This paper was proposed floating island power MOSFET for lowering on state resistance and the proposed device was maintained 600 V breakdown voltage. The electrical field distribution of floating island power MOSFET was dispersed to floating island between P-base and N-drift. Therefore, we designed higher doping concentration of drift region than doping concentration of planar type power MOSFET. And so we obtain the lower on resistance than on resistance of planar type power MOSFET. We needed the higher doping concentration of floating island than doping concentration of drift region and needed width and depth of floating island for formation of floating island region. We obtained the optimal parameters. The depth of floating island was $32{\mu}m$. The doping concentration of floating island was $5{\times}1,012cm^2$. And the width of floating island was $3{\mu}m$. As a result of designing the floating island power MOSFET, we obtained 723 V breakdown voltage and $0.108{\Omega}cm^2$ on resistance. When we compared to planar power MOSFET, the on resistance was lowered 24.5% than its of planar power MOSFET. The proposed device will be used to electrical vehicle and renewable industry.
This paper describes the mechanical properties of poly(polycrystalline) 3C-SiC thin film with various doping concentration, in which poly 3C-SiC thin film's mechanical properties according to the n-doping concentration 1%$(9.2\times10^{15}cm^{-3})$, 3%$(5.2\times10^{17}cm^{-3})$, and 5%$(6.8\times10^{17}cm^{-3})$ respectively was measured by nano indentation. In the case of $9.2\times10^{15}^{-3}$ n-doping concentration, Young's Modulus and hardness were obtained as 270 GPa and 30 GPa, respectively. When the surface roughness according to n-doping concentrations was investigated by AFM(atomic force microscope), the roughness of poly 3C-SiC thin film doped by 5% concentration was 15 nm, which is also the best of them.
Kushwaha, Alok;Pandey, Manoj K.;Pandey, Sujata;Gupta, Anil K.
JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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제7권2호
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pp.110-119
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2007
A new two-dimensional analytical model for dual-material double-gate fully-depleted SOI MOSFET with Pearson-IV type Doping Distribution is presented. An investigation of electrical MOSFET parameters i.e. drain current, transconductance, channel resistance and device capacitance in DM DG FD SOI MOSFET is carried out with Pearson-IV type doping distribution as it is essential to establish proper profiles to get the optimum performance of the device. These parameters are categorically derived keeping view of potential at the center (${\phi}_c$) of the double gate SOI MOSFET as it is more sensitive than the potential at the surface (${\phi}_s$). The proposed structure is such that the work function of the gate material (both sides) near the source is higher than the one near the drain. This work demonstrates the benefits of high performance proposed structure over their single material gate counterparts. The results predicted by the model are compared with those obtained by 2D device simulator ATLAS to verify the accuracy of the proposed model.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제17권5호
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pp.270-274
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2016
This article investigates the use of the Gaussian-channel doping profile for the control of the short-channel effects in the double-gate MOSFET whereby a two-dimensional (2D) quantum simulation was used. The simulations were completed through a self-consistent solving of the 2D Poisson equation and the Schrodinger equation within the non-equilibrium Green’s function (NEGF) formalism. The impacts of the p-type-channel Gaussian-doping profile parameters such as the peak doping concentration and the straggle parameter were studied in terms of the drain current, on-current, off-current, sub-threshold swing (SS), and drain-induced barrier lowering (DIBL). The simulation results show that the short-channel effects were improved in correspondence with incremental changes of the straggle parameter and the peak doping concentration.
In this paper, We discuss the $POCI_3$ doping process according to the variation of deposition temperature, gas flow rate and doping time. The factors acted with $POCI_3$ doping are gas flow rate deposition temperature and time etc. Among them the temperature is the most important factor. For the $POCI_3$ flow rate, it should not exceed the resistivity saturation point developed on poly surface by annealing treatment. Therefore, this study suggests the optimum conditions of Poly-silicon treatments with the $POCI_3$ flow rate.
To study emission properties of white phosphorescent organic light emitting devices (PHOLEDs), we fabricated white PHOLEDs of ITO(150 nm) / NPB(30 nm) / TcTa(10 nm) / mCP(7.5 nm) / light-emitting layer(25 nm) / UGH3(5 nm) / Bphen(50 nm) / LiF(0.5 nm) / Al(200 nm) structure. The total thickness of light-emitting layer with co-doping and blue-doping/co-doping using a host-dopant system was 25 nm and the dopant of blue and red was FIrpic and $Bt_2Ir$(acac) in UGH3 as host, respectively. The OLED characteristics were changed with position and thickness of blue doping layer and co-doping layer as light-emitting layer and the best performance seemed in structure of blue-doping(5 nm)/co-doping(20 nm) layer. The white PHOLEDs showed the maximum current density of $34.5mA/cm^2$, maximum brightness of $5,731cd/m^2$, maximum current efficiency of 34.8 cd/A, maximum power efficiency of 21.6 lm/W, maximum quantum efficiency of 15.6%, and a Commission International de L'Eclairage (CIE) coordinate of (0.367, 0.436) at $1,000cd/m^2$.
A detailed investigation and structure of tested samples are clearly presented. As a reference, $Ge_1Se_1Te_2$/Sb only sample was also investigated. We used compound of Ge-Se-Te material for phase-change cell. Actually, the performance properties have been improved surprisingly then conventional Ge-Sb-Te. However, crystallization time was as long as ever for amorphization time. We conducted this esperiment in order to solve that problem by doping-Sb.
This paper is about research of scintillator layer, which is used for Hybrid method to increase electric signals in a-Se, the material of Direct method. In case of the thermal evaporation, CsI has column structure which is an disadvantage as scintillator. But it decreases scattering of incident X-ray, has better Light output intensity than other scintillation materials. CsI was made by Thermal evaporation. The Doping material, Na, 0.1, 0.3, 0.5, 0.7g were added in each sample. Analysis of absorbed wavelength, PL(Photoluminescence), Light output intensity, SEM, and XRD analysis were performed to analyze optical characteristics. Doping rate of CsI:Na to use as scintillation layer in a-Se based detector could be optimized.
In this study, high nickel layered LiNi0.8Co0.1Mn0.1O2 cathode materials for lithium-ion batteries were modified by yttrium doping and poly(3,4-ethylenedioxythiophene):poly(styrene sulfonate) (PEDOT:PSS) coating. The effects of yttrium doping and PEDOT:PSS coating on the structural and electrochemical properties of the LiNi0.8Co0.1Mn0.1O2 cathode material were investigated and compared. The substitution of nickel with an electrochemically inert yttrium was confirmed to be successful in stabilizing the layered structure framework. Moreover, coating the surfaces of the LiNi0.8Co0.1Mn0.1O2 particles with a conductive polymer, PEDOT:PSS, improved the capacity retention, thermal stability, and impedance of the cathode material by increasing its ionic and electric conductivities.
3,4-ethylenedioxythiophene(EDOT)을 ferric-toluenesulfonate(FTS)로 doping하여 합성하였다. 이때 다양한 유기용매를 함께 첨가하여 합성하였고, 온도에 따른 각각의 DC 전도도를 측정하였다. FTS로 dofing된 poly(3,4-ethylenedioxythiophene) (PEDOT)는 3-D variable range hopping model을 잘 따르며, alcohol류의 용매와 함께 합성한 경우는 상온의 DC 전도도가 2 S/cm로 0.4 S/cm의 reference 보다 전기전도를 증가시키는 반면, ketone류는 약 $10^{-11}$ S/cm로 전기전도를 감소시키는 경향을 보였다. 전도도의 증감과 doping level의 관계를 규명하기 위하여 X-ray 분석을 하였다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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