Tunnel junctions with AI-N barriers fabricated by microwave-excited plasma were studied. When the Al thickness, nitridation time, and annealing temperature were 1 nm (0.8 nm), 50 s (35 s), and $280^{\circ}C$ ($300^{\circ}C$), TMR ratio and resistance-area product (RA) were 49% (34%) and $3 ${\times}$ 10^4$$\Omega$$\mu\m^2$ ($1.5 ${\times}$ 10^4$$\Omega$$\mu\m^2$), respectively. In order to clarify the annealing temperature dependence of TMR ratio, the local transport properties were measured for Ta 5 nm/Cu 20 nm/Ta 5 nm$29_{76}$$Fe_{24}$ 2 nm/Cu 5 nm/M $n_{75}$$Ir_{25}$ 10 nm/ $Co_{71}$$Co_{29}$ 4nm/Al-N junction with Al thickness of 0.8 nm and nitridation time of 35s at various temperatures. The increase of TMR ratio after annealing at $300^{\circ}C$, where the TMR ratio of the corresponding MTJ had the maximum value of 34%, can be well explained by the enhancement of the average barrier height ($\Phi_{ave}$) and the reduction of its fluctuation. After further annealing at $340^{\circ}C$, the leakage current was observed and the TMR ratio decreaseded
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제13권2호
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pp.60-63
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2012
Enhancement of efficiency and luminance of organic light-emitting diodes was investigated by the introduction of a lithium carbonate ($Li_2CO_3$) electron-injection layer. Electron-injection layer is used in organic light-emitting diodes to inject electrons efficiently between a cathode and an organic layer. A device structure of ITO/TPD (40 nm)/$Alq_3$ (60 nm)/$Li_2CO_3$ (x nm)/Al (100 nm) was manufactured by thermal evaporation, where the thickness of $Li_2CO_3$ layer was varied from 0 to 3.3 nm. Current density-luminance-voltage characteristics of the device were measured and analyzed. When the thickness of $Li_2CO_3$ layer is 0.7 nm, the current efficiency and luminance of the device at 8.0 V are improved by a factor of about 18 and 3,000 compared to the ones without the $Li_2CO_3$ layer, respectively. The enhancement of efficiency and luminance of the device with an insertion of $Li_2CO_3$ electron-injection layer is thought to be due to the lowering of an electron barrier height at the interface region between the cathode and the emissive layer. This is judged from an analysis of current density-voltage characteristics with a Fowler-Nordheim tunneling conduction mechanism model. In a study of lifetime of the device that depends on the thickness of $Li_2CO_3$ layer, the optimum thickness of $Li_2CO_3$ layer was obtained to be 1.1 nm. It is thought that an improvement in the lifetime is due to the prevention of moisture and oxygen by $Li_2CO_3$ layer. Thus, from the efficiency and lifetime of the device, we have obtained the optimum thickness of $Li_2CO_3$ layer to be about 1.0 nm.
In this study, the Au/Ni and Au/Ni/Si/Ni layers prepared by electron beam evaporation were used to form ohmic contacts on p-type GaN. Before rapid thermal annealing, the current-voltage(I-V) characteristic of Au/Ni and Au/Ni/Si/Ni contact on p-type GaN film shows non-ohmic behavior. A Specific contact resistance as 3.4$\times$10$^{-4}$ Ω-$\textrm{cm}^2$ was obtained after 45$0^{\circ}C$-RTA. The Schottky barrier height reduction may be attributed to the presence of Ga-Ni and Ga-Au compounds, such as Ga$_4$Ni$_3$, Ga$_4$Ni$_3$, and GaAu$_2$ at the metal - semiconductor interface. The mixing behaviors of both Ni and Au have been studied by using X-ray photoelectron spectroscopy. In addition, X-ray diffraction measurements indicate that the Ni$_3$N, NiGa$_4$, Ni$_2$Si, and Ni$_3$Si$_2$ Compounds were formed at the metal-semiconductor interface.
Recently, a heavy rainfall with high spatial variation occurred frequently in the Korean Peninsula. The meteorological event that occurred in Busan on 3 May 2016 is characterized by heavy rain in a limited area. In order to clarify the reason of large spatial variation associated with mountain height and location of low level jet, several numerical experiments were carried out using the dynamic meteorological Weather Research and Forecasting (WRF) model. In this case study, the raised topography of Mount Geumjeong increased a barrier effect and air uplifting due to topographic forcing on the windward side. As a result, wind speed reduced and precipitation increased. In contrast, on the downwind side, the wind speed was slightly faster and since the total amount of water vapor is limited, the precipitation on the downwind side reduced. Numerical experiments on shifting the location of the lower jet demonstrated that if the lower jet is close to the mountain, its core becomes higher due to the effect of friction. Additionally, the water vapor convergence around the mountain increased and eventually the precipitation also increased in the area near the mountain. Hence, the location information of the lower jet is an important factor for accurately predicting precipitation.
Graphene by one of the two-dimensional (2D) materials has been focused on electronic applications due to its ultrahigh carrier mobility, outstanding thermal conductivity and superior optical properties. Although graphene has many remarkable properties, graphene devices have low on/off current ratio due to its zero bandgap. Despite considerable efforts to open its bandgap, it's hard to obtain appropriate improvements. To solve this problem, heterojunction barristor was proposed based on graphene. Mostly, this heterojunction barristor is made by transition metal dichalcogenides (TMDs), such as molybdenum disulfide ($MoS_2$) and tungsten diselenide ($WSe_2$), which have extremely thickness scalability of TMDs. The heterojunction barristor has the advantage of controlling graphene's Fermi level by applying gate bias, resulting in barrier height modulation between graphene interface and semiconductor. However, charged impurities between graphene and $SiO_2$ cause unexpected p-type doping of graphene. The graphene's Fermi level modulation is expected to be reduced due to this p-doping effect. Charged impurities make carrier mobility in graphene reduced and modulation of graphene's Fermi level limited. In this paper, we investigated theoretically and experimentally a relevance between graphene's Fermi level and p-type doping. Theoretically, when Fermi level is placed at the Dirac point, larger graphene's Fermi level modulation was calculated between -20 V and +20 V of $V_{GS}$. On the contrary, graphene's Fermi level modulation was 0.11 eV when Fermi level is far away from the Dirac point in the same range. Then, we produced two types heterojunction barristors which made by p-type doped graphene and graphene treated 2.4% APTES, respectively. On/off current ratio (32-fold) of graphene treated 2.4% APTES was improved in comparison with p-type doped graphene.
Degeneration of the axon terminals of mamillo-thalamic tract following the electrical coagulation of mamillary body is well known. In this study, the author investigated the ultrastructural alterations of neuropil components, initiated by terminal degenerations. Rats weighing approximately 250 gm were fixed on the stereotaxic instrument(David Kopf Inc., Heavy duty model), and NE 300 active electrode(Rhodes Med. Instr. Inc.) was introduced to the mamillary position of anterior 3.8 mm, lateral 0.5 mm, height 3.8 mm and lateral angle of $23^{\circ}$ according to De Groot's Atlas. Electric current of 20 mA was applied during 1 minute between active and inactive electrodes with Radio Frequency Lesion Generator(RFG 4, Radionics Inc.). Two hours, 2 days, 1 week and 2 weeks following the electrical coagulation of mamillary body, ipsilateral anterior thalamic nucleus was fixed in 1% glutaraldehyde-l% paraformaldehyde and 2% osmium tetroxide, embedded in Araldite mixture, cutted with LKB ultra tome V, stained with uranyl acetate-lead citrate and observed with JEOL 100 CX electron microscope. Observed results were as follows; 1. Degenerated mamillo-thalamic synapses were observed to form asymmetric axospinous or axo-dendritic types. 2. Terminal degeneration was not easily discernible at 2 hours interval after mamillary lesion, but following 2 days the terminal degeneration was apparent. 3. Postsynaptic spines, dendrites and even their cell bodies show edematic changes caused by the degeneration of postsynaptic counterpart. 4. Astrocytic territories, including perivascular processes forming glial limitans of blood-brain barrier, exhibit remarkable expansion. 5. Oligoglia and astroglia are actively engaged in the removal of degenerated elements. 6. Active forms of microglia were increased. 7. The observed results may represent typical ultrastructural alteration pattern within neuropil following the degeneration of certain input axon terminals.
천해역에서 외해의 구조물 주위에서의 파동계산을 위한 수치모델을 검증하기 위해서는 실험실에서의 수리실험이 필요하다 하겠다. 본 연구에서는 경사해저면을 가진 해역에서 구조물 설치로 인한 파랑장과 이론 인한 흐름장에 대한 수리실험 예를 다룬다. 수역은 수직으로 층별 흐름을 관측하기 위한 추적 플로터를 투입하도록 4개층으로 나눈다. 자료의 측정은 제한된 수의 파고계와 실험실 상단에 설치한 비디오 카메라와 함께 추적 플로터를 사용하여 연속적으로 이루어졌다. 특정영역에서의 파고 및 각 층별 시간평균유속 분포를 상세히 측정하였으며, 측정된 모든 실험실 자료로부터 파랑 및 흐름장 분포를 상세히 분석하였다. 또한, 파랑의 비선형적 변형특성을 상하 및 전후 비대칭성의 관점에서 포괄적인 분석도 기하였다.
The electrical properties of Pr$_{6}$ O$_{11}$ -based ZnO varistors consisting of ZnO-Pr$_{6}$ O$_{11}$ -CoO-Cr$_2$O$_3$-Er$_2$O$_3$ ceramics were investigated with sintering temperature in the range of 1325~f1345$^{\circ}C$. As sintering temperature is raised., the nonlinear exponent was increased up to 1335$^{\circ}C$, reaching a maximum 70.53, whereas raising sintering temperature further caused it to decrease, reaching a minimum 50.18 and the leakage current was in the range of 1.92~4.12 $\mu$A. The best electrical properties was obtained from the varistors sintered at 1335$^{\circ}C$, exhibiting a maximum (70.53) in the nonlinear exponent and a minimum (1.92 $\mu$A) in the leakage current, and a minimum (0.035) in the dissipation factor. On the other hand, the donor concentration was in the range of (0.90~1.14)x10$^{18}$ cm$^{-3}$ , the density of interface states was in the range of (2.69~3.60)x10$^{12}$ cm$^{-2}$ , and the barrier height was in the range of 0.77~1.21 eV with sintering temperature. With raising sintering temperature, the variation of C-V characteristic parameters exhibited a mountain type, reaching maximum at 134$0^{\circ}C$. Conclusively, it was found that the V-I, C-V, and dielectric characteristics of Pr$_{6}$ O$_{11}$ -based ZnO varistors are affected greatly by sintering temperature.
In this study, it has been investigated on the changing behavior of electrical properties in $ZnO-Bi_2O_3-Sb_2O_3$ (Sb/Bi=2.0, 1.0 and 0.5) ceramics. The samples were prepared by conventional ceramic process, and then characterized by I-V, C-V curve plots, impedance and modulus spectroscopy (IS & MS) measurement. The electrical properties of ZBS systems were strongly dependent on Sb/Bi. In ZBS systems, the varistor characteristics were deteriorated noticeably with increasing Sb/Bi and the donor density and interface state density were increased with increasing Sb/Bi. On the other hand, we observed that the grain boundary reacted actively with the ambient oxygen according to Sb/Bi ratio. Especially the grain boundaries of Sb/Bi=0.5 systems were divided into two types, i.e. sensitive to oxygen and thus electrically active one and electrically inactive intergranular one with temperature. Besides, the increased pyrochlore and $\beta$-spinel phase with Sb/Bi ratio caused the distributional inhomogeneity in the grain boundary barrier height and the temperature instability. To the contrary, the grain boundary layer was relatively homogeneous and more stable to temperature change and kept the system highly nonlinear at high Bi-rich phase contents.
본 연구에서는 Wet chemistry damage가 Nanopatterned p-ohmic electrode에 미치는 영향을 연구하였다. Nanopattern은 Metal clustering을 이용하여, P-GaN와 Ohmic형성에 유리한 Pd을 50$\AA$ 적층한 후 Rapid Thermal Annealing방법으로 $850^{\circ}C$, $N_2$분위기에서 3min열처리를 하여 Pd Clustering mask 를 제작하였다. Wet etching은 $85^{\circ}C$, $H_3PO_4$조건에서 시간에 따라 Sample을 Dipping하는 방법으로 시행하였다 Ohmic test를 위해서 Circular - Transmission line Model 방법을 이용하였으며, Atomic Force Microscopy과 Parameter Analyzer로 Nanopatterned GaN surface위에 형성된 Ni/ Au Contact에서의 전기적 분석과, 표면구조분석을 시행하였다. AFM결과 Wet처리시간에 따라서 Etching형상 및 Etch rate이 영향을 받는 것이 확인되었고, Ohmic test에서 Wet chemistry처리에 의한 Tunneling parameter와 Schottky Barrier Height가 크게 증/감함을 관찰하였다. 이러한 결과들은 Wet처리에 의해서 발생된 Defect가 GaN의 표면과 하부에서 발생되며, Deep acceptor trap 및 transfer거동과 밀접한 관련이 있음을 확인 할 수 있었다. 보다 자세한 Transport 및 Wet chemical처리영향에 관한 형성 Mechanism은 후에 I-V-T, I-V, C-V, AFM결과 들을 활용하여 발표할 예정이다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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