C$_{4}F_{8}/O_{2}$ /(N-based additives)를 이용한 ICP-type의 remote Plasma silicon nitride PECVD chamber 세정 시 발생되는 global warming gas 저감에 관한 연구
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- 한국진공학회:학술대회논문집
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- 한국진공학회 2002년도 제22회 학술발표회 초록집
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- pp.167-167
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- 2002