Park, Myung-Soo;Yoon, Su-Jin;Hwang, Je-Hwan;Kang, Sang-Woo;Kim, Deok-kee;Ku, Zahyun;Urbas, Augustine;Lee, Sang Jun
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2014.02a
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pp.359-359
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2014
In this study, surface plasmon resonance structures for the selective and the enhanced transmission of infrared light were designed. In order to relieve the large discontinuity of refractive index between air and metal hole array, $Si_3N_4$ was used as the impedance matching layer. Experimental parameter were calculated and determined in advance by the rigorous coupled wave analysis (RCWA) simulation, and then the experiment was carried out. A 2-dimensional metal hole array structures were patterned on the size of $1{\times}1cm^2$ GaAs substrate using photolithography process, and 5 nm thick Ti, 50 nm thick Au were deposited by E-beam evaporator, respectively. Subsequently, $Si_3N_4$ films with various thicknesses (150, 350, 550, and 750 nm) were deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD). For the comparison, transmittance of specimens with and without $Si_3N_4$ was measured using Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR) in the range of $2.5-15{\mu}m$. Furthermore, the surface and the cross-sectional images were collected from the specimens by scanning electron microscopy (SEM). From the results, it was demonstrated that the transmittance was enhanced up to 80% by the deposition of 750 nm $Si_3N_4$ at $6.23{\mu}m$. It has advantage of enhanced transmission despite the simple fabrication process.
The two-dimensional layered $MoS_2$ has high mobility and excellent optical properties, and there has been much research on the methods for using this for next generation electronics. $MoS_2$ is similar to graphene in that there is comparatively weak bonding through Van der Waals covalent bonding in the substrate-$MoS_2$ and $MoS_2-MoS_2$ heteromaterial as well in the layer-by-layer structure. So, on the monatomic level, $MoS_2$ can easily be exfoliated physically or chemically. During the $MoS_2$ field-effect transistor fabrication process of photolithography, when using water, the water infiltrates into the substrate-$MoS_2$ gap, and leads to the problem of a rapid decline in the material's yield. To solve this problem, an epoxy-based, as opposed to a water-based photoresist, was used in the photolithography process. In this research, a hydrophobic $MoS_2$ field effect transistor (FET) was fabricated on a hydrophilic $SiO_2$ substrate via chemical vapor deposition CVD. To solve the problem of $MoS_2$ exfoliation that occurs in water-based photolithography, a PPMA sacrificial layer and SU-8 2002 were used, and a $MoS_2$ film FET was successfully created. To minimize Ohmic contact resistance, rapid thermal annealing was used, and then electronic properties were measured.
This study attempted to understand the effect of subjective class consciousness on the quality of life of female elderly people and to verify the multi-mediated effect of expectation of living standards and depression. To this end, an analysis was conducted using the SPSS Process Macro for 8,070 female elderly people aged 55 or older in the data of the "2018 Aging Research Panel Survey 7" of the Korea Employment Information Service. As a result of the analysis, first, it was found that the higher the subjective class consciousness of the elderly women, the higher the quality of life. Second, the higher the subjective class consciousness of the elderly women, the higher the expectation of living standards and the lower the depression. Third, in the relationship between the subjective class consciousness and quality of life of female elderly, when expectations and depression of living standards were simultaneously put into the regression equation, both variables were found to have significant mediating effects. Based on these research results, practical and policy implications for improving the quality of life of the elderly women were discussed together.
Journal of Korean Society of Archives and Records Management
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v.21
no.1
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pp.117-139
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2021
"Detailed Nondisclosure Standards" of an institution include subject information and rationale that should not be disclosed by the institution. According to the Information Disclosure Act, such standards must be established in consideration of the nature of work, and continuous implementation is required. However, studies that reviewed the purpose and role of "Detailed Nondisclosure Standards" or the status of public institutions' development and operation of such standards were insufficient despite such standards being an indispensable tool in practice and a major device to protect the people's right to know. Therefore, this study introduces the strategies of the public institution and the research team to develop detailed standards for nondisclosure through the case of institution A. This will be of practical help to public institutions that intend to develop detailed nondisclosure standards in the future based on communication between institution A and the research team and sharing details during the project process.
KSCE Journal of Civil and Environmental Engineering Research
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v.30
no.1D
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pp.37-44
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2010
The present annexed parking lot standards for buildings in Parking Act are categorized in 9 groups with 13 parking standards in terms of recreation, culture and assembly, housing, factory, warehouse, and so on, in which same grouped facilities have same parking standards. These days diversity in building types and functions need more fractionated parking standards; however, most local governments focusing merely on applying strengthened parking standards in general without systematic rules of consistency. The current problem of parking standards being used is lack of regarding facility characteristics; expecially, a large sized high-tech manufacturing facility located in industrial site is still applied by same parking standards as normal manufacturing facility, even though most part of manufacturing process is automated and hence less manpower is employed. This paper presents a parking generation forecasting model for factory facilities in industrial site in terms of facility use and scale characteristics.
This paper focuses on method of setting priorities for telecommunications Standardization in which usually includes prioritization, resource allocation, standardization schedule for each SWA is based on prioritization of SWAs. We mainly used the Analytic Hierarchy Process(AHP) and a modified Delphi technique as a method for planning process. Recently, rapid technology evolution in telecommunications fields increases the necessity of developing more and more new standards. Also increased complexity of technologies makes standards more complicated, more specified and more thick than the past ones. As a result, the number of SWAa(Standardization Work Areas) and SWIs(Standardization Work Iterms) is being increased continuously. Furthermore, rapid telecommunication environment changes such as deregulation, liberalization, privatization, regionalization, and globalization surrounding telecommunications standardization grows increasingly important. To cope with these challenges and to make the more efficient use of the limited standardization resources, i.e., time, financial, personal resources, we will suggest logical and rational approach that is a backbone of strategic plan for telecommunication standardization. The telecommunication standardization planning process involves a MCDM(Multi-Criteria Decision Making) process. The Analytic Hierarchy Process(AHP) is a kind of MCDM approach. Our method is based on a combination of a modified Delphi technique and an application of AHP(spreadsheet model). Analyzed data from Delphi technique is used as inputs to AHP. In addition we also focus on the technique how to combine group judgments and to handle a large number of comparisons.
With the introduction to ebXML and web service related standards, enterprises struggle to adapt to the rapidly evolving technology to meet the complex needs of the enterprise customer. The ability to integrate and interoperate individual services within enterprise and with other enterprise's information technology infrastructure using standard-based business processes is an important element of business process management system. For over 25 years EDI has established VAN based solution of exchanging business information in electronic form. However EDI solutions are only accessible to large organizations due to the cost factor. Moreover lack of well accepted B2B business process standards is hindering the success of promoting interoperability between organizations of any size. ebXML work is focused on defining the standard B2B business process context and its runtime semantics in order to remove these hindrances. However ebXML framework does not recommend any particular implementation model to interact with enterprise internal system. This paper propose a end to end business process management architecture by applying ebXML in the front end of the enterprise system and using BPEL to integrate front end services into related services within enterprise.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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