Growth behavior and thermal stability of $CoSi_2$ layer on poly-Si substrate using reactive chemical vapor deposition
(반응성 CVD를 이용한 다결정 실리콘 기판에서의 $CoSi_2$ layer의 성장거동과 열적 안정성에 관한 연구)
-
- Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
- /
- 2001.11a
- /
- pp.61-61
- /
- 2001