$BCl_3$ 유도결합 플라즈마를 이용하여 식각된 $HfO_2$ 박막의 표면 반응 연구
(Surface reaction of $HfO_2$ etched in inductively coupled $BCl_3$ plasma)
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- 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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- 한국전기전자재료학회 2008년도 하계학술대회 논문집 Vol.9
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- pp.477-477
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- 2008