We report on the fabrication and characterization of self- and artificially-controlled ZnO nanostructures have been investigated to establish nanostructure blocks for ZnO-based nanoscale device application. Systematic realization of self- and artificially-controlled ZnO nanostructures on $SiO_2/Si$ substrates was proposed and successfully demonstrated utilizing metalorganic chemical vapor deposition (MOCVD) in addition with a focused ion beam (FIB) technique. Widely well-aligned two-dimensional ZnO nanodot arrays ($4{\sim}10^4$ nanodots of 130-nm diameter and 9-nm height over $150{\sim}150{\mu}m^2$ with a period of 750 nm) have been realized by MOCVD on $SiO_2/Si$ substrates patterned by FIB. A low-magnification FIB nanopatterning mode allowed the periodical nanopatterning of the substrates over a large area in a short processing time. Ga atoms incorporated into the surface areas of FIB-patterned nanoholes during FIB engraving were found to play an important role in the artificial control of ZnO, resulting in the production of ZnO nanodot arrays on the FIB-nanopatterned areas. The nanodots evolved into dot clusters and rods with increasing MOCVD growth time.
LCD-BLU (Liquid Crystal Display - Back Light Unit) is one of kernel parts of LCD unit and it consists of several optical sheets(such as prism, diffuser and protector sheets), LGP (Light Guiding Plate), light source (CCFL or LED) and mold frame. The LGP of LCD-BLU is usually manufactured by forming numerous dots with $50{\sim}200$ um in diameter on it by etching process. But the surface of the etched dots of LGP is very rough due to the characteristics of the etching process during the mold fabrication, so that its light loss is high along with the dispersion of light into the surface. Accordingly, there is a limit in raising the luminance of LCD-BLU. In order to overcome the limit of current etched dot patterned LGP, optical pattern design with 50um micro-lens was applied in the present study. The micro-lens pattern fabricated by modified LiGA with thermal reflow process was applied to the optical design of LGP. The attention was paid to the effects of different aspect ratio (i.e. $0.2{\sim}0.5$) of optical pattern conditions to the brightness distribution of BLU with micro-lens patterned LGP. Finally, high aspect ratio micro-lens patterned LGP showed superior results to the one made by low aspect ratio in average luminance.
LCD-BLU (Liquid Crystal Display - Back Light Unit) is one of kernel parts of LCD unit and it consists of several optical sheets(such as prism, diffuser and protector sheets), LCP (Light Guide Plate), light source (CCFL or LED) and mold frame. The LGP of LCD-BLU is usually manufactured by forming numerous dots with $50{\sim}200{\mu}m$ in diameter on it by erosion method. But the surface of the erosion dots of LGP is very rough due to the characteristics of the erosion process during the mold fabrication, so that its light loss is high along with the dispersion of light into the surface. Accordingly, there is a limit in raising the luminance of LCD-BLU. In order to overcome the limit of current dot patterned LGP, optical pattern design with $50{\mu}m$ micro-lens was applied in the present study. Especially, the negative and positive micro-lens pattern fabricated by modified LiGA with thermal reflow process was applied to the optical design of LGP. The attention was paid to the effects of different pattern conditions to the brightness distribution of BLU with micro-lens patterned LGP. Finally, negative micro-lens patterned LGP showed superior results to the one made by positive in average luminance.
In this report, high-resolution metal electrode patterning is demonstrated by using selective surface treatment and dip casting for low-cost printed electronic applications. On hydrophobic octadecyltrichlorosilane treated $SiO_2$ surface, deep UV irradiation was performed through a patterned quartz photomask to selectively control the surface energy of the $SiO_2$ layer. The deep UV irradiated region becomes hydrophilic and by dipping into Ag nano-ink, Ag patterns were formed on the surface. Using this patterning technique, line patterns and dot arrays having less than $10{\mu}m$ pitch were fabricated.
한국정보디스플레이학회 2005년도 International Meeting on Information Displayvol.II
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pp.1096-1099
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2005
Multi-walled carbon nanotubes (CNTs) grown on catalyst dots by thermal chemical vapor deposition were vertically aligned with a high population density. Such densely populated CNTs showed poor field emission characteristics due to the electrical screening effect. We reduced the number density of CNTs using an adhesive tape treatment. For dotpatterned CNTs, the tape treatment decreased the CNT density by three orders of magnitude, drastically improved the turn-on electric field from 4.8 to $1.8V/{\mu}m$, and changed the emission image from spotty to uniform luminescence. We also report long-term emission stability of dot-patterned CNTs by measuring the emission currents with time at different duty ratios.
International Journal of Precision Engineering and Manufacturing
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제9권3호
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pp.79-81
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2008
A single-wall carbon nanotube (SWNT) transparent conductive film (TCF) was fabricated using a simple inkjet printing method. The TCF could be selectively patterned by controlling the dot size to diameters as small as $34{\mu}m$. In this repeatable and scalable process, we achieved 71% film transmittance and a resistance of 900 ohm/sq sheet with an excellent uniformity, about ${\pm}5%$ deviation overall. Inkjet printing of SWNT is substrate friendly and the TCF is printed on a flexible substrate. This method of fabrication using direct printing permits mass production of TCF in a large area process, reducing processing steps and yielding low-cost TCF fabrications on a designated area using simple printing.
Micro-lens patterned micro-mold fabrication method for Light Guiding Plate(LGP), kernel part of LCD-BLU(Back Light Unit), was presented. Instead of erosion dot pattern for LGP optical design, micro-lens pattern, fabricated by LIGA-reflow process, was applied. Optical pattern design method was also developed not only for negative pattern LGP, but also positive pattern LGP. During injection molding process, experimental study was conducted to improve replication quality and brightness of ${\sim}50um$ micro-lens pattern mold. The effect of mold temperature for the replication quality of micro-lens array was studied.
A single-wall carbon nanotube (SWNT) transparent conductive film (TCF) was fabricated using a simple inkjet printing method. The TCF could be selectively patterned by controlling the dot size to diameters as small as 34${\mu}m$. In thisrepeatable and scalable process, we achieved 71% film transmittance and a resistance of 900 ohm/sq sheet with an excellent uniformity, about $\pm$5% deviation overall. Inkjet printing of SWNT is substrate friendly and the TCF is printed on a flexible substrate. This method of fabrication using direct printing permits mass production of TCF in a large area process, reducing processing steps and yielding low-cost TCF fabrications on a designated area using simple printing.
We performed magnetic force microscopy (MFM) observation on array of Co dots in order to understand magnetic state and magnetization behavior of submicron sized Co dots patterned on GaMnAs bridge. MFM observations showed the magnetization reversal and processes of local magnetization of individual ferromagnetic Co nanodots. Magnetic state of Co dots either single domain or vortex is dependent on geometrical size and thickness. Transition from single domain to vortex state can be realized with MFM tip assisted local field. Magnetization reversal process takes place through sequential reversal of individual dots. Localized inhomogeneous magnetic field can be manipulated by controlling magnetic state of individual Co dot in the array structure.
LPD법을 이용하여 유리 기판 위에 발수/친수 패터닝 기판을 제조하였다. 발수 표면은 거친 표면을 갖는 ZnO 박막을 FAS를 이용한 표면 개질에 의하여 만들어졌고, 친수 표면은 자외선을 조사하여 FAS를 제거함으로써 만들어졌다. Hexagonal ZnO rod는 LPD법에 의하여 ZnO seed 층이 코팅된 유리 기판 위에 수직으로 성장되었다. 침적시간이 증가함에 따라 ZnO rod의 직경과 두께는 증가하였다. 제조된 ZnO 박막의 표면구조, 두께, 결정구조, 투과율과 접촉각은 FE-SEM, XRD, UV-vis와 contact angle meter를 이용하여 측정하였다. $20^{\circ}{\sim}30^{\circ}$의 접촉각을 갖는 친수 ZnO 박막은 FAS 표면 처리에 의해 $145^{\circ}{\sim}161^{\circ}$의 접촉각을 갖는 표면으로 바뀌었다. 제조된 발수 표면은 $300\;{\mu}m$, 3 mm의 dot size를 갖는 shadow mask를 이용하여 자외선을 조사하여 패터닝 되었다. 최종적으로 자외선이 조사된 발수 표면은 친수 표면으로 바뀌었다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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