• 한국진공학회지
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• 제15권1호
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• pp.110-116
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• 2006

본 연구에서는 나노 두께를 갖는 두 층을 반복적으로 증착하여 나노 다층 구조를 갖는 질화 물이 코팅된 절삭공구의 기계적 성능과 절삭성능의 향상에 대해 고찰하였다. 이러한 질화물계 나노 다층막에 대한 재료는 격자상수와 결정구조에 따라 $Ti_{0.54}Al_{0.46}N-CrN$계와 $Ti_{0.84}Al_{0.16}N-NlN$계를 선택하여, UBM sputtering 증착법을 이용하여 초경(WC-Co) 인서트(insert)위에 증착하였다. 공정 변수들인 증착온도, 압력. 기판 바이어스 전압, 기판회전 속도 등을 조절하여 다른 주기 값을 갖는 일정한 두께의 다층막들을 증착 시켰고, 주기에 따른 초격자 형성, 경도 값과 절삭성능을 관찰하였다. 증착된 다층막들은 그 주기 값에 따라 경도 값이 다르게 나타났으며. 경도 값이 상대적으로 높았던 특정 주기의 다층막이 코팅된 절삭 공구의 경우, 기존의 상용화된 제품에 비해 frank wear로 비교한 절삭 성능이 $20\%$이상 향상됨을 관찰하였다

• 한국자기학회지
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• 제4권3호
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• pp.249-255
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• 1994

광자기 기록매체의 구조를 유전체층과 반사층을 이용하여 다층화 함으로써 자기광학 효과를 증대할 수 있다는 것은 알려진 사실이다. 본 연구에서는 희토-천이금속 합금박막의 대표적인 재질인 TbFeCo 를 기록층으로 한 다층구조에서 Kerr 회전각, 타원율, 반사도 및 Figure of merit을 Characteristic Matrix 를 사용하여 컴퓨터 프로그램으로 작성하고 이론적 계산을 하였다. Photodiode의 Shot Noise만 고려하였을 때 SNR과 비례관계에 있는 Figure of Merit과 반사도를 기준으로 하여 Bilayer, Trilayer 및 Quadrilayer 구 조에서 최적의 두께조합을 결정하였다.

• Journal of Magnetics
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• 제10권3호
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• pp.113-117
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• 2005

Some polycrystalline ferromagnetic mms are composed of continuously connected nanometer scale islands with random crystallite orientations. The nanometer perturbations of the mm introduce a large number of nearly degenerate local field configurations that are indistiguishable on a macroscopic scale. As a first step, this situation is modelled as a thin ferromagnetic disc coupled by exchange and dipole interactions to a homogeneous ferromagnetic plane, where the disc and plane have different easy axes. The model is solved to find the partial $N\acute{e}el$ domain walls that minimize the magnetic energy. The two solutions give a bistable configuration that, for appropriate geometries, provides an important microsopic ferromagnetic degree of freedom for the mm. These results are used to interpret recent measurements of exchange biased bilayer films.

• 한국재료학회지
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• 제21권10호
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• pp.573-579
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• 2011

Highly textured Ag, Al and Al:Si back reflectors for flexible n-i-p silicon thin-film solar cells were prepared on 100-${\mu}m$-thick stainless steel substrates by DC magnetron sputtering and the influence of their surface textures on the light-scattering properties were investigated. The surface texture of the metal back reflectors was influenced by the increased grain size and by the bimodal distribution that arose due to the abnormal grain growth at elevated deposition temperatures. This can be explained by the structure zone model (SZM). With an increase in the deposition temperatures from room temperature to $500^{\circ}C$, the surface roughness of the Al:Si films increased from 11 nm to 95 nm, whereas that of the pure Ag films increased from 6 nm to 47 nm at the same deposition temperature. Although Al:Si back reflectors with larger surface feature dimensions than pure Ag can be fabricated at lower deposition temperatures due to the lower melting point and the Si impurity drag effect, they show poor total and diffuse reflectance, resulting from the low reflectivity and reflection loss on the textured surface. For a further improvement of the light-trapping efficiency in solar cells, a new type of back reflector consisting of Ag/Al:Si bilayer is suggested. The surface morphology and reflectance of this reflector are closely dependent on the Al:Si bottom layer and the Ag top layer. The relationship between the surface topography and the light-scattering properties of the bilayer back reflectors is also reported in this paper.

• 한국재료학회지
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• 제8권12호
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• pp.1182-1189
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• 1998

Si 기판을 실온과 $600^{\circ}C$로 유지하면서 동시 증착 방법으로 (Ti+2Si)를 증착한 후 $N_2$ 분위기에서 Ti를 증발시켜 TiN($300\AA$)/(Ti+2Si, $300\AA$)/Si(100) 구조의 시료를 제작한 다음 초고진공에서 in-situ로 열처리하여 양질의 $TiN/TiSi_2$-bilayer를 형성하였다 열처리 온도가 $700^{\circ}C$ 이상에서 (111) texture 구조를 가지면서 화학 양론적으로 $Ti_{0.5}N_{0.5}$인 박막과 C54-$TiSi_2$박막이 형성되었다. $TiN/C54-TiSi_2/Si$ (100)구조의 계면은 응집 현상이 없이 평활하였으며, $C54-TiSi_2$상은 에피택셜 성장되었다. $TiN/TiSi_2$-이중구조막의 면저항은 열처리 온도에 따라 감소하였으며, $700^{\circ}C$ 이상의 열처리 온도에서는 면저항 값이 $2.5\omega/\textrm{cm}^2$ 였다.

• E2M - 전기 전자와 첨단 소재
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• 제7권5호
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• pp.389-396
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• 1994

The bilayer film of Ag/a-S $e_{75.G}$ $e_{25}$ and the monolayer film of a-S $e_{75.G}$ $e_{25}$ act as a negative-type and a positive-type resist in focused ion beam lithography, respectively. Using a model which takes into account the ion stopping power, the ion projected range, the ion concentration implanted into resists and the ion transmission coefficient, etc., the ion resist parameters are calculated for a broad range of ion energies and implanted doses. Ion sources of A $r^{+}$, S $i^{++}$ and G $a^{+}$ are used to expose resists. As the calculated results, the energy loss per unit distance by Ga'$^{+}$ ion is about 10$^{3}$[keV/.mu.M] and nearly constant for all energy range. Especially, the projected range and struggling for 80[keV] G $a^{+}$ ion energy are 0.0425[.mu.m] and 0.020[.mu.m], , respectively and the resist thickness of a-S $e_{75}$ G $e_{25}$ to minimize the ion penetration rate into a substrate is 0.118[.mu.m].u.m]..u.m].

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2005년도 춘계학술대회 논문집 디스플레이 광소자 분야
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• pp.92-95
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• 2005

The silver photodoping effect in amorphous AsGeSeS chalcogenide thin films for holographic recording has been investigated using a HeNe laser ($\lambda$=632.8 nm). The chalcogenide films prepared in this work were thinner in comparison with the penetration depth of recording light ($d_p$=1.66 mm). The variation of the diffraction efficiency $(\eta)$ in amorphous chalcogende films exhibits a tendency, independently of the Ag photodoping. That is, n increases relatively rapidly at the beginning of the recording process, reaches the maximum $({\eta}_{max})$ and slowly decreases. In addition, the value of ${\eta}_{max}$ depends strongly on chalcogenide film thickness(d) and its peak among the films with d = 40, 80, 150, 300, and 633 nm is observed at d = 150 nm (approximately 1/2n), where n is refractive index of the chalcogenide (n=2.0). The ${\eta}$ is largely enhanced by Ag photodoping into the chalcogenides. In particular, the value of hmax in a bilayer of 10-nm-thick Ag/150-nm-thick AsGeSeS film is about 1.6%, which corresponds to ~20 times in comparison with that of the AsGeSeS film (without Ag).

• 한국재료학회지
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• 제30권12호
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• pp.701-708
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• 2020

Irradiation of the metal nanoparticles causes local plasmon resonance in a specific wavelength band, which can improve the absorption and scattering properties of a structure. Since noble metal nanoparticles have better resonance effects than those of other metals, it is easy to identify plasmonic reactions and this is advantageous to find the optical tendency. Compared to having a particle gap or randomly arranged particle structures, densely and evenly packed structures can exhibit more uniform optical properties. Using the uniform properties, the structure can be applied to optical filtering applications. Therefore, in this paper, validation tests about metal nanoparticles and thin film structures are conducted for more accurate analysis. The optical properties of monolayer and bilayer noble metal nanoparticle structures with different diameters, packed in a uniform array, are investigated and their optical trends are analyzed. In addition, a thin film structure under identical conditions as metal nanoparticle structure is evaluated to confirm the improved optical characteristics.

• 한국식품과학회지
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• 제28권1호
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• pp.1-7
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• 1996

Hydrocolloid film에 lipid 액을 입혀 제조한 film A와 hydrocolloid 용액에 beeswax의 함량과 용해 상태를 달리하여 제조한 film B와 C의 물리적 특성을 검토해 본 결과, 제조에 있어서는 film A보다 film B와 C의 제조가 용이하였다. 세가지 film의 두께는 0.03 mm 정도로 유의적인 차이를 나타내지 않았으며, 1-3%의 수분함량과 59-68%의 지방을 함유한 film으로 세 film 모두 백색을 나타내었다. 인장강도는 film A가 우수하였으며, 투습도에서는 lipid 액의 뚜렷한 효과로 감소하였으며 film A와 B는 유의적인 차이를 나타내지 않았다. 한편 냉동전후의 투습도에서 film A는 유의적인 차이를 나타내지 않았으나, film B와 C는 냉동 후의 투습도가 유의적으로 감소하였다. 산소투과도는 film A와 C가 유의적인 차이를 나타내지 않았다. 전자현미경으로 film의 표면특성을 관찰한 결과, film A는 지방구의 분포가 일정하였으나 B와 C는 지방구의 편재를 볼 수 있었으며 1년 저장 후 film A는 bilayer층의 delamination을 나타내는 것으로 보아 전반적인 물리적 특성은 film A가 우수하나 장기저장에 있어서는 보다 제조법이 용이한 film B와 C를 선택하는 것이 바람직할 것으로 보이며, film B와 C의 균일하지 못한 표면 형상을 개선하는 방법과 투습도 및 산소투과도를 감소시키는 것이 앞으로 개선할 과제로 여겨진다.

• 한국전기전자재료학회논문지
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• 제30권4호
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• pp.199-203
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• 2017

$ZrO_2/PSS$ thin film with a high refractive index was fabricated on a glass substrate by a layer-by-layer self-assembly method. The surface morphology and thickness of the fabricated $ZrO_2/PSS$ thin films were measured as a function of the number of $(ZrO_2/PSS)n$. As the number of $(ZrO_2/PSS)n$ increased from n = 5 to n = 20, RMS roughness decreased from 29.01 nm to 8.368 nm. The $ZrO_2$ thin films exhibited high transmittance of 85% or more; and the 15-bilayer thin film exhibited the highest transmittance among the samples. The transmittance of the fabricated $(ZrO_2/PSS)_{15}$ thin film was ca. 90.8% in the visible range. The refractive index of the glass substrate coated by a $(ZrO_2/PSS)_{15}$ thin film with a thickness of 160 nm increased from ca. 1.52 to 1.74 at the 632 nm wavelength.