• 제목/요약/키워드: exposure algorithm

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홀로그래픽 저장장치의 각/프랙탈 다중화 방식에서 균일한 회절 효율을 위한 기록 시간 분배 (The exposure-time schedule for uniform diffraction efficiency in angle/fractal multiplexing of holographic data storage)

  • 이재성;최진영;박영필;양현석;박노철
    • 정보저장시스템학회:학술대회논문집
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    • 정보저장시스템학회 2005년도 추계학술대회 논문집
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    • pp.139-144
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    • 2005
  • Because of the photorefractive recording dynamics, each newly recorded hologram partially erases all previously stored image. Thus achieving the desired diffraction efficiency profile for the entire sequence after all images have been recorded requires exposure time schedule. The often cited classical exposure-schedule model predicts a rising-exponential build-up and an exponential decay in An with an exposure time. However because we cannot directly measure the An, it's difficult to establish the relation of both. In this paper, we deduce the relation of diffraction efficiency and exposure time from experiment data and suggest an algorithm to make time schedule profile in angle/fractal multiplexing of holographic data storage. After that, we present simulated result with equal hologram diffraction efficiency for a sequence of 250 holograms recorded by angle/fractal multiplexing.

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A Control Algorithm for Wafer Edge Exposure Process

  • Park, Hong-Lae;Joon Lyou
    • 제어로봇시스템학회:학술대회논문집
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    • 제어로봇시스템학회 2002년도 ICCAS
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    • pp.55.4-55
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    • 2002
  • In the semiconductor fabrication, particle contamination is wide-spread and one of major causes to yield loss. Extensive testing has revealed that even careful handling of wafers during processing may cause photo-resist materials to flake off wafer edges. So, to remove the photo-resist at the outer 5mm of wafers, UV(Ultraviolet) rays are exposed. WEE (Wafer Edge Exposure) process station is the system that exposes the wafer edge as prespecified by controlling the positioning mechanism and maintaining the light intensity level In this work, WEE process station has been designed so as to significantly lower the amount of particle contamination which occurs even during the most r...

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모바일 카메라를 위한 자동노출 알고리즘의 하드웨어 구현 (Hardware Implementation of Automatic Exposure Algorithm for Mobile Camera)

  • 모성욱;박현상
    • 한국산학기술학회:학술대회논문집
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    • 한국산학기술학회 2009년도 춘계학술발표논문집
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    • pp.303-306
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    • 2009
  • 자동노출(auto exposure)는 피사체나 광원의 밝기에 변화에 대응하여 카메라로부터 취득된 영상의 노출치를 일정하게 유지시켜주는 기능을 나타내며, 모바일 카메라의 핵심 구성 요소 중의 하나이다. 일반적으로 자동노출 알고리즘은 소프트웨어로 구현되기 때문에, 모바일 카메라 시스템에는 CPU와 소프트웨어를 저장하기 위한 ROM을 내장하는 형태를 가지는데, 이는 유연성을 확보하는 대신 CPU와 메모리라는 비용증가로 이어지게 된다. 본 논문에서는 모바일 카메라를 위하여 임의의 프레임 레이트 가변기능과 아날로그 게인 조정이 가능한 자동 노출 알고리즘을 제안하고, 이에 대한 하드웨어 구조를 제안한다.

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LCD 표면의 렌즈 스캔 얼룩 검출 기법 (Detection of Lens Scan Alluk on LCD Surface)

  • 신지영;김정태
    • 대한전기학회논문지:시스템및제어부문D
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    • 제55권12호
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    • pp.547-549
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    • 2006
  • We have proposed a novel algorithm for detecting scan alluk on the surface of a TFT-LCD device that is generated by non-uniform exposure during fabrication. The scan alluk is known to have similar intensity values on paths that are determined by the shape of lens for light exposure. Based on the observation, the proposed algorithm inspects the uniformity on the paths using 1D projection image of 2D LCD image and 2D backprojection image of the 1D image. We have shown the usefullness of the proposed method by theoretical analysis and experimental results.

소형화된 디지털카메라의 AE 시스템 개선에 관한 연구 (A Study of Improved Auto Exposure System for Digital Still Camera Using Fuzzy Logic)

  • 조선호;이상용;탁인재;박종국
    • 제어로봇시스템학회논문지
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    • 제13권8호
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    • pp.798-803
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    • 2007
  • In case of minimized digital camera and mobile digital camera, it's difficult to get the high quality image by conventional AE(Auto Exposure) algorithm because of restriction of system organization. In this paper, a new algorithm that adopts a target setting, a compensation of feedback delay and a gamma correction, etc, are suggested for improving a noise increase and an output sensitivity decrease due to system minimization. We also suggest a method using fuzzy logic which can decide more effectively the ES(Electric Shutter) value and the AGC(Analog Gain Control) value than conventional system.

압착단자의 자동검사를 위한 시각인식 알고리즘 (A Machine Vision Algorithm for Inspecting a Crimpled Terminal)

  • 이문규;이정화
    • 산업공학
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    • 제11권1호
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    • pp.191-197
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    • 1998
  • This paper describes a machine vision algorithm for inspecting a crimpled terminal. The crimpled terminal is one of wire harness assemblies which transmit current or signals between a pair of electrical or electronic assemblies. The major defect considered is wire exposure on wire barrels. To detect the wire exposure, we develope a multi-layer perceptron in which three features extracted from the image of the crimpled terminal are used as input data. The three features are edginess, variance, and total number of valley points(TVP). The multi-layer neural network has been successfully tested on a number of real specimens collected from a wire-harness factory.

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Development of a New Personal Magnetic Field Exposure Estimation Method for Use in Epidemiological EMF Surveys among Children under 17 Years of Age

  • Yang, Kwang-Ho;Ju, Mun-No;Myung, Sung-Ho;Shin, Koo-Yong;Hwang, Gi-Hyun;Park, June-Ho
    • Journal of Electrical Engineering and Technology
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    • 제7권3호
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    • pp.376-383
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    • 2012
  • A number of scientific researches are currently being conducted on the potential health hazards of power frequency electric and magnetic field (EMF). There exists a non-objective and psychological belief that they are harmful, although no scientific and objective proof of such exists. This possible health risk from ELF magnetic field (MF) exposure, especially for children under 17 years of age, is currently one of Korea's most highly contested social issues. Therefore, to assess the magnetic field exposure levels of those children in their general living environments, the personal MF exposure levels of 436 subjects were measured for about 6 years using government funding. Using the measured database, estimation formulas were developed to predict personal MF exposure levels. These formulas can serve as valuable tools in estimating 24-hour personal MF exposure levels without directly measuring the exposure. Three types of estimation formulas were developed by applying evolutionary computation methods such as genetic algorithm (GA) and genetic programming (GP). After tuning the database, the final three formulas with the smallest estimation error were selected, where the target estimation error was approximately 0.03 ${\mu}T$. The seven parameters of each of these three formulas are gender (G), age (A), house type (H), house size (HS), distance between the subject's residence and a power line (RD), power line voltage class (KV), and the usage conditions of electric appliances (RULE).

Conditional Expectation을 이용한 영상의 노출 보정 (Image Exposure Compensation Based on Conditional Expectation)

  • 김동식;이수연
    • 대한전자공학회논문지SP
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    • 제42권6호
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    • pp.121-132
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    • 2005
  • 사진기에서 고품질의 영상을 획득하기 위해서는 적절히 노출 시간을 조절하게 되는데 이로 인해 각각 독립적으로 얻어진 영상들의 노출 시간은 서로 달라진다. 이는 여러 영상의 열을 정렬하는 과정 등에서 부정확한 결과를 초래할 수 있으므로 영상들의 노출 시간을 동일하게 맞추어 줄 필요가 있다. 그런데, 노출 시간을 알지 못하는 경우에는, 하나의 영상을 기준으로 다른 영상들의 상대적 노출 시간을 추정하고 보정하는 알고리즘에 대한 연구가 필요하다. 본 논문에서는, 사진기의 모델 함수를 고려할 필요 없는, 최소 오류 개념에서 최적의 예측기인 conditional expectation을 사용하여 노출 보정을 시도하였다. 나아가서, 불규칙한 노출 또는 히스토그램 특성을 위한 적응 노출 보정 기법을 제안하였다. 이때 blocking artifact 및 overfitting 등의 문제를 완화시키기 위한 인접의 화소를 사용하는 기법을 도입하였다. 디지털 사진기 및 투과전자현미경을 통하여 얻어진 실제 영상을 사용한 모의실험을 통하여 성공적인 노출 보정 수행을 확인할 수 있었다.

자이로 센서와 노출시간이 다른 두 장의 영상을 이용한 비균일 디블러 기법 (Non-uniform Deblur Algorithm using Gyro Sensor and Different Exposure Image Pair)

  • 류호형;송병철
    • 방송공학회논문지
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    • 제21권2호
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    • pp.200-209
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    • 2016
  • 본 논문에서는 촬영 시 발생하는 블러 현상을 효율적으로 제거하기 위해 IMU 센서와 노출시간이 길고, 짧은 두 영상을 이용한 비균일 디블러 알고리즘을 제안한다. 종래 센서 정보를 이용한 블러 커널 추정 기법들은 센서 정보의 한계로 인해 성능이 만족스럽지 못하다. 그 한계를 극복하기 위해 우리는 노출시간이 서로 다른 여러 영상들을 이용한 커널 개선 과정을 제안하여, 추정된 커널의 정확도를 향상시킨다. 또한 종래 비균일 디블러 기법들이 블러 커널이 커질수록 심한 화질 열화를 겪는 문제점을 해결하기 위해 본 논문은 호모그래피 기반 잔여 디콘볼루션을 제안하여 디콘볼루션 과정에서 발생하는 링형 현상과 같은 화질 열화를 최소화한다. 실험 결과를 통해 제안 알고리즘의 화질이 기존 기법에 비해 주관적/객관적으로 현저하게 우수함을 볼 수 있다.

다중 노출 영상을 이용한 영상의 화질 개선 알고리즘의 실시간 하드웨어 설계 (Real-Time Hardware Design of Image Quality Enhancement Algorithm using Multiple Exposure Images)

  • 이승민;강봉순
    • 한국정보통신학회논문지
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    • 제22권11호
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    • pp.1462-1467
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    • 2018
  • 단일 노출 영상, 또는 다중 노출 영상을 사용하여 저조도 영상의 화질 개선 알고리즘이 수많이 연구되고 있다. 저조도 영상은 명암이 낮고, 잡음이 많아 피사체의 정보를 식별하기에 한계가 있다. 본 논문에서는 듀얼카메라로 촬영한 다중 노출 영상 2개를 이용하여 저조도 영상의 화질 개선하는 알고리즘의 하드웨어 설계를 제안한다. 제안하는 하드웨어 구조는 전달함수를 사용하여 프레임 메모리와 라인 메모리를 쓰지 않는 방식으로 실시간 처리로 설계되었다. 그리고 제안하는 하드웨어 설계는 Verilog로 설계했고, Modelsim을 사용하여 검증했다. 마지막으로 Xilinx사의 xc7z045-2ffg900을 목표 보드로 이용하여 FPGA를 구현했을 때 최대 동작 주파수 167.617MHz로 확인하였고, 영상 크기가 $1920{\times}1080$ 일 때, 소요된 총 클럭 사이클은 2,076,601이며 80.7fps로 실시간 처리가 가능하다.