Coulomb drag is an effective probe into interlayer interaction between two electron systems in close proximity. For example, it can be a measure of momentum, phonon, or energy transfer between the two systems. The most exotic phenomenon would be when bosonic indirect excitons (electron-hole pairs) are formed in double layer systems where electrons and holes are populated in the opposite layers. In this review, we present various drag phenomena observed in different double layer electron systems, e.g. GaAs/AlGaAs heterostructures and two-dimensional material based heterostructures. In particular, we address the different behavior of Coulomb drag depending on its origin such as momentum or energy transfer between the two layers and exciton condensation. We also discuss why it is difficult to achieve electron-hole pairs in double layer electron systems in equilibrium.
The double nitride layer Metal Nitride Oxide Semiconductor(MNOS) structures were fabricated by variating both gas ratio and nitride thickness, and by duplicating nitride deposited and one nitride layer MNOS structure to improve nonvolatile memory characteristics of MNOS structures by Low Pressure Chemical Vapor Deposition(LPCVD) method. The nonvolatile memory characteristics of write-in, erase, memory retention and degradation of Bias Temperature Stress(BTS) were investigated by the homemade automatic .DELTA. $V_{FB}$ measuring system. In the trap density double nitride layer structures were higher by 0.85*10$^{16}$$m^{-2}$ than one nitride layer structure, and the AVFB with oxide field was linearly increased. However, one nitride layer structure was linearly increased and saturated above 9.07*10$^{8}$ V/m in oxide field. In the erase behavior, the hole injection from silicon instead of the trapped electron emission was observed, and also it was highly dependent upon the pulse amplitude and the pulse width. In the memory retentivity, double nitrite layer structures were superior to one nitride layer structure, and the decay rate of the trapped electron with increasing temperature was low. At increasing the number on BTS, the variance of AVFB of the double nitride layer structures was smaller than that of one nitride layer structure, and the trapped electron retention rate was high. In this paper, the double nitride layer structures were turned out to be useful in improving the nonvolatile memory characteristics.
MgO has been used as the material of the protecting layer for AC PDP. AC PDP is influenced by characteristics of the surface glow discharge on the MgO thin film. Because MgO thin film is practically discharge electrodes, the discharge characteristics of MgO thin film should be varied with the method of deposition. In this study, changing order and time of deposition, we use electron beam evaporation system and R.F reactive magnetron sputtering system in the MgO deposition. Particularly, after using electron beam evaporation system, we use R.F. reactive magnetron sputtering system in the MgO deposition, then we could get lower amount of charge and higher luminance efficiency than only using electron beam evaporation system.
In this study, we have fabricated pure titanium (Ti)/hydroxyapatite (HA) double layer coating on medical grade PEEK from magnetron sputtering system, an investigation was performed whether the surface can be had more improve bio-active for orthopedi/dental applications than that of non-coated one. Pure Ti and HA coating layer were obtained by a radio-frequency and direct current power magnetron sputtering system. The microstructures surface, mechanical properties and wettability of the pure Ti/HA double layer deposited on the PEEK were analyzed by scanning electron microscopy (SEM), energy dispersive X-ray spectroscopy (EDS), X-ray diffraction (XRD), nano-indentation, and contact angle test. According to the EDS and XRD results, the composition and crystal structure of pure Ti and HA coated surface were verified. The elastic modulus and hardness value were increased by pure Ti and HA coating, and the pure Ti/HA double layer coating surface has the highest value. The contact angle showed higher value for pure Ti/HA double layered coating specimens than that of non-coated (PEEK) surface.
Fluorine-doped $SnO_2$ (FTO) thin film/Ag nanowire (NW) double layers were fabricated by means of spin coating and ultrasonic spray pyrolysis. To investigate the optimum thickness of the FTO thin films when used as protection layer for Ag NWs, the deposition time of the ultrasonic spray pyrolysis process was varied at 0, 1, 3, 5, or 10 min. The structural, chemical, morphological, electrical, and optical properties of the double layers were examined using X-ray diffraction, X-ray photoelectron spectroscopy, field-emission scanning electron microscopy, transmission electron microscopy, the Hall effect measurement system, and UV-Vis spectrophotometry. Although pure Ag NWs formed isolated droplet-shaped Ag particles at an annealing temperature of $300^{\circ}C$, Ag NWs covered by FTO thin films maintained their high-aspect-ratio morphology. As the deposition time of the FTO thin films increased, the electrical and optical properties of the double layers degraded gradually. Therefore, the double layer fabricated with FTO thin films deposited for 1 min exhibited superb sheet resistance (${\sim}14.9{\Omega}/{\Box}$), high optical transmittance (~88.6 %), the best FOM (${\sim}19.9{\times}10^{-3}{\Omega}^{-1}$), and excellent thermal stability at an annealing temperature of $300^{\circ}C$ owing to the good morphology maintenance of the Ag NWs covered by FTO thin films.
본 연구에서는 헥사 메틸렌 테트라민을 촉매로 사용하여 이소프로판올에서 레소시놀과 퍼푸랄을 졸-겔 중축합한 후 이소프로판올 동결 건조 조건에서 유기 겔을 직접 건조시킨 후 질소 분위기에서 탄화시켜 탄소 에어로겔을 제조하였다. 탄소 에어로겔의 제조 조건은 퍼푸랄에 대한 레소시놀의 몰비를 변경하여 조사하였다. 탄소에어로겔의 기공 구조에 대한 제조조건의 영향은 질소 흡착 등온선에 의해 고찰하였다. 탄소 에어로겔의 특성은 주사전자현미경과 적외선 분광법을 가지고 측정하였다. 전기 이중층 커패시터에서 전극으로서의 탄소 에어로겔의 기공 접근성과 성능을 전기 화학적으로 고찰하였다. 결과적으로 BET 표면적과 비용량은 R/C 비율에 따라 증가하였으며, 765 ㎡/g 및 132 F/g의 최대 값은 각각 R/C 비율 200에서 달성되었다. 결론적으로 R/C 비율을 높이면 CA 전극의 평균 기공 크기가 증가하여 시스템의 속도 성능이 향상됨을 확인하였다.
Nonlinear dynamical behaviors in thermionic low pressure discharge are investigated using a particle-in-cell(PIC) simulation. An electrostatic PIC code is developed to model the plasma discharge system including the kinetic effects. The elastic collision, excitation collision, ionization collision, and electron-ion recombination collision are considered in this code. The generated electrons and ions are traced to analyze physical characteristics of the plasma. The simulation results show that the nonlinear oscillation structures are observed for cold plasma in the system and the similar structures are observed for warm plasma with a shift in values of the bifurcation parameter. The detailed oscillation process can be subdivided into three distinct mode; anode-glow, temperature-limited, and double-layer modes.
A method of preparation of magnetite nanoparticles in ordered systems, as in vesicle and microemulsion, consisting of soybean lecithin and water has been introduced. The size of magnetite grain was controlled by the content of soybean lecithin and size of liposomes in the systems. It was found by experiment that magnetite nanoparticles were formed inside the double layer vesicles. The magnetite nanoparticles were separated by magnetic separation and centrifugation and the dispersion of the magnetite nanoparticles prepared at 10% (w/w) soybean lecithin was particularly stable. The formation of pure magnetite nanoparticles was confirmed by analyses of XRD and electron diffraction pattern.
KIM, JEONG DONG;AHN, SANGJOON;LEE, YONG DEOK;PARK, CHANG JE
Nuclear Engineering and Technology
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제47권3호
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pp.380-387
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2015
A lead slowing-down spectrometer (LSDS) system is a promising nondestructive assay technique that enables a quantitative measurement of the isotopic contents of major fissile isotopes in spent nuclear fuel and its pyroprocessing counterparts, such as $^{235}U$, $^{239}Pu$, $^{241}Pu$, and, potentially, minor actinides. The LSDS system currently under development at the Korea Atomic Energy Research Institute (Daejeon, Korea) is planned to utilize a high-flux ($>10^{12}n/cm^2{\cdot}s$) neutron source comprised of a high-energy (30 MeV)/high-current (~2 A) electron beam and a heavy metal target, which results in a very intense and complex radiation field for the facility, thus demanding structural shielding to guarantee the safety. Optimization of the structural shielding design was conducted using MCNPX for neutron dose rate evaluation of several representative hypothetical designs. In order to satisfy the construction cost and neutron attenuation capability of the facility, while simultaneously achieving the aimed dose rate limit (< $0.06{\mu}Sv/h$), a few shielding materials [high-density polyethylene (HDPE)eBorax, $B_4C$, and $Li_2CO_3$] were considered for the main neutron absorber layer, which is encapsulated within the double-sided concrete wall. The MCNP simulation indicated that HDPE-Borax is the most efficient among the aforementioned candidate materials, and the combined thickness of the shielding layers should exceed 100 cm to satisfy the dose limit on the outside surface of the shielding wall of the facility when limiting the thickness of the HDPE-Borax intermediate layer to below 5 cm. However, the shielding wall must include the instrumentation and installation holes for the LSDS system. The radiation leakage through the holes was substantially mitigated by adopting a zigzag-shape with concrete covers on both sides. The suggested optimized design of the shielding structure satisfies the dose rate limit and can be used for the construction of a facility in the near future.
New PPV derivatives which contain electron-withdrawing trifluoromethyl ($CF_3$) group, poly[2-(2-ethylhexyloxy)-5-(4-trifluoro methylphenyl)-1,4-phenylenevinylene] (EH$CF_3$P-PPV), and poly[2-(2-ethylhexyloxy)-5-(3,5-bis(trifluoromethyl)-phenyl)-1,4-phenylenevinylene] (EHB$CF_3$P-PPV), have been synthesized by GILCH polymerization. As the result of the introduction of the electron-withdrawing $CF_3$ group to the phenyl substituent, the LUMO and HOMO energy levels of EH$CF_3$P-PPV (2.8, 5.1 eV) and EHB$CF_3$P-PPV (3.0, 5.3 eV) were lower than those of known poly[2-(2-ethylhexyloxy)-5-phenyl-1,4-phenylenevinylene] (EHP-PPV) (2.6, 4.9 eV). These polymers have been used as the electroluminescent (EL) layers in double layer lightemitting diodes (LEDs) (ITO/PEDOT/polymer/Al). EH$CF_3$P-PPV, and EHB$CF_3$P-PPV show maximum photoluminescence (PL) peaks at ${\lambda}_{max}$ = 550, 539 nm, and maximum EL peak at ${\lambda}_{max}$ = 545, 540 nm, respectively. The current-voltage-luminance (I-V-L) characteristics of the polymers show that turn-on voltages of EH$CF_3$P-PPV and EHB$CF_3$P-PPV are around 4.0 and 3.5 V, respectively.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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