• JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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• 제14권2호
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• pp.146-152
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• 2014

The temperature dependence of strain-enhanced electron mobility in nMOSFETs is investigated by using a self-consistent Schr$\ddot{o}$dinger-Poisson solver. The calculated results suggest that vertical compressive stress is more efficient to maintain the strain-enhanced electron mobility than longitudinal tensile stress in high temperature condition.

• JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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• 제14권5호
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• pp.518-524
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• 2014

The substrate doping concentration dependence of strain-enhanced electron mobility in (110)/<110> nMOSFETs is investigated by using a self-consistent Schr$\ddot{o}$dinger-Poisson solver. The electron mobility model includes Coulomb, phonon, and surface roughness scattering. The calculated results show that, in contrast to (100)/<110> case, the longitudinal tensile strain-induced electron mobility enhancement on the (110)/<110> can be increased at high substrate doping concentration.

• 대한전자공학회논문지SD
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• 제42권3호
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• pp.9-16
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• 2005

[ $Si_{1-x}Ge_x$ ] 위의 Si 반전층에서의 이동도를 반전층에서의 양자현상(버금띠 에너지와 파동함수)과 완화시간어림셈을 고려하여 계산하였다. 반전층에서의 양자현상은 슈뢰딩거 방정식과 포아슨 방정식을 자체 모순없이 계산하여 얻었다 완화시간은 밸리내 산란과 밸리사이 산란을 고려하여 계산하였다. 그 결과 Ge 함량이 증가됨에 따라 이동도가 증가되는 이유는 4-폴드 밸리에 존재하는 전자의 이동도보다 2-폴드 밸리에 존재하는 전자의 이동도가 약 3배 정도 크며 대부분의 전자가 밸리의 분리에 의해 2-폴드 밸리에 존재하기 때문이라는 것을 알 수 있었다. 한편, 포논 산란만을 고려한 이동도를 실험치와 일치시키기 위하여 전체 이동도에는 반전층 계면에서의 산란과 쿨롱 산란을 포함시켰다. 계산된 전계, 온도, 그리고 Ge 함량에 의존하는 이동도는 실험치와 근접하도록 변형포텐셜을 설정하였으며 정확한 결과를 위해서는 Si 에너지띠의 비포물성을 고려해야함을 확인하였다.