관통 via를 형성하기 위해 TMAH 용액의 농도와 온도에 따른 Si 기판의 이방성 습식식각 거동을 분석하였다. TMAH 용액의 온도를 $80^{\circ}C$로 유지한 경우, 5 wt%, 10 wt% 및 25 wt% 농도의 TMAH 용액은 각기 $0.76{\mu}m/min$, $0.75{\mu}m/min$ 및 $0.30{\mu}m/min$의 Si 식각속도를 나타내었다. 10 wt% TMAH 용액의 온도를 $20^{\circ}C$와 $50^{\circ}C$로 유지시에는 각기 $0.07{\mu}m/min$와 $0.23{\mu}m/min$으로 식각속도가 저하하였다. Si 기판의 양면에 동일한 형태의 식각 패턴을 형성하여 $80^{\circ}C$의 10 wt% TMAH 용액에 장입하고 5시간 식각하여 깊이 $500{\mu}m$의 관통 via hole을 형성하였다.

• 마이크로전자및패키징학회지
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• 제21권4호
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• pp.117-123
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• 2014

써멀비아나 수직 배선으로 사용하기 위한 Cu 관통비아를 열린 비아 hole의 top-down filling 도금공정과 bottom-up filling 도금공정으로 형성 후 미세구조를 관찰하였다. 직류도금전류를 인가하면서 열린 비아 홀 내를 top-down filling 도금하거나 bottom-up filling 도금함으로써 내부기공이 없는 건전한 Cu 관통비아를 형성하는 것이 가능하였다. 열린 비아 홀의 top-down filling 공정에서는 Cu filling 도금 후 시편의 윗면과 밑면에서 과도금된 Cu 층을 제거하기 위한 chemical-mechanical polishing(CMP) 공정이 요구되는데 비해, 열린 비아 홀의 bottom-up filling 공정에서는 과도금된 Cu층을 제거하기 위한 CMP 공정이 시편 윗면에서만 요구되는 장점이 있었다.

• 마이크로전자및패키징학회지
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• 제17권3호
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• pp.79-84
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• 2010

3차원 Si 칩 패키징 공정을 위한 비아 홀(TSV: Through-Si-Via) 및 Au 시드층 형성, 전기 도금을 이용한 Cu 충전기술과 범핑 공정 단순화에 관하여 연구하였다. 비아 홀 형성을 위하여 $SF_6$ 와 $C_4F_8$ 플라즈마를 교대로 사용하는 DRIE(Deep Reactive Ion Etching) 법을 사용하여 Si 웨이퍼를 에칭하였다. 1.92 ks동안 에칭하여 직경 40 ${\mu}m$, 깊이 80 ${\mu}m$의 비아 홀을 형성하였다. 비아 홀의 옆면에는 열습식 산화법으로 $SiO_2$ 절연층을, 스퍼터링 방법으로 Ti 접합층과 Au 시드층을 형성하였다. 펄스 DC 전기도금법에 의해 비아 홀에 Cu를 충전하였으며, 1000 mA/$dm^2$ 의 정펄스 전류에서 5 s 동안, 190 mA/$dm^2$의 역펄스 조건에서 25 s 동안 인가하는 조건으로 총 57.6 ks 동안 전기도금하였다. Si 다이 상의 Cu plugs 위에 리소그라피 공정 없이 전기도금을 실시하여 Sn 범프를 형성할 수 있었으며, 심각한 결함이 없는 범프를 성공적으로 제조할 수 있었다.

• 전기전자학회논문지
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• 제20권2호
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• pp.174-176
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• 2016

본 연구에서는 HgTe 나노입자 박막 수평열전 플랫폼에 via를 형성하여 나노입자 박막 양단의 온도 차이를 극대화하였다. HgTe 나노입자 박막은 p-type의 열전 특성을 보였으며, HgTe 나노입자 박막 수평열전소자에서 제백계수는 $290{\mu}V/K$이였다. 또한 피부 위의 via 열전 플랫폼을 통해서 향후 차세대 웨어러블 전자 소자의 구현 가능성을 확인하였다.

• Journal of Dental Anesthesia and Pain Medicine
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• 제17권2호
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• pp.157-161
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• 2017

In sedation via the submucosal route, the drug is administered through the maxillary buccal submucosa. It is time saving, effective, and safe. Patients with autism, a mental disorder, often find it hard to make relationships with other people. These patients display a strong resistance to dental treatment and sedation. This study reports a successful case of behavioral management during dental treatment, using sedation via the submucosal route. The patient was strongly resistant to sedation via the oral, intramuscular, and intravenous routes. The drug used was 9 mg (0.1 mg/kg) of midazolam. Through this case report, we reaffirm the significance of sedation via the submucosal route, and expect that it will be used more frequently for patients with autism, who display behaviors that are difficult to manage, patients with other disabilities, and children.

• 대한산업공학회지
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• 제28권1호
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• pp.57-62
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• 2002

The semiconductor industry has continuously been looking for the ways to improve yield and to reduce manufacturing cost. The layout modification approach, one of yield enhancement techniques, is applicable to all design styles, but it does not require any additional resources in terms of silicon area. The layout modification method for yield enhancement consists of making local variations in the layout of some layers in such a way that the critical area, and consequently the sensitivity of the layer to point defects, is reduced. Chen and Koren (1995) proposed a greedy algorithm that removes defect sensitive area using via moving, but it is easy to fall into a local minimum. In this paper, we present a via moving algorithm using simulated annealing and enhance yield by diminishing defect sensitive area. As a result, we could decrease the defect sensitive area effectively compared to the greedy algorithm presented by Chen and Koren. We expect that the proposed algorithm can make significant contributions on company profit through yield enhancement.

• JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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• 제3권3호
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• pp.114-121
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• 2003

Through comparing stress state of TEOS and SiLK-embedded structures, the effect of low-k materials on stress and stress distribution in via-line structures were investigated using three-dimensional finite element analyses. In the case of TEOS-embedded via-line structures, hydrostatic stress was concentrated at the via and the top of the lines, where the void was suspected to nucleate. On the other hand, in the via-line structures integrated with SiLK, large von-Mises stress is maintained at the via, thus deformation of via is expected as the main failure mode. A good correlation between the calculated results and experimentally observed failure modes according to dielectric materials was obtained.

• International Journal of Internet, Broadcasting and Communication
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• 제8권2호
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• pp.49-54
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• 2016

Data delivery is very challenging in VANETs because of its unique characteristics, such as fast topology change, frequent disruptions, and rare contact opportunities. This paper tries to explore the scope of 3G-assisted data delivery in a VANET within a budget constraint of 3G traffic. It is started from the simple S_Random (Srand) and finally reached the 3GSDD, i.e., the proposed algorithm. The performance evaluation of different algorithms is done through the two metrics delivery ratio and average delay. A third function utility is created to reflect the above two metrics and is used to find out the best algorithm. A packet can either be delivered via multihop transmissions in the VANET or via 3G. The main challenge is to decide which set of packets should be selected for 3G transmissions and when to deliver them via 3G. The aim is to select and send those packets through 3G that are most sensitive and requiring immediate attention. Through appropriate communication mechanism, these sensitive information are delivered via VANET for 3G transmissions. This way the sensitive information which could not be transmitted through normal VANET will certainly find its destination through 3G transmission unconditionally and with top priority. The delivery ratio of the packets can also be maximized by this system.

• 한국표면공학회:학술대회논문집
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• 한국표면공학회 2007년도 추계학술대회 논문집
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• pp.173-174
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• 2007

Through Silicon Via ( TSV)는 향후3D integration devices (CMOS image sensors) 와 보다 더 직접화되고 진보된 memory stack에 기여 할 것이다. 이는 한층 더 진보된 microprocessors system 을 구축 하리라 본다. 해서 본문은 TSV plasma etching processing 소개와 특히 Bosch process에 대한 개선 방법을 제시하고자 한다.