• 제목/요약/키워드: sol-gel growth

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Seeding층이 sol-gel법에 의한 PLZT 박막의 제조시 전기적 특성에 미치는 영향 (Effects of seeding layers on electrical properties of PLZT thin films prepared by sol-gel method)

  • 이진홍;박병욱
    • 한국결정성장학회지
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    • 제10권2호
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    • pp.140-144
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    • 2000
  • ($Pb_{0.91}$$La_{0.09}$)($Zr_{0.65}$$Ti_{0.35}$)$O_3$ thin films were prepared on ITO-coated glass by spin-coating. As $Pb_{0.9}$$La_{0.1}$)$TiO_3$ thin films were used as seeding layers, formation temperature of perovskite was reduced and theUrosette" structure was disappeared. PLZT thin films with a seeding layer of 40 nm thick showed a (100) preferred orientation and better dielectric and ferroelectric properties.ties.

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Mullite-Zirconia 복합체의 소결거동 및 기계적 성질 (Sintering Behavior and Mechanical Properties of Mullite-Zirconia Composites)

  • 박상엽
    • 한국분말재료학회지
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    • 제4권1호
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    • pp.9-17
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    • 1997
  • The mullite-zirconia composites were prepared by the pressureless sintering with addition of 10~20 vol% ZrO$_2$(TZ3Y) in the fused mullite and sol-gel mullite matrix. The densification rate of sol-gel mullite was higher than that of fused mullite, and the addition of ZrO$_2$(TZ3Y) was effective on the densification of fused mullite. The enhancement of densification and anisotropic growth of mullite in ZrO$_2$added specimen can be explained by the solid solution effect of $Zr^{+4}$ ion in mullite. Both mechanical strength and fracture toughness of mullite-zirconia composite were enhanced compared to those of mullite. The enhancement of mechanical properties is attributed to the hinderance of grain growth and the combined toughening effects of tetra-mono phase transformation and crack deflection due to the residual stress between mullite/ZrO$_2$.

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솔젤법으로 제조된 고활성 $TiO_2$ 광촉매에서 미세구조-물성-공정조건의 상관성 (Microstrictire-property-processing relationship in highly active $TiO_2$ photocatalysts prepared by the sol-gel method)

  • 신현기;김헌
    • 한국결정성장학회지
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    • 제9권5호
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    • pp.493-497
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    • 1999
  • 솔젤법을 사용하여 광촉매 $TiO_2$ 분말체를 제조하였으며 제조조건으로서 R값(물/알콕사이드 몰비), 열처리 온도, 미세구조로서 결정상, 물성으로서 비표면적과 입자크기의 상관관계를 조사하였으며 기능성으로 수용액상 염료의 광표백반응에 적용하여 광분해능을 극대화하기 위한 최적조건을 결정하였다.

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Preparation of Au fine particle dispersed $TiO_2$ film by sol-gel and photoreduction process

  • Hyun, Buh-Sng;Kim, Byeong-Il;Kang, Won-Ho
    • 한국결정성장학회:학술대회논문집
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    • 한국결정성장학회 1998년도 PROCEEDINGS OF THE 15TH KACG TECHNICAL MEETING-PACIFIC RIM 3 SATELLITE SYMPOSIUM SESSION 4, HOTEL HYUNDAI, KYONGJU, SEPTEMBER 20-23, 1998
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    • pp.103-111
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    • 1998
  • Au fine particle dispersed TiO2 film was prepared on silica glass substrate by sol-gel dip and firing process. The films were fabricated from the system of titanium tetraisoproxie-EtOh-HCl_H2O-hydrogen tetrachloroaurate(III) tetrahydrate. The conditions for the formation of the clear solution and dissolving high concentration of Au compound were examined. And a photoreduction process was adopted to control the size of gold metal particles. Phase evolution of matrix TiO2 and variation of Au particle with UV irradiation were investigated by XRDA, SEM, TEM and UV-visible spectrophotometer. And the effect of CPCl(Cetylpyridinium chloride monohydrate) as a dispersion agent was evaluated.

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소디움실리케이트 수용액(水溶液)으로부터 솔-젤 반응(反應)에 의해 제조(製造)된 실리카 솔 입자특성(粒子特性) 고찰(考察) (Characterization of Silica Sol Particle Prepared by Sol-Gel Reaction from Sodium Silicate Solution)

  • 김철주;김성돈;장희동;윤호성
    • 자원리싸이클링
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    • 제18권6호
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    • pp.30-37
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    • 2009
  • 소디움실리케이트 수용액으로부터 나트륨이온이 제거된 핵생성 산화실리케이트 수용액과 실리케이트 수용액을 pH 10~11로 조절하여 혼합한 다음, $20{\sim}80^{\circ}C$에서 솔-젤 반응하여 실리카 솔 입자를 제조하였다. 이 때 yellow silicomolybdate method를 이용하여 소디움실리케이트와 나트륨이온이 제거된 실리케이트 수용액의 특성과 이들 출발용액으로부터 솔-젤 반응에 의해 제조된 실리카 솔의 입자특성에 대하여 고찰하였다. $SiO_2$를 2 wt% 함유한 소디움실리케이트 수용액은 약 95% 이상의 반응성 실리케이트를 함유하며, 솔-젤 반응에 참여하는 반응성 실리케이트는 전체 실리카 기준 약 50% 정도이다. 반응온도가 증가함에 따라 silanol(Si-OH) 결합구조의 흡수피크 세기는 감소하고, siloxane(Si-O-Si) 결합구조의 흡수피크 세기가 증가하였다. 반응조건별로 제조된 실리카 솔 수용액의 zeta potential은 -40~-60 mV 범위로 분산성이 좋은 상태를 유지하였다. 실리카 솔 입자크기는 5~10 nm로 반응온도 증가에 따라 크기가 약간 감소하였다. 실리카 솔 제조 후, 2차 입자 성장을 위하여 실리케이트 수용액을 재 첨가하였을 경우에 실리카 솔입자 크기가 약 20 nm로 증가하였다.

졸-겔 법에 의한 단분산 구형 실리카 입자의 성장과 특성에 관한 연구 (Growth and Characteristics of Monodispersed Spherical Silica Particles by Sol-Gel Method)

  • 윤호성;박형상
    • 한국결정성장학회:학술대회논문집
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    • 한국결정성장학회 1997년도 Proceedings of the 13th KACG Technical Meeting `97 Industrial Crystallization Symposium(ICS)-Doosan Resort, Chunchon, October 30-31, 1997
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    • pp.13-19
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    • 1997
  • From the formation of the monodispersed silica particle which is a valuable for the industry by Sol-Gel process, the effects of the parameters participated in the process, the growth mechanism and the characteristics of silica particles for each rection conditions are investigated. To investigate about the formation of final silica particles, the suspension which performs the polymerization is reacted with molybdic acid, and the evolutions of TEOS and silica particle size are investigated in the reaction time ? 새 the characteristics of molybdic acid with the suspension. From the results, a constant number of silica particle is formed at early reaction stage. Silica particles grow through the aggregation of smaller particles and nucleation is rate-limiting step for the growth of particles. In the conditions of this study, spherical silica particles are formed, [NH$_3$] and [$H_2O$] concentration increase the particle size but particle size decrease with [$H_2O$] concentration which is a certain above region. Average particle sizes are 187.4~483.3 nm and standard deviations in the average particle size are 1.7~2.9% with each experimental condition. From the BET results, specific surface area is 5.5~23.4 $m^2$/g and these values decrease with increase size. The average pore size is 50~70$\AA$.

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Sol-gel법에 의한 Al과 F가 첨가된 ZnO 투명전도막의 전기 및 광학적 특성 (Electrical and optical properties of Al and F doped ZnO transparent conducting film by sol-gel method)

  • 이승엽;이민재;박병옥
    • 한국결정성장학회지
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    • 제16권2호
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    • pp.59-65
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    • 2006
  • Al이 첨가된 ZnO(ZnO : Al) 박막과 F이 첨가된 ZnO(ZnO : F) 박막을 sol-gel 법을 이용하여 glass 기판위에 코팅하였다. 공통적으로 (002)면의 c-축 배향성을 보였지만 I(002)/[I(002) + I(101)]와 FWHM(full width at half-maximum) 값은 차이를 보였다. 특히 입자크기에 있어서는 ZnO : Al 박막에서 첨가농도가 증가함에 따라 입자크기가 감소한 반면 ZnO : F 박막에서는 F 3 at%까지 입자크기가 증가하다가 그 이후로 다시 감소하는 경향을 보였다. 진기적 성질의 측정을 위해서 Hall effect measurement를 이용하였는데 ZnO : Al 박막의 경우 Al 1 at%에서 비저항이 $2.9{\times}10^{-2}{\Omega}cm$ 이었고 ZnO : F에서는 F 3 at%에서 $3.3{\times}10^{-1}{\Omega}cm$의 값을 보였다. 또한 ZnO : F 박막은 ZnO : Al 박막에 비해서 캐리어 농도는 낮았지만(ZnO : Al $4.8{\times}10^{18}cm^{-3}$, ZnO : F $3.9{\times}10^{16}cm^{-3}$) 이동도에 있어서 상당히 큰 값(ZnO : Al $45cm^2/Vs$ ZnO:F $495cm^2/Vs$)을 보였다. 가시광선 영역에서의 평균 광투과도에 있어서는 ZnO : Al 박막에서 $86{\sim}90%$의 값을 보였지만 ZnO : F에서는 $77{\sim}85%$로 상대적으로 낮은 광투과도를 나타내었다.

Sol-gel법에 의한 박막태양전지용 CuInS2 박막의 증착과 특성 (Characteristics and Deposition of CuInS2 film for thin solar cells via sol-gel method0)

  • 이상현;이승엽;박병옥
    • 한국결정성장학회지
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    • 제21권4호
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    • pp.158-163
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    • 2011
  • 박막 태양전지의 저가 고효율화를 실현하기 위해 넓은 면적의 기판 위에 코팅이 가능하며 진공의 유자가 필요 없기 때문에 장치가 간단하고 고순도의 균질한 박막을 얻을 수 있고 박막의 조성을 쉽게 조절할 수 있는 Sol-Gel법을 이용 하였다. Se보다 저가이며 독성이 없고 풍부한 원료인 S로 치환하여 사용하며 Cu/In비 값을 조절하고 tetragonal chalcopyrite $CuInS_2$의 열처리 온도에 따른 박막의 구조적, 광학적 특성에 미치는 변수들의 영향을 알아보았다. XRD pattern을 관찰한 결과 Cu/In비가 1.0일 때 $2{\theta}=27.9^{\circ}$에서 주피크가 가장 강하게 나타났으며 (112) 방향의 배향성을 가진 chalcopyrite상임을 확언 할 수 있었다. 열처리 온도가 증가할수록 (112) 면의 강도가 커지며 $500^{\circ}C$에서 열처리를 한 $CuInS_2$ 박막은 tetragonal 구조의 화학량론적 $CuInS_2$ 특징을 나타내고 본 실험의 샘플의 격자상수를 측정한 값이 a = 5.5032, c = 11.1064 ${\AA}$이며 JCPDS(Joint Committee on Powder Diffraction Standards)에 보고된 데이터 a = 5.523, c = 11.14 ${\AA}$과 거의 일치하였다. 광학적 특성을 알아보기 위해 측정한 광투과율은 가시광선 영역(380~770 nm)에서 전체적으로 30% 이하로 나타났다.

Sol-gel 법에 의한 초발수 $SiO_2$ 박막의 제조 및 특성 (Fabrication and properties of superhydrophobic $SiO_2$ thin film by sol-gel method)

  • 김진호;황종희;임태영;김세훈
    • 한국결정성장학회지
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    • 제19권6호
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    • pp.277-281
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    • 2009
  • 초발수 $SiO_2$ 박막을 sol-gel법에 의해 유리 기판 위에 성공적으로 제조하였다. 높은 표면 조도를 갖는 $SiO_2$ 박막을 제조하기 위하여 tetraethoxysilane(TEOS) 용액에 $SiO_2$ 나노 입자들을 첨가하였다. $iO_2$ 입자를 첨가하지 않은 용액을 이용하여 제조한 코팅막은 RMS roughness가 1.27 nm의 매우 평평한 표면 구조를 나타낸 반면, $SiO_2$ 나노 입자들을 1.0, 2.0, 3.0 wt% 첨가한 용액을 이용하여 제조한 $SiO_2$ 박막의 RMS roughness는 44.10 nm, 69.58 nm, 80.66 nm로 측정되었다. 제조된 $SiO_2$ 박막의 표면을 소수성 표면으로 바꾸기 위하여 FAS 용액을 이용하여 발수 처리를 하였다. FAS 처리 이후 거친 표면구조를 갖는 $SiO_2$ 박막의 표면은 친수성에서 소수성으로 바뀌었고 특히, 80.66 nm의 RMS roughness를 갖는 박막은 $163^{\circ}$의 물 접촉각을 갖는 초발수 표면을 나타내었다.