Si/$SiO_2$ /NiFe/$Al_2$ $O_3$ /Co 박막의 투과자기저항 특성 연구
(Tunneling Magnetoresistance in Si/$SiO_2$ /NiFe/$Al_2$ $O_3$ /Co Thin Films)
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- 한국전기전자재료학회논문지
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- 제14권11호
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- pp.934-940
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- 2001