Experimental Study of Reactive Ion Etching of Tungsten Films Using $SF_6$ Plasma
($SF_6$ 플라즈마를 이용한 텅스텐 박막의 반응성이온식각에 관한 실험적 연구)
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- Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics A
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- v.30A no.7
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- pp.60-74
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- 1993