• Journal of the Korean Wood Science and Technology
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• 제29권4호
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• pp.97-102
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• 2001

약 25년 생 잣나무 수피 추출물중 EtOAc용해분에 함유된 화합물을 단리 동정하였다. 화합물의 단리는 Sephadex-LH20과 TSK-gel HW-40F를 충전제로 한 Column chromatography로 하였다. 단리된 화합물의 구조동정은 $^1H{\cdot}^{13}C$-NMR, HMQC, HMBC등과 $FAB^+$ MS 등을 이용하여 결정하였다. 새로이 동정된 화합물은 Z-pinostilbenoside, E-desoxyrhaponticin, 그리고 E-resveratroloside 등이었다.

• Mass Spectrometry Letters
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• 제2권1호
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• pp.8-11
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• 2011

Two types of glycerolipids [monoacylglycerols (MAG) and cyclitols] were isolated by reversed phase high-performance liquid chromatography from the methanol extracts of a marine sponge, and analyzed by fast atom bombardment mass spectrometry (FAB-MS) in positive-ion mode. FAB mass spectra of these compounds yielded protonated molecules $[M + H]^+$ and abundant sodiated molecules $[M + Na]^+$ from a mixture of 3-nitrobenzyl alcohol and NaI. The structures of these compounds were elucidated by FAB-collisional-induced dissociation (CID)-tandem mass spectrometry. We carried out collision-indused dissociation (CID) of these lipids in B/E-linked scan mode. The CID B/E-linked scan of $[M + H]^+$ and $[M + Na]^+$ precursor ions resulted in the formation of numerous characteristic product ions through a series of dissociative processes. The product ions formed by charge-remote fragmentation (CRF) provided important information for the identification of the acyl chain structure substituted at the glycerol backbone. Some of the product the ions were diagnostic for the presence of a glycerol backbone or acyl chain structure.

• Journal of Microbiology and Biotechnology
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• 제7권5호
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• pp.299-304
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• 1997

Expression in the periplasm of Escherichia coli of cloned heavy and light chain cDNAs for Fab fragment of a murine monoclonal antibody MabB9 (${\gamma}2b$, K), specific for human plasma apolipoprotein B-100 of LDL, was studied. For the purpose, a vector for two-cistronic expression of the heavy chain cDNA, at the 5' terminus, and light chain cDNA, at the 3' terminus, was constructed using the signal sequences, pelB (for heavy chain) and ompA (for light chain) in a pET vector system. The constructed vector was transformed into E. coli BL21(DE3). The expressed heavy chain (25 kDa) and light chain (23 kDa) of the antibody molecule were detected in total cell extracts as well as in the periplasmic extracts of E. coli.

• KSBB Journal
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• 제15권5호
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• pp.482-488
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• 2000

유전자 재조합 대장균을 이용하여 pyruvate dehydrogenase complex-E2 특이성 인간 모노클론 항체의 Fab부분이 생산되 었다. 재조합 대장균의 고밀도 배양과 이를 통한 재조합 인 간 항체의 고생산성을 확보하기 위한 최적 전략을 개발하기 위해 포도당과 초산의 영향에 대해 조사하였다. 포도당의 농 도가 높을수록 세포의 성장속도는 빨라지고 포도당의 소모속 도도 빨라짐을 알 수 있었다, 이때 포도당의 소모속도가 빨 라질수록 초산의 대사 부산물로서의 생성속도도 빨라졌다. 그러나 포도당이 고갈되면 일단 축적된 초산은 에너지원으로 소모되기 시작하고 이때의 소모속도는 배지내의 포도당의 농 도에 의존함을 알 수 있었다. 즉 초기 포도당의 농도가 어느 정도 높아 잔존 포도당의 농도가 높은 경우, 초산의 생성 속 도는 높고 에너지원으로 소모되는 속도는 느려져서 초산의 축적현상이 기하급수적으로 증가한다. 이렇게 높은 포도당 농도에 따라 축적된 초산은 항체 생산을 저해하였고, 저해를 위한 임계 초산 농도는$0.6g/\ell$이었다. 발현에 의해 항체를 생산하는 시기에서는, 포도당 농도가 높을수록 세포성장이 증대되나 초산에 의 한 저해 현상 및 catabolic repression의 영 향으로 항체 생산이 감소하였다. 따라서 발현 후 항체의 생산을 증진시키기 위해서는 포도당과 초산의 농도를 가능한 한 낮게 유지하는 것이 중요하다. 그러므로 고말도 배양과 재조합 인간 항체의 높은 생산성을 확보하기 위해서는 배양 액내의 포도당과 초산의 농도를 정밀하게 조절하는 것이 절실히 요구된다.

• 생명과학회지
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• 제11권5호
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• pp.483-488
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• 2001

최근 다양한 분야에서 생물학적 제제개발에 관한 연구가 활발한다. 본 연구에서는 생물학적 제제개발을 위한 일련의 연구로 Pseudomonas aeruginosa KLP-2가 생산하는 항균성 물질을 동정하고, 생리화학적 특성을 확인하였다. 본 항균성 물질을 전제하여 FAB-MS로 확인한 결과 pyocyanine으로 동정되었으며, 진청색의 needles 성상을 나타내었고 chloroform, methanol, ethyl acetate와 같은 용매에 높은 용해도를 나타내었다. Pyocyanine의 UV spectrum은 methanol에서 최대 흡광치(318 nm)를 보였고, FAB-MS로 확인한 결과 m/z 211에서 protonated molecular ion(M+H)$^{+}$ 이 관찰되었으며, 분자식은 $C_{13}$H$_{10}$ N$_{2}$O로 확인되었다. Pyocyanine 은 Bacillus cereus, Bacillus subtilis, Micrococcus luteus, Rodococcus equi, Staphylococcus aureus, Streptococcus faecalis, E. coli. Kegionella peneumophila, Shigella flexneri, Shigela boydii, Shigella sonnei, NAG Vibro cholerae, Vibrio parahaemolyticus, Vibro vulnificus, Yersinia enterocolitica 및 Saccharomyces cerevisiae 등의 다양한 세균에 대하여 항균활성을 보여 비교적 넓은 항균범위를 나타내었으며, 특히 Legionella pneumophila에 대하여 0.5$\mu$g의 pyocyanine을 함유한 disk가 48mm의 억제환을 타나내어 가장 높은 항균활성을 보였다.

• 한국생물공학회:학술대회논문집
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• 한국생물공학회 2000년도 추계학술발표대회 및 bio-venture fair
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• pp.187-190
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• 2000

본 연구는 5가지의 발광성 미생물을 이용하여 유해 방사선으로 알려져 있는 ${\gamma}-rays$가 여러가지 cellular stresses 중, 특히 유전자 손상과 생물막 손상을 유발하였는데, 이들의 손상 정도가 총 방사선량과 상관관계가 있음을 발생하는 bioluminescence 로써 확인하였다. 뿐만 아니라, 선량률의 변화를 통하여 방사선으로 인한 유전자 손상 및 일반적인 독성 효과가 큰 영향을 받는 것을 확인하였는데, 선량률 증가에 따라 이들 손상정도가 증가하는 것으로 보아 선량률이 genetic 및 radioprotecion에 심각한 영향을 미치는 것을 확인하였다.

• Archives of Pharmacal Research
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• 제12권4호
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• pp.257-258
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• 1989

Glutathione was converted by $HNO_2$ into a S-nitrosothiol which was stable in solution and atypically so even as a solid. FAB/MS and IR data have been obtained for the confirmation of structure of S-nitrosogulathione in the crystalline state.

• 한국정밀공학회:학술대회논문집
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• 한국정밀공학회 2007년도 춘계학술대회 논문집
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• pp.185-186
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• 2007

• Transactions on Electrical and Electronic Materials
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• 제11권4호
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• pp.190-193
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• 2010

This report covers an effective fabrication method of graphene nanoribbon for top-gated field effect transistors (FETs) utilizing electron beam lithography with a bi-layer resists (XR-1541/poly methtyl methacrylate) process. To improve the variation of the gating properties of FETs, the residues of an e beam resist on the graphene channel are successfully taken off through the combination of reactive ion etching and a lift-off process for the XR-1541 bi-layer. In order to identify the presence of graphene structures, atomic force microscopy measurement and Raman spectrum analysis are performed. We believe that the lift-off process with bi-layer resists could be a good solution to increase gate dielectric properties toward the high quality of graphene FETs.

• 센서학회지
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• 제24권1호
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• pp.10-14
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• 2015

This paper reports the results of a study on the optimization of the etching profile, which is an important factor in deep-reactive-ion etching (DRIE), i.e., dry etching. Dry etching is the key processing step necessary for the development of the Internet of Things (IoT) and various microelectromechanical sensors (MEMS). Large-area etching (open area > 20%) under a high-frequency (HF) condition with nonoptimized processing parameters results in damage to the etched sidewall. Therefore, in this study, optimization was performed under a low-frequency (LF) condition. The HF method, which is typically used for through-silicon via (TSV) technology, applies a high etch rate and cannot be easily adapted to processes sensitive to sidewall damage. The optimal etching profile was determined by controlling various parameters for the DRIE of a large Si wafer area (open area > 20%). The optimal processing condition was derived after establishing the correlations of etch rate, uniformity, and sidewall damage on a 6-in Si wafer to the parameters of coil power, run pressure, platen power for passivation etching, and $SF_6$ gas flow rate. The processing-parameter-dependent results of the experiments performed for optimization of the etching profile in terms of etch rate, uniformity, and sidewall damage in the case of large Si area etching can be summarized as follows. When LF is applied, the platen power, coil power, and $SF_6$ should be low, whereas the run pressure has little effect on the etching performance. Under the optimal LF condition of 380 Hz, the platen power, coil power, and $SF_6$ were set at 115W, 3500W, and 700 sccm, respectively. In addition, the aforementioned standard recipe was applied as follows: run pressure of 4 Pa, $C_4F_8$ content of 400 sccm, and a gas exchange interval of $SF_6/C_4F_8=2s/3s$.