Methane reforming processes to obtain hydrogen were investigated experimentally by using atmospheric plasma source. Among possible reforming processes, such as a $CO_2$ reforming(dry reforming), a partial oxidation (POx), a steam reforming(SR), and a steam reforming with oxygen(SRO or auto-thermal reforming), partial oxidation and the steam reforming with oxygen were considered. We choose a rotating arc plasma as an atmospheric plasma source, since it shows the best performances in our preliminary tests in terms of a methane conversion, a hydrogen production, and a power consumption. Then, the effects of a feeding flow-rate, an electrical power input to a plasma reaction, an $O_2/C$ ratio and a steam to carbon ratio in the case of SRO on the reforming characteristics were observed systematically. As results, at a certain condition almost 100% of methane conversion was obtained and we could achieve the same hydrogen production rate by consuming a half of electrical power which was used by the best results for other researchers.
This work was carried out to develop a pattern on the nanometer scale using plasma polymerization and plasma etching. This study is also aimed at developing a resist for the nano process and a vacuum lithography process. The thin films of plasma polymerization were fabricated by the plasma polymerization of inter-electrode capacitively coupled gas flow system. After delineating the pattern at accelerating voltage of 30[kV], ranging the dose of $1-500[{\mu}C/cm^2$], the pattern was developed with dry type and formed by plasma etching.
Diagnostic sensors are demanded during plasma processes. Holograms of plasma taken with laser light without a reference beam were used to monitor behaviors of charged particles produced in nitrogen plasma as a function of electrode temperature ranging between 50 and 300℃. Holograms were characterized as a function of the pixel sum and grayscale value. Pixel sum calculated in identified grayscale ranges strongly correlated with ion density and emitted light intensity measured with a langmuir probe and optical emission spectroscopy, respectively. The performance was further evaluated with data acquired as a function of N2 and NH3 flow rates and improved correlations were observed in the new grayscale range. The confirmed correlations indicate that a hologram is a viable means to diagnose behaviors of plasma particles such as ions. Underlying principles are discussed in view of particle and charge composing vacuum and light.
This paper presents an atmospheric microplasma-jet device for bio~medical application. The microplasma-jet device consists of four components; a thin Ni anode, porous alumina insulator, a stainless steel cathode and an aluminum case. The anode has 8 holes, and hole diameter and depth are $200 {\mu}m$ and $60 {\mu}m$, respectively. The discharge test was performed in atmospheric pressure using nitrogen gas and AC voltage at the optimum gas flow rate of 4 Vmin. The plasma-jet is ejected stably for the input voltage ranging from 5.5 to $9.5 kV_{p-p}$. The plasma becomes dense as the input voltage increases, which was verified by the hydrophilicity change of PMMA surface treated by the plasma. The temperature increasement of the aluminum film exposed to plasma-jet illustrates that the micro plasma-jet device is feasible for bio-medical application.
Experimental analysis according to the plasma actuator design variables was performed in order to verify the effects of sliding discharge plasma on aerodynamic drag reduction of a high-speed train. For the study, sliding discharge plasma actuator and high-frequency, high-voltage power supply were developed and experimented to figure out the best design variables for highest ionic wind velocity which could reduce the drag force. And then, 5% reduced-scale model of a high-speed train was built for wind tunnel test to verify it. From the results, it was confirmed that sliding discharge plasma had contribution to reduce the drag force and it had the potential to be applied to real-scale trains.
In this studying, we investigated the basic properties of N-doped plasma polymer. The N-doped plasma polymer thin films were deposited by radio frequency (13.56 MHz) plasma-enhanced chemical vapor deposition method. Various carbon-source were used as organic precursor with hydrogen gas as the precursor bubbler gas. Additionally, ammonia gas [NH3] was used as nitrogen dopant. The as-grown polymerized thin films were analyzed using cyclic voltammetry, ellipsometry, Fourier-transform infrared [FT-IR] spectroscopy, Raman spectroscopy, FE-SEM, and water contact angle measurement. Electronic property of N-doped plasma thin film is changed as flow rate of the NH3 gas.
Transparent aluminum oxide films were deposited on polycarbonate (PC) substrates by inductively coupled plasma (ICP) assisted reactive sputtering. the oxygen flow rate was regulated by controlling the target voltage with a proportional integrate derivative controller. The PC substrate was treated with plasma prior to the deposition in order to the enhance the adhesive strength of the $Al_2O_3$ film. The characteristics of hardness, structure, density, transmittance, deposition rate, surface roughness and residual stress were investigated to estimate the possibility for the hard coating.
Low pressure inductively coupled plasma characteristics of argon and oxygen are numerically simulated for a 400 mm rectangular type system with a plasma fluid model. The results showed lower power absorption profile at the corner than a circular one in a 13.56 MHz driven 1.5 turn antenna system with a drift-diffusion and quasi-neutrality assumption. Ions controlled by electric field are more non-uniform than metastables and the power absorption profile of oxygen plasma is affected by horizontal gas flow pattern to show 25% lower power absorption at the pumping flange side. Oxygen negative ions which are generated in electron collisional dissociation of oxygen molecules was calculated as 0.1% of oxygen atoms with similar spatial profile.
Atmospheric-pressure plasma has a great potential in many applications due to its simplicity rather than low pressure plasmas. In material processing, biomedical applications, and many other applications, the input power, gas flow rate, and the geometry of electrode have been mainly considered and studied as important external parameters of atmospheric-pressure plasma control. Besides, since the atmospheric-pressure plasmas are typically generated in an open air, the relative humidity is difficult to control and can change day by day. Therefore, the relative humidity cannot be ignored for plasmas. Thus, in this work, the atmospheric-pressure plasma jet was characterized by changing relative humidity, and it was found that the increase in electron density and OH radicals are due to Penning ionization between helium metastable and water vapors at higher humidity condition.
MOCVD is one of the major deposition techniques for Cu thin films and Ta-Si-N is one of promising barrier metal candidates for Cu with high thermal stability. Effects of hydrogen plasma pretreatment of the underlying Ta-Si-N film surface on the Cu nucleation in Cu MOCVD were investigated using scanning electron microscopy, X-ray photoelectron spectroscopy and Auger electron emission spectrometry analyses. Cu nucleation in MOCVD is enhanced as the rf-power and the plasma exposure time are increased in the hydrogen plasma pretreatment. The optimal plasma treatment process condition is the rf-power of 40 Wand the plasma exposure time of 2 min. The hydrogen gas flow rate in the hydrogen plasma pretreatment process does not affect Cu nucleation much. The mechanism through which Cu nucleation is enhanced by the hydrogen plasma pretreatment of the Ta-Si-N film surface is that the nitrogen and oxygen atoms at the Ta-Si-N film surface are effectively removed by the plasma treatment. Consequently the chemical composition was changed from Ta-Si-N(O) into Ta-Si at the Ta-Si-N film surface, which is favorable for Cu nucleation.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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