Kim, Chong-Don;Ko, Jung-Eun;Jo, Chul-Soo;Kim, Young-Soo
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2008.06a
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pp.99-99
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2008
To grow the large diameter GaN with high structure and optical quality has been obtained by hydride vapor phase epitaxy(HVPE) method. In addition to the nitridation of $Al_2O_3$ substrate, we also developed a "step-growth process" to reduce or to eliminate the bowing of the GaN substrate caused by thermal mismatch during cool down after growth. The as-grown 380um thickness and 75mm diameter GaN layer was separated from the sapphire substrate by laser-induced lift-off process at $600^{\circ}C$. A problem with the free-standing wafer is the typically large bowing of such a wafer, due to the built in the defect concentration near GaN-sapphire interface. A polished G-surface of the GaN substrate were characterized by room temperature Double crystal X-ray diffraction (DCXRD), photoluminescence(PL) measurement, giving rise to the full-width at half maximum(FWHM) of the rocking curve of about 107 arcsec and dislocation density of $6.2\times10^6/cm^2$.
GaN is a key material for blue and ultraviolet optoelectronics. Postannealing process was employed to investigate the structural change and the effect on electrical property of the GaN thin film grown on reactive ion beam(RIB) treated sapphire (0001) substrate. Full width half maximum (FWHM) of double crystal x-ray diffraction (DCXRD) spectra and Hall mobility of the specimen were significantly changed depending on the postannealing time at $1000^{\circ}C$ in N2 atmosphere. FWHM of DCXRD reduced upto about 50arc-sec and the mobility increased about $80\textrm{cm}^2$/V.sec. The postannealed specimen with the best mobility was compared with sample without annealing by TEM. The former sample showed a decrease in the lattice strain and reduction of dislocation density by about 56~59%. This implies that there is a strong correlation between crystalline quality and the electrical property of the film. The Present results clearly show that the combination of RIB pretreatment and proper post annealing conditions results in the improved properties of GaN films grown by MOCVD.
Han, Sangmoon;Choi, Ilgyu;Song, Jihoon;Lee, Cheul-Ro;Cho, Il-Wook;Ryu, Mee-Yi;Kim, Jin Soo
Applied Science and Convergence Technology
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v.27
no.5
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pp.95-99
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2018
We discuss the structural and optical characteristics of GaN nanowires (NWs) grown on Si(111) substrates by a plasma-assisted molecular-beam epitaxy. The GaN NWs with high crystal quality were formed by adopting a new growth approach, so called Ga pre-deposition (GaPD) method. In the GaPD, only Ga was supplied without nitrogen flux on a SiN/Si surface, resulting in the formation of Ga droplets. The Ga droplets were used as initial nucleation sites for the growth of GaN NWs. The GaN NWs with the average heights of 60.10 to 214.62 nm obtained by increasing growth time. The hexagonal-shaped top surfaces and facets were observed from the field-emission electron microscope images of GaN NWs, indicating that the NWs have the wurtzite (WZ) crystal structure. Strong peaks of GaN (0002) corresponding to WZ structures were also observed from double crystal x-ray diffraction rocking curves of the NW samples. At room temperature, free-exciton emissions were observed from GaN NWs with narrow linewidth broadenings, indicating to the formation of high-quality NWs.
We investigated the effect of TMIn (trimethly-indium) source depletion on InGaAs, InGaAsP and 1.55 $\mu\textrm{m}$ InGaAs/InGaAsP SMQW by using EPISON ultrasonic monitor for measuring the concentration of metalorganic/carrier gas mixtures. And the problems for the growth reproducibility in MOCVD was solved by using an EPISON ultrasonic monitor with closed-loop mode under the condition of TMIn source depletion. The saturation pressure of TMIn was dramatically decreased over consumption of 80%. In the case of bulk epilayer, Up-shifting of 300 arcsec to Ga-rich direction and FWHM broadening by a factor of two in DCXRD spectrum were observed due to the TMIn source depletion. In the case of SMQW, Up-shifting of 300 arcsec to Ga-rich direction in DCXRD spectrum and blue-shift of 40 nm in PL spectrum were observed due to the TMIn source depletion. However, good reproducibility ($\Delta\theta$<$\pm$100 arcsec) was achieved even the condition of 95% of TMIn consumption, when we used the EPISON with closed-loop mode.
Park Jin-Bum;Koh Dongwan;Park Young Ju;Oh Hyoung-taek;Shinn Chun-Kyo;Kim Young-Mi;Park Il-Woo;Byun Dong-Jin;Lee Jung-Il
Korean Journal of Materials Research
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v.14
no.4
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pp.235-238
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2004
The LT-MBE (low temperature molecular beam epitaxy) allows to dope GaAs with Mn over its solubility limit. A 75 urn thick GaMnAs layers are grown on a low temperature grown LT-GaAs buffer layer at a substrate temperature of $260^{\circ}C$ by varying Mn contents ranged from 0.03 to 0.05. The typical growth rate for GaMnAs layer is fixed at 0.97 $\mu\textrm{m}$/h and the V/III ratio is varied from 25 to 34. The electrical and magnetic properties are investigated by Hall effect and superconducting quantum interference device(SQUID) measurements, respectively. Double crystal X-ray diffraction(DCXRD) is also performed to investigate the crystallinity of GaMnAs layers. The $T_{c}$ of the $Ga_{l-x}$ /$Mn_{x}$ As films grown by LT-MBE are enhanced from 38 K to 65 K as x increases from 0.03 into 0.05 whereas the $T_{c}$ becomes lower to 45 K when the V/III ratio increases up to 34 at the same composition of x=0.05. This means that the ferromagnetic exchange coupling between Mn-ion and a hole is affected by the growth condition of the enhanced V/III ratio in which the excess-As and As-antisite defects may be easily incorporated into GaMnAs layer.
The In doped ZnO(ZnO:In)thin films sensitive to $NH_3$ gas were prepared by the double layer depositions of In film by vacuum evaporation and ZnO film by rf magnetron sputtering method onto a $SiO_2$/Si wafer substrate, and subsequent heat treatment process. The structural and electrical characteristics of the ZnO:In thin films were studied as a function of heat treatment temperature by x-ray diffraction, scanning electron microscope and 4 point probing method. And the dependence of the sensitivity, the selectivity and the time response of the thin films on heat treatment temperature was investigated. The thin film heat-treated at $400^{\circ}C$ showed the highest sensitivity of 140% at an operating temperature of $300^{\circ}C$. The sensitivity towards CO, $NO_x$, gases observed in the same temperature.
Inyoung Song ;Taehyun Lee ;Kyungha Ryu ;Yong Jin Kim ;Myung Sung Kim ;Jong Won Park;Ji Hyun Kim
Nuclear Engineering and Technology
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v.54
no.12
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pp.4514-4521
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2022
In this study, the effects of heat and radiation on the degradation behaviour of fluoroelastomer under simulated normal operation and a severe accident environment were investigated using sequential testing of gamma irradiation and thermal degradation. Tensile properties and Shore A hardness were measured, and thermogravimetric analysis was used to evaluate the degradation behaviour of fluoroelastomer. Fourier transform infrared spectroscopy and X-ray photoelectron spectroscopy were used to characterize the structural changes of the fluoroelastomer. Heat and radiation generated in nuclear power plant break and deform the chemical bonds, and fluoroelastomer exposed to these environments have decreased C-H and functional groups that contain oxygen and double bonds such as C-O, C=O and C=C were generated. These functional groups were formed by auto oxidation by reacting free radicals generated from the cleaved bond with oxygen in the atmosphere. In this auto oxidation reaction, crosslinks were generated where bonded to each other, and the mobility of molecules was decreased, and as a result, the fluoroelastomer was hardened. This hardening behaviour occurred more significantly in the severe accident environment than in the normal operation condition, and it was found that thermal stability decreased with the generation of unstable structures by crosslinking.
To save electrical energy as much as 40 % for fluorescent lighting, the reflectors coated with silver reflective thin films recently became popular with higher reflectivities and long life. The thin films fabricated by using sputtering techniques are produced mainly in U.S.A. On the other hand, some silver films deposited by using evaporation methods show low adhesion in general, although the reflectivity is no problem. We have studied various PVD methods to obtain thin films with high reflectivity and adhesion on a substrate of polyester, for a couple of years. Silver films manufactured byusing evaporation showed the reflectivity of 96.4 % and the adhesion of $12 kg/\textrm{cm}^2$. while samples manufactured by using sputtering depicted the adhesion as much as $20 Kg/\textrm{cm}^2$ that is almost double, although their reflectivity was not much different. X-ray diffraction spectra for the sputtered films demonstrated a preferential growth on (111) plane and the cross-sections of the specimens revealed a dense columnar structure to result in the enhanced adhesion.
In this double-blind, placebo-controlled trial, we assessed the efficacy and safety of beef tallow extract (BTE) including Cis-9-cetylmyristoleate in patients with arthritis. Between May and December 2003, we selected 80 patients (n=80) who showed/manifested arthritic symptoms and whose radiological findings were suggestive of arthritis, and randomly assigned them to placebo-controlled (n=40) and treatment group (n=40). The placebo (corn starch 350 mg) and BTE (208 mg) were orally administered to placebo-controlled and treatment group three times a day, respectively. We assessed the efficacy and safety based on the visual analogue scale (V AS) and modified knee society knee scores (MKSKS) at baseline and endpoint, respectively. To assess the safety, we monitored the adverse effects noted in liver, kidney, cardiovascular and gastrointestinal system for 3 weeks. Then, we performed not only a questionnaire study but also laboratory tests (e.g., liver function test, kidney function test, urinalysis, electrocardiography [EKG], complete blood cell counts [CBC] and chest X-ray). For statistical analysis, Student (-test and paired (-test were done using SPSS■ Version 11.0. Statistical significance was set at p < 0.05. The scores between V AS and MKSKS showed statistical significance (p < 0.05) with an improvement of $69.2\%$ (27/39) and $3.8\%$ (21/39) of treatment-group patients, respectively. Abnormal laboratory findings were noted in neither placebo-controlled nor treatment group. In conclusion, our results indicate that the administration of BTE was a safe and effective treatment regimen for patients with arthritis. In addition, the efficacy of BTE was more remarkable in alleviating the symptoms rather than improving the function.
In this research we tried to make nano-sized TiNx by using planetary milling, and we made the composites double layered of titanium and nano-sized TiNx by using spark plasma sintering apparatus after mixing with the different ratio of pure titanium powder, and they were heat treated at $850^{\circ}C$ for 30 minutes. The crystal structures of nano-sized TiNx powders and the composites were analyzed by X-ray diffraction (XRD). The microstructures of the powders were analyzed by using scanning electron microscopy (FESEM) and the 40-50 nm size of nano-sized TiNx particle on the surface of agglomerated particles was investigated. With increasing the ratio of nano-sized TiNx of the composites, the microvickers hardness of the composites was increased.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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