A computer code has been developed for the computation of the viscous flow around a ship model with the free surface. In this code, the incompressible Reynolds-averaged Navier-Stokes equations are solved numerically by a finite difference method which employes second-order finite differences for the spatial discretization and a four-stage Runge-Kutta scheme for the temporal integration of the governing equations. For the turbulence closure, a modified version of the Baldwin-Lomax model is exploited. The location of the free surface is determined by solving the equation of the kinematic free-surface condition using the Lax-Wendroff scheme and the boundary-fitted grid is generated at each time step so that one of the grid surfaces always coincides with the free surface. An inviscid approximation of the dynamic free-surface boundary condition is applied as the boundary conditions for the velocity and pressure on the free surface. To validate the computational method and the computer code developed in the present study, the numerical computations are carried out for both Wigley parabolic hull and Series 60 $C_B=0.6$ ship model and the computational results are compared with the experimental data.
The success of an implant is determined by its integration into the tissue surrounding the biomaterial. Surface roughness is considered to influence the behavior of adherent cells. The aim of this in vitro study was to determine the effect of surface roughness on Saos-2 osteoblast-like cells. Titanium disks, blasted with $75{\mu}m$ aluminum oxide particles and anodic oxidized and machined titanium disks were prepared. Saos-2 were plated on the disks at a density of 50,000 cells per well in 48-well dishes. After 1 hour, 1 day, 6 days cell numbers were counted. One day, 6 days after plating, alkaline phosphatase(ALPase) activity was determined. Compared to experimental groups, the number of cells was significantly higher on control group. The stimulatory effect of surface roughness on ALPase was more pronounced on the experimental groups than on control group. These results demonstrate that surface roughness alters proliferation and differentiation of osteoblasts. The results also suggest that implant surface roughness may play a role in determining phenotypic expression of cells.
An amphiphilic nitroxide radical(2,2'6,6'-tetramethyl-4-octadecyioxy-1-piperidinyloxyl, TEMOPO) or mixture of TEMOPO and arachidic acid(Icosanoic acid, AA), was spread on water surface by the Langmuir-Blodgett(LB) method and surface pressure-area curve was measured. Such monolayer films of TEMOPO were transferred onto surfaces of photo transferable tin oxide electrodes(PTTO) by the LB method under various surface pressure with the transfer ratio of larger than 0.95 at the surface pressure higher than 15mN/m. The electrochemical effect of functional nitroxy radical monolayer onto semi-conductive electrode to electrolyte have been investigated by using LB method. Cyclic voltammetry technique was used for the electrochemical behavior measurement of TEMOPO monolayer onto the PTTO in 0.18 mo1/$dm^3$$H_2SO_4$ solutions. The shape of voltammograms was found to change from one electrode to another. The amount of charge for the oxidation and the re-reduction of the cation to TEMOPO were evaluated from graphical integration. The amounts of charge were always smaller than those predicted from the $\pi$-$\sigma$ curves though the transfer ratio was unity. The poor reproducibility of the cyclic voltammograms was improved by the mixing with AA. Structure and arrangement of monomolecular layer on water surface and electrode were studied. Characteristics of monolayer film applied for the mediation reaction was also discussed by electrochemical method.
As the trend towards miniaturization in semiconductor integration process, the limitations of interconnection metals such as copper, tungsten have become apparent, prompting research into the emergence of new materials like cobalt and emphasizing the importance of studying the corresponding process conditions. During the chemical mechanical polishing (CMP) process, corrosion inhibitors are added to the slurry, forming passivation layers on the cobalt surface, thereby playing a crucial role in controlling the dissolution rate of the metal surface, enhancing both removal rate and selectivity. This review investigates the understanding of the cobalt polishing process and examines the characteristics and behavior of corrosion inhibitors, a type of slurry additive, on the cobalt surface. Among the corrosion inhibitors examined, benzotriazole (BTA), 1,2,4-triazole (TAZ), and potassium oleate (PO) all improved surface characteristics through their interaction with cobalt. These findings provide important guidelines for selecting corrosion inhibitors to optimize CMP processes for cobalt-based semiconductor materials. Future research should explore combinations of various corrosion inhibitors and the development of new compounds to further enhance the efficiency of semiconductor processes.
The validity of the image model is investigated both analytically and experimentally in a half space with an infinite single reflecting surface present. This paper exploits the Sommerfeld integral that represents the exact solution for the reflected field in the half space. The solution is shown to be obtained by direct numerical integration which yields more accurate and stable results. The predicted results from the image model are compared to those from the direct numerical integration of the Sommerfeld integral. It is also experimentally demonstrated that the image model gives acceptably accurate results. It is of significance that this paper reveals analytical and experimental validation of using the image model except near-grazing incidence.
A technique for a wear volume calculation is improved and verified in this research. The wear profile data measured by a surface roughness tester is used. The present technique uses a data flattening, the FFT and the windowing procedure, which is used for a general signal processing. The measured value of an average roughness of an unworn surfnce is used for the baseline of the integration for the volume calculation. The improvements from the previous technique are the procedures of the data flattening and the determination of a baseline. It is found that the flattening procedure efnciently manipulates the raw data when the levels of it are not horizontal, which enables us to calculate the volume reasonably well and readily. By comparing it with the weight loss method by using artificial dents, the present method reveals more volume by aroung 3~10%. It is attributed to the protruded region of the specimen and the inaccuracy and data averaging during the weght loss measurement. From a thorough investigation, it is concluded that the present technique can provide an accurate wear volume.
Kim, Jung-Dae;Park, Mun-Yang;Kang, Jin-Yeong;Lee, Sang-Yong;Koo, Jin-Gun;Nam, Kee-Soo
ETRI Journal
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제20권1호
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pp.37-45
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1998
Reduced surface field lateral double-diffused MOS transistor for the driving circuits of plasma display panel and field emission display in the 120V region have been integrated for the first time into a low-voltage $1.2{\mu}m$ analog CMOS process using p-type bulk silicon. This method of integration provides an excellent way of achieving both high power and low voltage functions on the same chip; it reduces the number of mask layers double-diffused MOS transistor with a drift length of $6.0{\mu}m$ and a breakdown voltage greater than 150V was self-isolated to the low voltage CMOS ICs. The measured specific on-resistance of the lateral double-diffused MOS in $4.8m{\Omega}{\cdot}cm^2$ at a gate voltage of 5V.
In this study, it was studies the utilization of LIT(lock-in infrared thermography) which can detect defects in welded parts of ship and offshore structures. Quantitative analysis was used through methods of filtering and texture measurement of image processing techniques to find the optimized experimental condition. We verified reliability in our methods by applying image processing techniques in order to normalize evaluations of comparative images that show phase difference. In addition, low to mid exposure showed good results whereas high exposure did not provide significant results in regards to intensity of light exposure on surface. Lock-in frequency was satisfactory around 0.1 Hz regardless of intensity of light source we had. In addition, having the integration time of thermography camera inversely proportional to intensity of exposed light source during the experiment allowed good outcome of results.
Park, Jang-Sick;Oh, Ji-Young;Chun, Young-Hwan;Kim, Jong-Hwan;Lee, Seung-Lyul;Lee, Seung-Kil
한국진공학회:학술대회논문집
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한국진공학회 2011년도 제41회 하계 정기 학술대회 초록집
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pp.329-329
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2011
We measured thin films thickness sputtered from Cu target in the magnetron sputter system. Thin films thickness is thin as integration power in target is large. Cu thin films thickness in 100 kWh integration watt was decreased by 20% when that of beginning was compared. But the shape of thin films thickness distribution was same. For the calculation of thin films thickness distribution in the 100 kWh, the angular distribution data sputtered of Cu particles is necessary when Ar ions enter to inclined erosion surface of Cu target. We used the relation results of sputter yield and main angular distribution of sputtering particles emitted from Cu target published by G. Betz.
Lee, J.Y.;Kim, J.H.;Kim, M.J.;Moon, S.S.;Kim, I.H.;Lee, Y.H.;Yook, Jong-Gwan;Kukjin Chun
반도체디스플레이기술학회지
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제2권1호
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pp.11-14
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2003
The high Q(quality factor) suspended spiral inductors were fabricated on the silicon substrate by 3D surface micromachined process. The integration of 2.4GHz VCO has been performed by fabricating suspended spiral inductor of the top of CMOS VCO circuit. The phase noise of VCO integrated MEMS inductor is 93.5 dBc/Hz at 100kHz of offset frequency.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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