Recently, as display and semiconductor devices have been miniaturized and highly integrated, there is a demand for optimization of the structural characteristics of the thin film accordingly. The sputtering device has the advantage of stably obtaining a desired thin film depending on the material selected for the target. However, due to the structural characteristics of the sputtering equipment, the structural characteristics of the film may be different depending on the incidence angle of the sputtering target material to the substrate. In this study, the characteristics of the thin film material according to the scattering angle of the target material and the incidence position of the substrate were studied to find the optimization design rule of the sputtering equipment. To this end, a Si thin film of 1 ㎛ or less was deposited on the Si(100) substrate, and then the microstructure, reflectance, surface roughness, and thin film crystallinity of the thin film formed for each substrate location were investigated. As a result of the study, it was found that as the sputter scattering angle increased and the substrate incident angle decreased, the gap energy along with the surface structure of the thin film increased from 1.47 eV to 1.63 eV, gradually changing to a non-conductive tendency.
Optimal conditions for HA plasma spray-coating on Ti6Al4V alloy were investigated in order to obtain enhanced bone-bonding ability with Ti6Al4V alloy. The properties of plasma spray coated film were analyzed by SEM, XRD, surface roughness measurement, and adhesion strength test because the film's transformed phase and crystallinity were known to be influential to bone-bonding ability withTi6Al4V alloy. The films were formed by a plasma spray coating technique with various combinations of plasma power, spray distance, and auxiliary He gas pressure. The film properties were analyzed in order to determine the optimal spray coating parameters with which we will able to achieve enhanced bone-bonding ability with Ti6Al4V alloy. The most influential coating parameter was found to be the plasma spray distance to the specimen from the spray gun nozzle. Additionally, it was observed that a relatively higher film crystallinity can be obtained with lower auxiliary gas pressure. Moderate adhesion strength can be achievable at minimal plasma power. That is, adhesion strength is minimally dependent on the plasma power. The combination of shorter spray distance, lower auxiliary gas pressure, and moderate spray power can be recommended as the optimal spray conditions. In this study, optimal plasma spray coated films were formed with spray distance of 70 mm, plasma current of 800 A, and auxiliary gas pressure of 60 psi.
The characteristics of indium tin oxide (ITO) thin film deposited on polyethersulfone (PES) film by low temperature E beam has been studied for the flexible photovoltaic devices. It was found that the substrate temperature in the deposition process affected the crystallization behavior of ITO during the post low temperature annealing process. Higher substrate temperature resulted in the increase of crystallinity of annealed ITO. Consequently, the lowering of sheet resistivity and better transmittance were obtained. Crystallization of ITO during the annealing process was facilitated by using oxygen gas in the deposition process and resulted in the enhancement on sheet resistivity and transmittance of ITO. The surface roughness of PES film prohibited the crystallization of ITO during the annealing process and it caused the increase of sheet resistivity and the decrease of transmittance of ITO.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.22
no.4
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pp.290-296
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2009
$Bi_{4}Ti_{3}O_{12}$ (BiT) thin films were grown on the Pt/Ti/$SiO_2$/si substrate using a metal organic decomposition (MOD) method. Effects of oxygen annealing on the structural properties and dielectric properties of the BiT thin films were investigated. The BiT films were well developed when rapid thermal annealed at $>500^{\circ}C$ in oxygen ambient. For the film annealed at $700^{\circ}C$, no crystalline phase was observed under oxygen free annealing atmosphere while its crystallinity was significantly enhanced as the oxygen pressure increased. The BiT film also exhibited a smooth surface with defect free grains. A high dielectric constant and a low dielectric loss were achieved satisfactory in the frequency range from 75 kHz to 1 MHz. Especially, the BiT film, annealed at $700^{\circ}C$ and 10 torr oxygen pressure, showed good dielectric properties: dielectric constant of 51 and dielectric loss of 0.2 % at 100 kHz. Its leakage current was also considerably improved, being as $0.62\;nA/cm^2$ at 1 V. Therefore, it is considered that the oxygen annealing has effects on an enhancement of crystallinity and dielectric properties of the BiT films.
Nanosized $WO_3$ powders were synthesized by the sol-precipitation process using $WCl_{6}$ as the starting material, ethanol as a solvent and $NH_4$OH solution as a precipitant, followed by a washing-drying treatment and calcination. The effects on the powder crystallinity and microstructure of calcination temperature were investigated with XRD and FE-SEM. The $WO_3$ powders calcined at $500^{\circ}C$ and $700^{\circ}C$ showed good crystallinity and their mean particle size was 30nm and 70nm, respectively. These powders were used for the preparation of pastes which were printed as thick films on alumina substrates with comb-type Pt electrodes. The particle size strongly influenced the $NO_2$ gas sensing property of the thick films. A significant reduction in the $NO_2$ sensitivity was observed for the film prepared from larger particle size, having thus a larger grain size. For the film having a smaller grain size, on the other hand, the higher $NO_2$ sensitivity was observed and the sensitivity increased with $NO_2$ concentration.
Kim, Byeong-Joo;Deka, Biplab K.;Kang, Gu-Hyuk;Hwang, Sang-Ha;Park, Young-Bin;Jeong, In-Chan;Choi, Dong-Hyuk;Son, Dong-Il
Composites Research
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v.26
no.4
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pp.254-258
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2013
Polypropylene films reinforced with multi-walled carbon nanotubes and exfoliated graphite nanoplatelets were fabricated by extrusion, and the effects of filler type and take-up speed on the mechanical properties and microstructure of composite films were investigated. Differential scanning calorimetry revealed that the addition of carbon nanomaterials resulted in increased degree of crystallinity. However, increasing the take-up speed reduced the degree of crystallinity, which indicates that tension-induced orientations of polymer chains and carbon nanomaterials and the loss of degree of crystallinity due to rapid cooling at high take-up speeds act as competing mechanisms. These observations were in good agreement with tensile properties, which are governed by the degree of crystallinity, where the C-grade exfoliated graphite nanoplatelet with a surface area of $750m^2/g$ showed the greatest reinforcing effect among all types of carbon nanomaterials used. Scanning electron microscopy was employed to observe the carbon nanomaterial dispersion and orientation, respectively.
Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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v.8
no.1
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pp.64-72
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1998
In this work, we have investigated the change of surface roughness, grain size and crystallinity of Poly-$Si_{1-x}Ge_x$ films deposited with the variation of deposition parameters (temperature, pressure, Ge composition ) and the effect of these results on the electrical resistivity. The crystallinity and the grain size were increased with increasing deposition temperature and Ge composition. Also, the electrical resistivity was decreased by enhanced grain size, while the surface roughness was increased. With increasing deposition pressure, the crystallinity was increased, but the grain size and the cluster size were decreased, by which the surface roughness was decreased. And the electrical resistivity was increased. Based on the effect of the crystallinity and the grain size on the electrical resistivity, it was founded that the electrical resistivity was depend on the grain size rather than the crystallinity.
Kook, J.H.;Huh, M.Y.;Yang, H.;Shin, D.H.;Park, D.H.;Nah, C.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2007.06a
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pp.215-216
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2007
Semiconducting layers are thin rubber film between electrical cable wire and insulating polymer layers having a volume resistivity of ${\sim}10^2{\Omega}cm$. A new semiconducting material was suggested in this study based on the carbon nanotube(CNT)-reinforced polymer nanocomposites. CNT-reinforced polymer nanocomposites were prepared by solution mixing with various polymer type and dual filler system. The mechanical, thermal and electrical properties were investigated as a function of polymer type and dual filler system based on CNT and carbon black. The volume resistivity of composites was strongly related with the crystallinity of polymer matrix. With decreased crystallinity, the volume resistivity decreased linearly until a critical point, and it remained constant with further decreasing the crystallinity. Dual filler system also affected the volume resistivity. The CNT-reinforced nanocomposite showed the lowest volume resistivity. When a small amount of carbon black(CB) was replaced the CNT, the crystallinity increased considerably leading to a higher volume resistivity.
Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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v.12
no.6
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pp.299-303
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2002
The relationship of crystallinity between defects distribution with (100) ZnTe/GaAs using HWE growth was investigated by four crystal rocking curve (FCRC) and transmission electron microscopy (TEM). The thickness dependence of crystal quality in ZnTe epilayer was evaluated. The FWHM value shows a strong dependence on ZnTe epilayer thickness. For the films thinner than 6 ${\mu}{\textrm}{m}$, the FWHM value decreases very steeply as the thickness increases. For the films thicker than 6 ${\mu}{\textrm}{m}$, it becomes an almost constant value. At the thickness of 12 $\mu\textrm{m}$ with the smallest value of 66 arcsec. which is the best value so far reported on ZnTe epilayers was obtained. Investigation into the nature and behavior of dislocations with film thickness in (100) ZnTe/(100)GaAs heterostructures grown by Hot Wall Epitaxy (HWE). This film defects range from interface to 0.7 ${\mu}{\textrm}{m}$ thickness was high density, due to the large lattice mismatch and thermal expansion coefficients. The thickness of 0.7~1.8 ${\mu}{\textrm}{m}$ was exists low defect density. In the thicker range than 1.8 ${\mu}{\textrm}{m}$ thickness was measured hardly defects.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.27
no.6
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pp.350-355
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2014
Bottom-gate tin oxide ($SnO_2$) thin film transistors (TFTs) were fabricated on $N^+$ Si wafers used as gate electrodes. 60-nm-thick $SnO_2$ thin films acting as active layers were sputtered on $SiO_2/Al_2O_3$ films. The $SiO_2/Al_2O_3$ films deposited on the Si wafers were employed for gate dielectrics. In order to increase the resistivity of the $SnO_2$ thin films, oxygen mixed with argon was introduced into the chamber during the sputtering. The mobility of $SnO_2$ TFTs was measured as a function of the flow ratio of oxygen to argon ($O_2/Ar$). The mobility variation with $O_2/Ar$ was analyzed through studies on crystallinity, oxygen binding state, optical properties. X-ray diffraction (XRD) and XPS (X-ray photoelectron spectroscopy) were carried out to observe the crystallinity and oxygen binding state of $SnO_2$ films. The mobility decreased with increasing $O_2/Ar$. It was found that the decrease of the mobility is mainly due to the decrease in the polarizability of $SnO_2$ films.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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