• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2000년도 하계학술대회 논문집
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• pp.403-406
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• 2000

The piezoelectric properties and the doping effect of N $b_2$ $O_{5}$ and Mn $O_2$for 0.95PbZ $r_{x}$ $Ti_{x}$ $O_3$+0.05Pb(M $n_{0.42}$ $W_{0.26}$S $b_{0.32}$) $O_3$ compositions have been investigated. In the composition of 0.95PbZ $r_{0.54}$ $Ti_{0.46}$ $O_3$+0.05Pb(M $n_{0.42}$ $W_{0.26}$S $b_{0.32}$) $O_3$the Values Of $k_{p}$ find and $\varepsilon$$_{33}$ $^{T}$ are maximized, but $Q_{m}$ Was minimized ( $k_{p}$ =0.51, $Q_{m}$ =1750). The grain size was suppressed and the uniformity of grain was improved with doping concentration of N $b_2$ $O_{5}$ for 0.95PbZ $r_{0.54}$ $Ti_{0.46}$ $O_3$+0.005Pb(M $n_{0.42}$ $W_{0.26}$S $b_{0.32}$) $O_3$sample. The values of $k_{p}$ increased and the values of $Q_{m}$ slightly decreased when 0.5 wt% of N $b_2$ $O_{5}$ is doped. And the values of $k_{p}$ was the same formation of the N $b_2$ $O_{5}$ dopant when 0.5 wt% of M $n_2$ $O_{5}$ is doped. But the values of $Q_{m}$ was deeply decreased when 0.5 wt% of Mn $O_2$is doped. As a experiment results under high electric field driving, this piezoelectric ceramics are very stable. Conclusively, piezoelectric ceramic compsiton investigated at this paper is suitable for application to high power piezoelectric devices.. devices..ices.. devices..

• 대한전자공학회논문지TE
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• 제39권1호
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• pp.31-36
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• 2002

낮은 에너지의 보론 이온을 선비정질화된 실리콘 기판과 단결정 기판에 이온 주입하여 0.2μm 정도의 접합 깊이를 갖는 박막의 P/sup +/-n 접합을 형성하였다 이온주입에 의한 결정결함의 제거 및 주입된 보론 이온의 활성화를 위해 급속 열처리기를 이용하였으며, BPSC(bore-phosphosilicate glass)를 흐르도록 하기 위해 노 열처리를 도입하였다. 선비정질화 이온주입은 45keV, 3×10/sup 14/cm/sup -2/ Ge 이온을 사용하였으며, p형 불순물로는 BF2 이온을 20keV, 2×10/sup 15/cm /sup -2/로 이온주입 하였다. 급속 열처리와 노 열처리 조건은 각각 1000。C/ 10초와 850。C/4O분이었다. 형성된 접합의 접합깊이는 SIMS와 ASR로 측정하였으며, 4-point probe로 면 저항을 측정하였다. 또한 전기적인 특성은 다이오드에 역방향 전압을 인가하여 측정된 누설전류로 분석하였다. 측정 결과를 살펴보면, 급속 열처리만을 수행하여도 양호한 접합 특성을 나타내나, 급속 열처리와 노 열처리를 함께 고려해야 할 경우에는 노 열처리 후에 급속 열처리를 수행하는 공정이 급속 열처리 후에 노 열처리를 수행하는 경우보다 더 우수한 박막 접합 특성을 나타내었다.

• 한국정보통신학회논문지
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• 제13권11호
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• pp.2385-2390
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• 2009

본 연구에서는 C-축 우선 배향 특성을 가지는 N-doped ZnO 박막을 증착하고 그 미세구조의 특성을 분석 비교하였다. ZnO박막은 $N_2O$ 가스 분위기에서 RF reactive magnetron sputtering 시스템을 사용하여 p-Si(100) 웨이퍼 위에 증착되었다. $N_2O$ 가스는 N doping source로 사용되었으며, 전체 가스 유량에 대한 $N_2O$ 가스의 비율 $N_2O/(N_2O+Ar)$과 증착 전력을 증착의 주요 공정 변수로 선택하여 다양한 가스 비율과 증착 전력에 대한 박막의 미세 구조 특성을 비교 분석하였다. 특히, Auger electron spectroscopy (AES)를 이용하여 ZnO 박막 내에 들어가 존재하는 불순물 N의 수직분포를 분석하였고, 여러 가지 증착 조건에서 제작된 ZnO 박막의 표면형상 및 미세구조 특성을 Scanning Electron Microscope (SEM)를 이용하여 분석하였다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2014년도 제46회 동계 정기학술대회 초록집
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• pp.323-323
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• 2014

기존의 태양전지 기술은 기술 장벽이 매우 낮고 대량 생산을 통한 단가 절감하는 구조를 가지고 있어 대규모 자본을 가진 후발 기업에게 잠식되기 쉽다. 그러나, III-V족 화합물 반도체를 이용한 집광형 고효율 태양전지는 기술 장벽이 매우 높은 기술 집약 산업이므로 독자적인 기술을 확보하게 되면 독점적인 시장을 확보 할 수 있어 미래 고부가 가치 산업으로 적합하다. 특히 III-V족 화합물 반도체 태양전지는 III족 원소(In, Ga, Al)와 V족 원소(As, P)의 조합으로 0.3 eV~2.5 eV까지 밴드갭을 가지는 다양한 박막 제조가 가능하여 다양한 흡수 대역을 가지는 태양전지 제조가 가능하기 때문에 다중 접합 태양전지 제작이 가능하다. 또한 III-V 화합물 반도체는 고온 특성이 우수하여 온도 안정성 및 신뢰성이 우수하고, 또한 집광 시 효율이 상승하는 특성이 있어 고배율 집광형 태양광 발전 시스템에 가장 적합하다. Si 태양전지의 경우 100배 이하의 집광에서 사용하나, III-V 화합물 반도체 태양전지의 경우 500~1000배 정도의 고집광이 가능하다. 이러한 특성으로 III-V 화합물 반도체 태양전지 모듈 가격을 낮출 수 있고, 따라서 Si 태양전지 시스템과 비교하여 발전 단가 면에서 경쟁력을 확보할 수 있다. III-V 화합물 반도체는 다양한 밴드갭 에너지를 가지는 박막 제조가 용이하고, 직접천이(direct bandgap) 구조를 가지고 있어 실리콘에 비해 광 흡수율이 높다. 또한 터널정션(tunnel junction)을 이용하면 광학적 손실과 전기적 소실을 최소화 하면서 다양한 밴드갭을 가지는 태양전지를 직렬 연결이 가능하여 한 번의 박막 증착 공정으로 넓은 흡수대역을 가지며 효율이 높은 다중접합 태양전지 제작이 가능하다. 이에 걸맞게 본연구에서는 화학기상증착장치(MOCVD)를 이용하여 InAsP 나노선을 코어 쉘 구조로 성장하여 태양전지를 제작하였다. P-type Dopant로는 Disilane (Si2H6)을 전구체로 사용하였다. 또한 Benzocyclobutene (BCB) 폴리머를 이용하여 Dielectric을 형성하였고 Sputtering 방법으로 증착한 ZnO을 투명 전극으로 사용하여 나노선 끝부분과 실리콘 기판에 메탈 전극을 형성하였다. 이를 통해 제작한 태양전지는 솔라시뮬레이터로 측정했을때 최고 7%에 달하는 변환효율을 나타내었다.

• 한국전기전자재료학회논문지
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• 제17권11호
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• pp.1212-1217
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• 2004

Red organic electroluminescent (EL) devices based on tris(8-hydroxyquinorine aluminum) (Alq$_3$) doped with red emissive materials, 4-(dicyanomethylene)-2-t-butyl -6-(l,1,7,7-tetramethyljulolidyl-9-enyl)4H-pyran (DCJTB). poly(3-hexylthiophene) (P3HT). rubrene and 4-dicyanomethylene-2-methyl-6[2-(2,3.6.7-tetrahydro-lH,5H-benzo-[i,j]quinolizin-8yl)vinyl]-4H-pyran (DCM2) were fabricated for applying to the red light source, The photoluminescence (pL) intensities of red emissive materials doped in Alq$_3$ are limited by the concentration quenching with increasing the doping ratio and the doping concentration of DCJTB, DCM2, P3HT and rubrene measured at the maximum intensity showed 5, 1, 0.5 and 2 wt%, respectively. Time-resolved PL dynamic results showed that the PL lifetime of red emissive materials doped in Alq$_3$ were increased more than the value of material itself. It means that the efficient energy transfer occurred in the mixed state and Alq$_3$ is a suitable host materials for red emissive materials, The device which was used DCJTB as a dopant achieved the best result of the maximum luminance of 594 cd/$m^2$ at 15 V and showed the chromaticity coordinates of x=0,624, y=0,371.

• Applied Science and Convergence Technology
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• 제26권4호
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• pp.70-73
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• 2017

The dielectric constant and loss of poling/non-poling was measured in the $Pb_{1-3x/2}La_x[(Mg_{1/3}Ta_{2/3})_{0.66}Zr_{0.34}]O_3$ samples. The addition of $La^{3+}$ to the $Pb_{1-3x/2}La_x[(Mg_{1/3}Ta_{2/3})_{0.66}Zr_{0.34}]O_3$ did not cause a large change in grain size. But the addition of $La^{3+}$ did show transition temperature, which shifted toward low temperature in the $Pb[(Mg_{1/3}Ta_{2/3})Zr]O_3$ systems. In addition, the dielectric and pyroelectric properties (${\varepsilon}{\sim}20000$, $p{\sim}0.03C/m^2K$) of this system using $La^{3+}$ have been greatly improved. Pyroelectrics $Pb_{0.97}La_{0.02}(Mg_{1/3}Ta_{2/3})_{0.66}Zr_{0.34}]O_3$ system was found to have a relatively high ferroelectric FOMs ($F_V{\sim}0.035m^2/C$, $F_D{\sim}0.52{\times}10^{-4}Pa^{-1/2}$) at room temperature. Spontaneous polarization showed a value of $0.27{\sim}0.35C/m^2$ in the composition added to $La^{3+}$. The piezoelectric constant ($d_{33}=350{\sim}490pC/N$) and electromechanical coupling factor ($k_P=0.25{\sim}0.35$) are obtained in $Pb_{1-3x/2}La_x[(Mg_{1/3}Ta_{2/3})_{0.66}Zr_{0.34}]O_3$ compositions with $La^{3+}$ dopant.

• 한국분말재료학회지
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• 제15권5호
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• pp.345-351
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• 2008

The effects of the dopant (Mn) ratio on the microstructure and thermoelectric properties of $FeSi_2$ alloy were studied in this research. The alloy was fabricated by a combination process of ball milling and high pressure pressing. Structural behavior of the sintered bulks were systematically investigated by XRD, SEM, and optical microscopy. With increasing dopan (Mn) ratio, the density and ${\varepsilon}-FeSi$ phase of the sintered bulks increased and maximum density of 94% was obtained in the 0.07% Mn-doped alloy. The sintered bulks showed fine microstructure of ${\alpha}-Fe_{2}Si_{5}$, ${\varepsilon}-FeSi$ and ${\beta}-FeSi_2$ phase. The semiconducting phase of ${\beta}-FeSi_2$ was transformed from ${\alpha}-Fe_{2}Si_{5}+{\varepsilon}-FeSi$ phase by annealing.

• Korean Chemical Engineering Research
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• 제49권3호
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• pp.297-300
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• 2011

Mechanical exfoliation 방법에 의해 제작된 그래핀(Few Layer Graphene: FLG) 소자에 양성자를 조사하여 의도적으로 결함의 수를 증가시켰다. 그 후 공기중에 노출되었을 때와 진공상태에서 보관한 후에 측정된 전기적 특성을 확인하였다. 또한 UV에 노출시킨 후와 진공상태에서 열처리를 진행한 후에 전기적 특성의 변화들을 관찰하였다. 진공상태에서 보관한 그래핀 소자는 표면에 흡착되어 도펀트로 작용하게되는 species의 수가 감소하기 때문에 전류가 감소하는 결과를 나타내었다. UV에 노출된 상태에서는 오존에 의한 영향으로 약간의 전류 상승이 일어나지만 케리어의 이동도가 감소하게 된다. 반면 진공상태에서 열처리 후에는 전류는 매우 감소하게 되지만 결함과 도펀트에 의한 케리어 산란 현상이 감소하게 되므로 이동도는 크게 증가하게 된다.

• 대한전기학회:학술대회논문집
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• 대한전기학회 1991년도 추계학술대회 논문집 학회본부
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• pp.286-289
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• 1991

We simulated ion implantation and annealing condition of 1 ${\mu}m$ CMOS device using process simulator, SUPREM-II. In this simulation, optimal condition of ion implantation for symmetric threshold voltage determination of PMOS and NMOS region, junction depth and sheet resistance of source/drain region, impurity profile of each region are investigated. Ion implantation dose for 3 ${\mu}m$ N-well junction depth and symmetric threshold voltage of $|0.6|{\pm}0.1$ V were $1.9E12Cm^{-2}$(for phosphorus), $1.7E122Cm^{-2}$(for boron) respectively. Also annealing condition for dopant activation are examined about $900^{\circ}C$, 30 minutes. After final process step, N-well junction, P+ S/D junction and N+ S/D junction depth are calculated 3.16 ${\mu}m$, 0.45 ${\mu}m$ and 0.25 ${\mu}m$ respectively.

• Advances in environmental research
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• 제3권1호
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• pp.11-28
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• 2014

Advanced oxidation processes using UV and catalysts like $TiO_2$ and ZnO have been recently applied for the photocatalytic degradation of MTBE in water. Attempts have been made to replace the UV radiation by the solar spectrum. This review intends to shed more light on the work that has been done so far in this area of research. The information provided will help in crystallizing the ideas required to shift the trend from UV photocatalysis to sunlight photocatalysis. The careful optimization of the reaction parameters and the type of the dopant employed are greatly responsible for any enhancement in the degradation process. The advantage of shifting from UV photocatalysts to visible light photocatalysts can be observed when catalysts like $TiO_2$ and ZnO are doped with suitable metals. Therefore, it is expected that in the near future, the visible light photocatalysis will be the main technique applied for the remediation of water contaminated with MTBE.