Recently, According to companies of TFT LCD are making large sized products more and more. In the vortex of Products with a monitor and LCD TV is applied in a technique of a high viewing angle(FFS, IPS, VA). Also, as a high luminance, high speed response time, high degree of a color purity, and so on are continuing to develop a high performance, it is necessary to improve a specific character of high luminance that apply to LCD TV as a LCD BLU. Because a LCD panel for TV usually has a lower resolution that compare to a monitor, the structure of present backlight system can't put out its power even though it has a merit in transmission. Therefore, the examination of improvement about the high luminance direct typed BLU for LCD TV that presupposes several uses of CCFL(Cold Cathode Fluorescent Lamp) or EEFL(External Electrode Fluorescent Lamp)is actively being progressed. Although it is necessary to increase the number of lamps for applying high performance by the direct type, in this case, because we can design the character of luminance for adoption of high performance. We can satisfy with a level of luminance for LCD TV. Accordingly, we analyzed a change of the number of CCFL, mechanical and optical character to produce the direct typed backlight in 32inches spec. Consequently, we achieved luminance of 6597nit,which was including polarization film, and secured the standard for LCD TV.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2009.06a
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pp.485-485
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2009
Double side polishing process has been used for various industrial applications, such as polishing of semiconductor substrates and flat panel display glasses. In wafer manufacturing, double side polishing process is applied to improve wafer flatness and to minimize particle generation from wafers in device manufacturing processes, which is recognized as one of the most important processes. Whereas the kinematical modeling and analysis results of single side polishing, extensively used for chemical-mechanical polishing (CMP) in device manufacturing, are well investigated, the studies in conjunction with double side polishing are barely carried out, due to the complication of polishing system and the uncertainty of wafer motion in the carrier. This paper suggests the derivation of kinematical model with consideration of carrier and wafer motion in double side polishing, and then presents the effect of kinematical parameters on material removal amount and its non-uniformity. The kinematical analysis results help to understand the double side polishing process and to control the polishing results.
To examine the localization pattern of phospholipase D2 (PLD2) in the pancreatic islet (the islet of Langerhans) depending on species, we conducted a morphological experiment in the rat and guinea pig. Since individual islets display a typical topography with a central core of B cell mass and a peripheral boundary of A, D, and PP cells, double immunofluorescent staining with a panel of antibodies was performed to identify PLD2-immunoreactive cells in the islets PLD2 immunoreactivity was mainly present in A and PP cells of the rat pancreatic islets. And yet, in the guinea pig, PLD2 immunoreactivity was exclusively localized in A cells, and not in PP cells. These findings suggest a possibility that PLD2 is mainly located in A cells of rodent pancreatic islets, and that the existence of PLD2 in PP cells is not universal in all species. Based on these results, it is suggested that PLD2 may play a significant role in the function of A and/or PP cells via a PLD-mediated signaling pathway.
Park, Han-Sung;Seo, Dong-Soo;Choi, Youngmin;Chang, Hyunjoo;Kong, Ki-Jeong;Lee, Jung-O;Ryu, Beyong-Hwan
Journal of the Korean Ceramic Society
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v.41
no.9
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pp.670-676
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2004
The synthesis of highly concentrated silver nano sol assisted by polymeric dispersant (polyelectrolytes) for inkjet method was studied. The silver nano sol was prepared with AgNO$_3$, polyelectrolytes (HS5468cf ; polyacrylic ammonium salt), and reducing agent. The polyelectrolytes play an important role in formation of complex composed of Ag$\^$+/ion and carboxyl group (COO$\^$-/), result in preparation of highly dispersed silver nano particles. The optimization of added amount of polyelectrolytes, and concentration of silver nano sol was studied. The silver nanoparticles were evaluated by XRD, particle size/zeta potential analyzer and FE-TEM. The silver nanoparticles with the range of 10 nm in diameter were produced. The concentration of batch-synthesized silver nano sol was possible up to 40 wt%.
We have investigated and analyzed the effects of the evaporation rate of MgO films on the MgO properties and the discharge characteristics of a plasma display panel(PDP). The MgO properties such as the crystal orientation, the surface roughness, the film structure, and cathode-luminescence (CL) spectra were inspected using XRD (X-ray diffraction), AFM(atomic force microscopy). And the discharging characteristics of the PDP such as the firing voltage, discharging current, and luminescence were measured using a vacuum chamber with oscilloscope (TDS 540C), current probe (TCP-312A), color meter (CS-100A) and etc. From the experiments results we confirmed the optimum evaporation rate at $5{\AA}/sec$, the MgO properties were shown to be strongly dependent on the evaporation rate, and the MgO properties had an effecton the optical and electrical characteristics. In other words, if the evaporation rates increase than $5{\AA}/sec$, the intensity of (200) orientation and cathode-luminescence (CL) spectra reduce, and the firing vlotage was increased. So the luminuous efficiency grows worse.
UV irradiated acrylic pressure sensitive adhesives(PSAs) are prepared to be used for thermal pad in plasma display panel(PDP). The effect of the chemical structure of side-chain in comonomer and of crosslinking agent on wet-out property of acrylic PSAs in wide temperature range were investigated. The correlationship between viscoelastic behavior and adhesion properties, such as tack and peel strength, was also studied. The experimental results supported that wet-out and adhesion properties of acrylic PSAs were enhanced inversely proportional to side-chain length of comonomer in wide temperature range. The peel energy clearly increased in acrylic PSAs prepared by using di(ethylene glycol) dimethylacrylate (DEGDMA) for crosslinking agent. The results might be due to the difference in the glass transition temperature and viscoelastic behavior of acrylic PSAs.
Journal of the Korea Fashion and Costume Design Association
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v.9
no.2
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pp.59-68
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2007
"Aloha" is the Hawaiian word that extends the warmth friendliness, and pride of the Hawaiian people to their island's visitors. The aloha shirt truly symbolizes aloha sprit to islanders and visitors alike. The earliest foreign settlers in the Hawaiian Islands were the Chinese and Japanese. They brought with them their myriad talents and trades, among them the art of tailoring. In July of 1936, a shirtmaker named Ellery J.Chun coined the term "Aloha Shirt" an apt characterization for such an eloquent garment. He was the first to make the shirt on a commercial basis. The shirt sold for as little as a dollar in Chun's own King-Smith store. The genuine aloha shirt is now regaled as a work of art and avidly sought out by collectors. When tourism came to Hawaii in the late 1930s, these unusal shirts were among the first thing that visitors had to have. Local designers and tailors worked quickly to meet the demand and began to expand the range of decoration to include palm trees and romantic beaches, tropical jungles and volcanoes, exotic flowers and scenes from polynesian legend. Therefore the aloha shirt had been born. The functional use of creative colors and amazing artistic renderings in these shirts certainly capture the simplicity and sprit of Hawaii. Aloha shirt is dress that display mystery and charm of Hawaii and cultural symbol of condensed Hawaiian mind. Furthermore, the innocence with which Hawaiians formerly translated their life and heritage onto fabric ranks these shirts with the finest of American folk art. Aloha shirt is made from cotton, silk, rayon in present and past. Most important design element of Aloha shirt is print pattern. Main print pattern of Aloha shirt are all over pattern, horizontal pattern, border pattern, Japanese pattern, picture pattern and back panel pattern. In this study I investigate the design characteristics and development process of aloha shirt.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.23
no.9
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pp.681-684
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2010
The $TiO_2$/ZnS/Ag/ZnS/$TiO_2$ multilayered structure for the transparent electrodes in plasma display panel was designed by essential macleod program (EMP) and the multilayered film was deposited on a glass substrate by direct-current (DC)/radio-frequency (RF) magnetron sputtering system. During film deposition process, the Ag layer in $TiO_2$/Ag/$TiO_2$ structure became oxidized and the filter characteristic was degraded easily. In this study, ZnS layer was adopted as a diffusion blocking layer between $TiO_2$ and Ag to prevent the oxidation of Ag layer efficiently in $TiO_2$/ZnS/Ag/ZnS/$TiO_2$ structure. Based on the AES depth profiling analysis, the Ag layer was effectively protected by the ZnS layer as compared with the $TiO_2$/Ag/$TiO_2$ multilayered films without ZnS as an antioxidant layer. The 3 times stacked $TiO_2$/ZnS/Ag/ZnS/$TiO_2$ films have low sheet resistance of $1.22{\Omega}/{\square}$ and luminous transmittance was as high as 62% in the visible ranges.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.33
no.5
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pp.386-392
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2020
In this study, the drift current characteristics of charged particles are analyzed for panels fabricated by varying the waveform biasing of the active particle loading method (APLM), which is a method driven by the electrophoretic principle of loading charged particles into a cell of a barrier rib-type electronic paper. We prepare 3 panels using APLM and 1 panel without APLM. The waveform of APLM uses square wave and ramp wave, and the step voltage wave is applied to the driving voltage. The drift currents measured from the square wave and ramp wave with the same period applied by APLM are 4.872 µC and 5.464 µC, respectively, and the ramp wave is shown to be relatively advantageous for loading charged particles that have a large q/m. The time-current curve results confirm that the abrupt movement of charged particles is occurring. When the step form wave signal with a short time of 1s is first applied, initial large movement of the charged particles is confirmed to occur in all samples, which is understood as the effect of applying the voltage necessary to remove the imaging force. The results of this study are expected to improve the loading of charged particles into the electronic paper cell, driven by the electrophoretic principle and optimization of the driving conditions.
Journal of the Korea Institute of Information and Communication Engineering
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v.13
no.8
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pp.1659-1665
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2009
In this paper, we propose an implementation method of 3D image correlator using integral imaging technique. In the proposed method, elemental images of the reference and signal 3D objects are recorded by lenslet arrays and then reference and signal output plane images with high resolution are optically reconstructed on the output plane by displaying these elemental images into a display panel. Through cross-correlations between the reconstructed reference and the single plane images, 3D object recognition is performed. The proposed method can provide a precise 3D object recognition by using the high-resolution output plane images compared with the previous methods and implement all-optical structure for real-time 3D object recognition system. To show the feasibility of the proposed method, optical experiments are carried out and the results are presented.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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