• Title/Summary/Keyword: photomask

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Photoresist thermal reflow 방법을 이용하여 제작한 마이크로렌즈 어레이의 형상 관련 오차 및 이에 대한 보정 (Shape Error and Its Compensation in the Fabrication of Microlens Array Using Photoresist Thermal Reflow Method)

  • 김신형;홍석관;이강희;조영학
    • 마이크로전자및패키징학회지
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    • 제20권2호
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    • pp.23-28
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    • 2013
  • 마이크로렌즈 어레이는 광학 시스템의 기본 부품으로, 사용 목적에 따라 초점거리가 다르게 제작되며, 대체로 긴 초점거리의 렌즈들이 많이 제작되고 있다. 본 논문에서는 졸겔(sol-gel) 내부에 들어있는 형광으로 염색된 물질을 관찰하기 위하여 마이크로렌즈 어레이를 제작하였다. 일반적으로 형광 현미경에서 관찰되는 형광 빛은 그 강도가 약하지만 마이크로렌즈를 이용할 경우 빛을 집중시켜 선명한 관찰이 가능하게 한다. 이를 실현시키기 위해 photoresist thermal reflow법을 사용하여 초점 거리가 짧은 마이크로렌즈를 제작하였으며, 렌즈의 형상 관련 오차를 측정하였다. 측정 오차에 기반을 둔 포토마스크 보정 및 스핀 코팅 조건을 조정하여 적합한 마이크로렌즈의 직경과 형상을 구현하였다.

광경화 점착 테이프를 이용한 은 나노와이어 기반 투명전극 패터닝 공법 (A Novel Patterning Method for Silver Nanowire-based Transparent Electrode using UV-Curable Adhesive Tape)

  • 주윤희;신유빈;김종웅
    • 마이크로전자및패키징학회지
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    • 제27권3호
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    • pp.73-76
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    • 2020
  • 은 나노와이어는 금속 특유의 고전도 특성, 낮은 Percolation threshold 및 고투과 특성을 나타내어 차세대 투명전극 물질로 각광받고 있다. 이를 플렉서블 및 웨어러블 디바이스, 전자피부 디바이스 등과 같은 다양한 분야에 활용하기 위해서는 은 나노와이어 전극을 필요한 형태로 패터닝 하기 위한 기술이 필수적으로 요구된다. 일반적으로, 은 나노와이어를 패터닝하기 위한 공법으로는 포토리소그래피 및 에칭, 프린팅, 레이저 Ablation 등을 들 수 있으나, 이러한 패터닝 기술들은 공정 절차가 복잡하거나 높은 공정 비용 등의 단점이 있다. 이에 본 연구에서는 UV-curable 점착제 기반의 low-cost 은 나노와이어 패터닝 공법을 개발하고자 하였다. 은 나노와이어 네트워크가 형성된 폴리우레탄 필름에 UV 경화형 테이프를 부착하고, UV를 선택적으로 조사한 뒤, 다시 UV 경화형 테이프를 벗겨내는 3단계의 간단한 공정만으로 은 나노와이어 패턴을 성공적으로 형성할 수 있었으며, 간단한 구현 원리 및 분석 결과를 본 논문에서 보고하고자 한다.

Highly Flexible Touch Screen Panel Fabricated with Silver Nanowire Crossing Electrodes and Transparent Bridges

  • Jeon, Youngeun;Jin, Han Byul;Jung, Sungchul;Go, Heungseok;Lee, Innam;Lee, Choonhyop;Joo, Young Kuil;Park, Kibog
    • Journal of the Optical Society of Korea
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    • 제19권5호
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    • pp.508-513
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    • 2015
  • A capacitive-type touch screen panel (TSP) composed of silver nanowire (AgNW) crossing electrodes and transparent bridge structures was fabricated on a polycarbonate film. The transparent bridge structure was formed with a stack of Al-doped ZnO (AZO) electrodes and SU-8 insulator. The stable and robust continuity of the bridge electrode over the bridge insulator was achieved by making the side-wall slope of the bridge insulator low and depositing the conformal AZO film with atomic layer deposition. With an extended exposure time of photolithography, the lower part of the SU-8 layer around the region uncovered by the photomask can be exposed enough to the UV light scattered from the substrate. This leads to the low side-wall slope of the bridge insulator. The fabricated TSP sample showed a large capacitance change of 22.71% between with and without touching. Our work supplies the technological clue for ensuring long-term reliability to the highly flexible and transparent TSP made by using conventional fabrication processes.

Imaging on a Vapor Deposited Film by Photopolymerization of a Rod-Like Molecule Consisting of Two Diacetylenic Groups

  • Chang, Ji-Young;Kyung Seo;Cho, Hyun-Ju;Lee, Cheol-Ju;Lee, Changjin;Yongku Kang;Kim, Jaehyung
    • Macromolecular Research
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    • 제10권4호
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    • pp.204-208
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    • 2002
  • A linear rod-like molecule, bis[4-(1,3-octadynyl)phenyl] terephthalate (2), consisting of two diacetylenic groups, was prepared. The unsymmetric diacetylene was prepared by the Cadiot-Chodkiewicz coupling reaction of 1-bromohexyne with 4-ethynylphenol and linked to a benzene core by an esterification reaction with terephthaloyl chloride in tetrahydrofuran. The thin film (200 nm thickness) of compound 2 was fabricated by the physical vapor deposition on a glass plate with a thermal evaporator. In the X-ray diffraction (XRD) study, the vapor deposited film on the glass plate showed peaks with d spacings of 19.4, 5.7, and 4.5 $\AA$. This XRD pattern was quite different from that observed for compound 2 isolated by recrystallization from methylene chloride/hexane. The vapor deposited film was polymerized by UV irradiation. Photopolymerization was carried out through a photomask, resulting in a patterned image, where the irradiated part became isotropic.

호흡기를 통한 약액 전달을 위한 진세노사이드 초미세입자 분무장치 제작 (Fabrication of an ultra-fine ginsenoside particle atomizer for drug delivery through respiratory tract)

  • 이병철;박진수;양웅모
    • 대한융합한의학회지
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    • 제2권1호
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    • pp.5-12
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    • 2021
  • Objectives: The purpose of this study is to fabricate an ultra-fine ginsenoside particle atomizer that can provide a new treatment method by delivering ginsenoside components that have a therapeutic effect on respiratory diseases directly to the lungs. Methods: We fabricated the AAO vibrating mesh by using the micromachining process. The starting substrate of an AAO wafer has a 350nm pore diameter with 50㎛ thickness. A photomask having several 5㎛ opening holes with a 100㎛ pitch was used to separate each nanopore nozzle. The photoresist structure was optimized to pattern the nozzle area during the lift-off process precisely. The commercial vibrating mesh was removed from OMRON's NE-U100 product, and the fabricated AAO vibrating mesh was installed. A diluted sample of 20mL with 30% red ginseng concentrate was prepared to atomize from the device. Results: As a result of liquid chromatography analysis before spraying the ginsenoside solution, ginsenoside components such as 20S-Rg3, 20R-Rg3, and Rg5 were detected. After spraying through the AAO vibrating mesh, ginsenosides of the same component could be detected. Conclusion: A nutrient solution containing ginsenosides was successfully sprayed through the AAO vibrating mesh with 350 nm selective pores. In particular, during the atomizing experiment of ginsenoside drug solution having excellent efficacy in respiratory diseases, it was confirmed that atomizing through the AAO vibrating mesh while maintaining most of the active ingredients was carried out.

졸-침투와 감광성 직접-패턴 기술을 이용하여 스크린인쇄된 Pb(Zr,Ti)O3 후막의 하이브리드 제작 (Hybrid Fabrication of Screen-printed Pb(Zr,Ti)O3 Thick Films Using a Sol-infiltration and Photosensitive Direct-patterning Technique)

  • 이진형;김태송;박형호
    • 마이크로전자및패키징학회지
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    • 제22권4호
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    • pp.83-89
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    • 2015
  • 본 논문에서는 졸-침투와 직접-패턴 공정을 이용하여 향상된 압전 후막의 전기적 특성과 우수한 패터닝 특성을 동시에 만족할 수 있는 제작 방법을 제시한다. 저온(< $850^{\circ}C$) 공정 후 후막의 고밀도 및 직접-패턴의 목적을 달성하기 위해서, 감광성 티탄산 지르콘산 연 ($Pb(Zr,Ti)O_3$, PZT) 졸을 스크린인쇄된 PZT 후막 내부로 침투시켰다. 직접-패턴된 PZT막은 포토크롬마스크와 UV 조사에 의해서 일정한 간격으로 인쇄된 후막 위에 성공적으로 형성되었다. 스크린인쇄된 후막은 분말형태의 기공성 구조를 갖고 있어 조사된 UV빛이 산란되기 때문에, 감광성 졸-침투 공정을 할 때 PZT 후막의 특성을 증가시키기 위한 공정의 최적화가 필요하다. 침투된 감광성 PZT 졸의 농도, 조사된 UV 시간 및 용매 현상 시간을 최적화한 결과, 0.35 M의 PZT 농도, 4 분의 UV 조사시간과 15 초의 용매 현상시간으로 졸-침투된 PZT 후막은 $800^{\circ}C$ 소결 온도에서 입자들의 성장에 의해 치밀화 정도가 증가되었다. 또한 PZT후막의 강유전 특성(잔류분극 및 항복 전압)도 향상되었다. 특히 잔류분극값은 스크린인쇄된 후막보다 약 4배정도 증가되었다. 이렇게 제작된 후막은 어레이타입의 압전형 마이크로미터크기의 센서 및 액츄에이터 등에 응용 가능성을 제시할 수 있었다.