• 제목/요약/키워드: ion plating

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취급제품소개

  • 권태영
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2000년도 제18회 학술발표회 논문개요집
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    • pp.39-39
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    • 2000
  • 당사는 1996년 SPUTTERING SYSTEM 제작을 시작으로 하여 진공관련장치 및 부품을 제작, 납품하는 기업입니다. 그 동안 산업체 및 대학, 연구소 등에 제작 납품된 품목은 양산용SPUTTER 연구실험용SPUTTER, ION PLATING, RIE SYSTEM, E-BEAM 증착기 산업용 AL-EVAPORATOR, 산업용 AIP SYSTEM, 고온열처리로, 진공건조장치 진공 배기SYSTEM, 기타 진공관련장치가 있으며 진공부품으로는 OIL ROTARY PUMP, DIFFUSION PUMP, VALVE 및 배관부품 등이 있습니다. 그밖에 취급하는 품목으로는 진공게이지류 및 터보펌프를 판매하고 있습니다. 일부 장치는 기술력을 인정받아 일본, 동남아시아, 중국 등에 수출되었습니다. 당사는 항상 고객이 필요로 하는 진공응용장치를 다년간 축적된 제조기술과 연구력을 바탕으로 만족스러운 제품을 공급하고 있기에 이를 소개하고자 합니다.

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자동차 휠 도금박리폐액으로부터 질산 및 구리의 회수 (Recovery of Nitric acid and Copper from Plating Waste of Automobile Wheel)

  • 하용황;강윤지;손성호;이원식;안종관
    • 한국산학기술학회논문지
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    • 제14권11호
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    • pp.6015-6022
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    • 2013
  • 자동차용 고광택 크롬 도금 박리액에는 질산과 유가금속인 구리가 다량 함유되어 있는 것으로 알려져 있다. 질산($HNO_3$) 및 유가금속은 고가이며 유독하므로, 경제 및 환경을 고려하여 반드시 회수하여 재활용하여야 한다. 본 연구에서는 도금박리액으로부터 질산과 구리는 용매 추출법을 이용하여 후 분리하였다. 수상에 존재하는 질산의 농도는 0.01 ~ 1N NaOH를 이용하여 적정하여 분석하고, 금속의 농도는 ICP-MS 및 ICP-AES 등을 이용하여 분석하였다. 도금 박리액을 분석한 결과, 구리 이온은 76,850 mg/L이 함유되어 있음을 알 수 있었다. 용액 내 질산의 양을 NaOH 용액을 이용하여 적정법으로 측정하였을 때 대략 1.02 M 임을 알 수 있었다. 50% Tributylphosphate (TBP)를 이용하여 3단 추출한 유기층의 용액을 증류수를 이용하여 각각 3회의 역추출을 하였을 때, 원액으로부터 48.1%의 질산을 회수할 수 있음을 알 수 있었으며, 순도는 99.9% 이상이었다. 질산 회수 후, 용액 내에 남은 구리는 PC 88A, D2EPHA, LIX 84 및 ISE 106을 이용하여 용매추출 하였으며, 각 용매의 추출률을 비교하였을 때, ISE 106의 경우, 1단 추출 후 30% 황산으로 역세척 하였을 경우, 92%의 구리를 회수할 수 있었다. 추출된 구리는 $N_2H_4$를 이용하여 환원시켰고, 다양한 조건 하에서 구리 분말을 제조하였다.

이온도금된 Ti(C, N)피막의 물성에 대한 전자빔가열 효과 (Effects of Electron Beam Heating(EBH) on the Properties of ion Plated Ti(C, N) Films)

  • 김치명;고경현;안재환;배종수;정형식
    • 한국표면공학회지
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    • 제28권5호
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    • pp.267-275
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    • 1995
  • Electron beam can provide convenient way to heat the substrate during Hollow Cathode Discharge (HCD) ion plating of Ti(C, N)films. Densification of columnar structrue is enhanced by longer duration of electron beam heating(EBH). While strong(111) texture is identified always to be formed, the amount of (200) oriented grains which coherently interfaced with carbide particles of the substrate increased with heating(EBH). In turns, these crystallogaphical change lead to the increase of micro hardness and adhesion of coating. Adhesion of Ti(C, N) films increased more dramatically in case of ASP30 substrate of which carbide particles dispersed more finely than M42. Therefore, it could be concluded that both the density of film and interfacial structure can affect the adhesion property. Overheating of substrate could be resulted in low adhesion resistance due to high residual stress developed in the film.

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PET위 Silver Catalyst를 이용한 무전해 구리 도금 대안 공정 (Alternative Eletroless Copper Plating Process Utilizing Silver Catalyst on Poly(Ethylene Terephthalate))

  • 이홍기;허진영;임영생;이건형
    • 한국표면공학회:학술대회논문집
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    • 한국표면공학회 2014년도 추계학술대회 논문집
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    • pp.127-128
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    • 2014
  • 현재 기술 산업에서 PET위 무전해 도금을 실행하기 위해 다양한 전처리 공정과 Catalyst가 소개되고 있다. 그 중에서 가장 일반적으로 사용되고 있는 Catalyst는 Palladium으로서 Tin과 산화 환원 반응으로 Electroless Copper Deposition 단계에서 구리 도금의 Target으로 작용하고 있다. 하지만 상대적으로 Palladium은 생산 비용이 높으며 Tin은 쉽게 산화되는 문제점이 남아 있다. 이를 대체하기 위한 대안 공정으로서 Palladium 대신 Silver를 이용하여 Catalyst로서의 역할을 하는 공정이다. 이전에 PET위 전처리 공정으로 Ultra Violet을 사용하여 표면을 개질 시키는 방법을 연구했으며, 그 후 Potassium Permanganate와 Silver Catalyst의 Mechanism을 연구 했다. PET 표면 개질을 거치면서 화학 구조가 바뀌어 표면에 Carbon Carbon Double Bond를 형성한다. 이때 Permanganate ion이 새로이 형성된 이중 결합과 반응하여 두 개의 extra-OH functional group을 생성함과 동시에 $MnO_2$를 만들어 표면에 흡착 시킨다. $MnO_2$는 전위차에 의해 Silver Ion과 Redox Reaction을 일으키며 실질적인 Catalyst 역할을 하게 된다. Silver Catalyst는 무전해 구리 도금 용액 안에서 Copper의 Target으로 작용한다.

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SYNTHESIS OF CARBON NITRIDE THIN FILMS BY PLASMA PROCESSING

  • Takai, Osamu;Taki, Yusuke;Kitagawa, Toshihisa
    • 한국표면공학회지
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    • 제29권5호
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    • pp.363-370
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    • 1996
  • Carbon nitride is one of the new carbon materials which show interesting properties. After the theoretical calculation by LIu and Cohen, many researchers are trying to prepare $\beta$-$C_3N_4$ which may be harder than diamond. Many carbon nitride films synthesized till now by various methods are amorphous and the N/C ratios in the films are usually below 0.5. First we review shortly the synthesis of carbon nitride thin films by plasma, ion and laser processing. Second we report on the preparation of amorphous carbon nitride thin films by shielded arc ion plating and the structural and mechanical properties of the films.

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지르코니아 광페룰 사출성형용 WC 코아 핀의 Diamond Like Carbon 코팅 (Diamond Like Carbon Coating on WC Core Pin for Injection Molding of Zirconia Optical Ferrule)

  • 박현우;정세훈;김현영;이광민
    • 한국재료학회지
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    • 제20권11호
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    • pp.570-574
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    • 2010
  • A diamond-like carbon (DLC) film deposited on a WC disk was investigated to improve disk wear resistance for injection molding of zirconia optical ferrule. The deposition of DLC films was performed using the filtered vacuum arc ion plating (FV-AIP) system with a graphite target. The coating processing was controlled with different deposition times and the other conditions for coating, such as input power, working pressure, substrate temperature, gas flow, and bias voltage, were fixed. The coating layers of DLC were characterized using FE-SEM, AFM, and Raman spectrometry; the mechanical properties were investigated with a scratch tester and a nano-indenter. The friction coefficient of the DLC coated on the WC was obtained using a pin-on-disk, according to the ASTM G163-99. The thickness of DLC films coated for 20 min. and 60 min. was about 750 nm and 300 nm, respectively. The surface roughness of DLC films coated for 60 min. was 5.9 nm. The Raman spectrum revealed that the G peak of DLC film was composed of $sp^3$ amorphous carbon bonds. The critical load (Lc) of DLC film obtained with the scratch tester was 14.6 N. The hardness and elastic modulus of DLC measured with the nano-indenter were 36.9 GPa and 585.5 GPa, respectively. The friction coefficient of DLC coated on WC decreased from 0.2 to 0.01. The wear property of DLC coated on WC was enhanced by a factor of 20.

치과 임플란트 스크루 풀림토크 개선용 DLC 박막 코팅에 관한 연구 (A Study on the DLC Film Coating for Improving Loosening Torque of Dental Implant Screw)

  • 정운조;조재철
    • 전기학회논문지
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    • 제67권10호
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    • pp.1375-1381
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    • 2018
  • In this paper, we studied coatings of the DLC thin film for improving loosening torque of dental implant screw. We used a filtered arc ion plating process which can realize the most dense DLC layer by coating the DLC thin film on the surface of the dental abutment screw. It showed both hardness comparable to diamond and low friction coefficient similar to graphite, and to improve the loosening phenomenon by increasing the screw tightening force Cr/CrN, Ti/TiN or Ti/TiN/Cr/CrN buffer layers were deposited for 5 to 10 minutes to improve the adhesion of the DLC thin film to the surface of the Ti (Gr.5), and then the DLC thin film was coated for about 15 minutes. As a result, the Cr/CrN buffer layer exhibited the highest hardness of 29.7 GPa, the adhesion of 18.62N on average, and a very low coefficient of friction of less than 0.2 as a whole. And we measured loosening torque after one million times with masticatory movement simulator. As a result, the values of the coated screw loosening torque were clearly higher than those of the uncoated screw. From this, it was found that the DLC coating was effective methods improving the loosening torque. In addition, it was confirmed that the cytotoxicity test and cell adhesion test showed high biocompatibility.

Ca$^2+$ 및 Protein Kinase C가 배양한 계배근원세포의 분화에 미치는 영향 (Effects of $Ca^2+$ and Protein Kinase C on the Chick Myoblast Differentiation)

  • 정기화;김세재;박정원;박영철;이정주
    • 한국동물학회지
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    • 제32권1호
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    • pp.40-47
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    • 1989
  • 계배 근원세포의 배양 배지에 calcium ionophore A23187이나 EGTA를 배양 24시간에 첨가함으로서 초래된 세포내 칼슘 농도의 변화는 근원세포의 분화과정에 상당한 영향을 미쳤다. 배양 24시간에 A23187이나 EGTA를 첨가한 후 배양 48시간, 72시간, 및 96시간에 각각 세포를 [35S]methionine으로 1시간 표지시킨 후 수확하여 2차원 전기영동법으로 단백질을 분리시켰을 때, 일부 단백질은 배양 조건에 따라 합성 양상을 달리함을 보였다. 배양 24시간에 처리한 A23187과 calcium-activated neutral protease는 대조군에 비해 세포융합을 촉진시켰으나 동일 시기에 처리된 phosphoprotein을 정량함으로써 조사하였을 때, A23187이 배양 초기에는 대조군에 비해 약간 이 효소의 활성도를 높이는 효과를 보였으나 세포융합이 완성된 시기인 96시간에는 대조군에 비해 활성도를 높이는 효과를 보였으나 세포융합이 완성된 시기인 96시간에는 대조군에 비해 활성도의 차이를 나타내지 않았다. A23187 및 calcium-activated neutral protease에 의한 세포융합의 촉진, 그리고 A23187에 의한 protein kinase C 활성도의 증가가 모두 근원세포의 융합이 활발히 진행되는 시기인 배양 48-72 시간에 관찰됨을 볼 때, 세포내 칼슘의 농도는 protein kinase C 및 calcium-activated neutral protease와 상호연관을 가지면서 세포분화에 관여하는 것으로 사료된다.

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하이브리드 코팅시스템에 의해 제조된 Ti-Cr-Si-N 박막의 미세구조 및 기계적 특성연구 (Microstructure of Ti-Cr-Si-N Coatings Deposited by a Hybrid System of Arc ion Plating and Sputtering Techniques)

  • 강동식;전진우;송풍근;김광호
    • 한국표면공학회지
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    • 제38권3호
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    • pp.95-99
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    • 2005
  • Quaternary Ti-Cr-Si-N coatings were synthesized onto steel substrates (SKD 11) using a hybrid method of arc ion plating (AIP) and sputtering techniques. For the Syntheses of Ti-Cr-Si-N coatings, the Ti-Cr-N coating process was performed substantially by a multi-cathodic AIP technique rising Cr and Ti targets, and Si was added by sputtering Si target during Ti-Cr-N deposition. In this work, comparative studies on microstructure and evaluation of mechanical properties between Ti-Cr-N and Ti-Cr-Si-N coatings were conducted. As the Si was incorporated into Ti-Cr-N coatings, the Ti-Cr-Si-N coatings showed largely increased hardness value of approximately 42 GPa than one of 28 GPa for Ti-Cr-N coatings. The average friction coefficient of Ti-Cr-N coatings largely decreased from 0.7 to 0.35 with increasing Si content up to 20 at. $\%$. In addition, wear behavior of Ti-Cr-N coatings against steel ball was much improved with Si addition due to the surface smoothening effect and tribe-chemical reaction.

Hybrid PVD로 제조된 Ti-Me-N (Me=V, Si 및 Nb) 나노 박막의 미세구조와 마모특성 (Microstructure and Wear Resistance of Ti-Me-N (Me=V, Nb and Si) Nanofilms Prepared by Hybrid PVD)

  • 양영환;곽길호;이성민;김성원;김형태;김경자;임대순;오윤석
    • 한국표면공학회지
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    • 제44권3호
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    • pp.95-104
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    • 2011
  • Ti based nanocomposite films including V, Si and Nb (Ti-Me-N, Me=V, Si and Nb) were fabricated by hybrid physical vapor deposition (PVD) method consisting of unbalanced magnetron (UBM) sputtering and arc ion plating (AIP). The pure Ti target was used for arc ion plating and other metal targets (V, Si and Nb) were used for sputtering process at a gas mixture of Ar/$N_2$ atmosphere. Mostly all of the films were grown with textured TiN (111) plane except the Si doped Ti-Si-N film which has strong (200) peak. The microhardness of each film was measured using the nanoindentation method. The minimum value of removal rate ($0.5{\times}10^{-15}\;m^2/N$) was found at Nb doped Ti-Nb-N film which was composed of Ti-N and Nb-N nanoparticles with small amount of amorphous phases.