• 제목/요약/키워드: Z 파라미터

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잔차 오차 최소에 의한 HEMT의 외인성 파라미터 추출 (Extraction of Extrinsic Circuit Parameters of HEMT by Minimizing Residual Errors)

  • 전만영
    • 한국전자통신학회논문지
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    • 제9권8호
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    • pp.853-859
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    • 2014
  • 본 연구에서는 핀치오프 된 cold-FET에서 게이트와 드레인 패드를 디임베딩하여 얻어지는 Z-파라미터와 게이트와 드레인 패드 커패시턴스를 제외한 핀치오프 된 cold-FET의 나머지 파라미터에 의해 모델링되는 Z-파라미터 사이의 잔차 오차를 최소화함으로써 HEMT의 모든 외인성 파라미터를 추출하는 기법을 제시한다. 제시된 기법을 사용하면 게이트와 드레인 모조패드의 추가적 제작 없이 게이트와 드레인 패드의 커패시턴스 값뿐 아니라 나머지 외인성 파라미터 값 모두를 성공적으로 추출할 수 있다.

측정된 S-파라미터에서 MESFET과 HEMT의 기생 저항을 구하는 새로운 방법 (A New Method for Determination the Parasitic Extrinsic Resistances of MESFETs and HEMTs from the Meaured S-parameters under Active Bias)

  • 임종식;김병성;남상욱
    • 한국전자파학회논문지
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    • 제11권6호
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    • pp.876-885
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    • 2000
  • 추가적인 DC 측정이나 반복 계산법 또는 최적화 방법에 의존하지 않고도, 정상적인 바이어스(Normal activebias) 조건에서 측정하 S-파라미터로부터 MESFET과 HEMT의 외부 기생 저항을 간단히 구할 수 있는 방법이 제시되었다. 이를 위해서 zero 바이어스 조건에서 측정한 Z-파라미터로부터 Rs와 Rd의 차이를 구할수 있다는 사실이 이용된다. 측정한 S-파라미터로부터 외부 기생 인덕터와 캐패시터의 효과를 제거하면, 내부 소자와 외부 기생 저항을 포함한 새로운 소자를 정의할 수 있다. 내부 소자의 Y-파라미터인 Yint,11과 Yint,12의 실수부 값이 이론적으로 0이라는 사실을 이용하여 S-, Y-, Z-파라미터 행렬간의 상화관계를 이용하여 기생 저항 값을 쉽게계산할수 있다. 제시된 방법으로 기생 저항들을 구하고, 이 결과를 이용하여 내부 소자 등가회로를 구한 후에 40GHz까지 S-파라미터를 계산한 결과, 측정된 S-파라미터와 잘 일치하였다.

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High Resistivity SOI RF CMOS 대칭형 인덕터 모델링을 위한 개선된 Optimization 방법 연구 (A Study on Improved Optimization Method for Modeling High Resistivity SOI RF CMOS Symmetric Inductor)

  • 안자현;이성현
    • 전자공학회논문지
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    • 제52권9호
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    • pp.21-27
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    • 2015
  • High resistivity(HR) silicon-on-insulator(SOI) RF CMOS 공정 인덕터의 모델 파라미터를 정확히 결정하기 위하여 직접추출과 simultaneous optimization을 사용한 개선된 방법을 개발하였다. 먼저, 대칭형 인덕터와 센터탭이 접지된 대칭형 인덕터 등가회로들의 Y 및 Z-파라미터 방정식 유도를 통해 일부 모델 파라미터들을 직접 추출하고, 병렬 저항과 전체 인덕턴스 방정식들로 미지 변수들을 줄여 모델링 정확도를 향상시켰다. 또한, 두 등가회로의 동일한 모델 파라미터들을 공통 변수로 두고 S-파라미터 데이터 세트를 동시에 optimization함으로써 optimization 정확도를 크게 향상시켰다.

패키지된 바이폴라 트랜지스터의 등가회로 모델 파라미터 추출 (Equivalent Circuit Model Parameter Extraction for Packaged Bipolar Transistors)

  • 이성현
    • 대한전자공학회논문지SD
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    • 제41권12호
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    • pp.21-26
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    • 2004
  • 본 논문에서는 package된 BJT의 RF 등가회로 모델을 optimization과정 없이 직접 추출하는 방법을 개발하였다. 먼저, open 과 short package 구조를 사용하여 plastic package의 기생성분을 측정된 S-파라미터로부터 정확히 제거하였다. 이와 같이 package do-embedding된 S-파라미터로부터 package lead와 chip pad 사이의 bonding wire 인덕턴스와 chip pad 캐패시턴스를 직접 추출하는 간단한 방법을 구축하였다. 그 후에 내부 BJT소자의 소신호 모델변수들은 RF 등가회로로부터 유도된 Z나 Y-파라미터 방정식을 이용하여 결정하였다. 이 방법으로 모델화된 packaged BJT의 S-파라미터는 측정 데이터와 아주 잘 일치하였으며 이는 새로운 추출방법의 정확성을 증명한다.

진행파 광변조기의 Taper영역 전극 설계 : SOR기법 (Design of Electrodes of the Tapered Region of the Traveling-Wave Optical Modulator: SOR Method)

  • 정석원;김창민
    • 한국광학회지
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    • 제7권1호
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    • pp.77-86
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    • 1996
  • $Ti:LiNbO_3$ Mach-Zehnder 진행파형 광변조기의 CPW(coplanar waveguide) 전극구조, 특히 taper영역을 해석하기 위해서 SOR(successive over relaxation)법을 이용하였다. 변조기의 taper영역에서는 임피던스 정합, 즉 $Z_c 가 50\omega$이 만족되는 전극구조를 설계하였다. 변조기의 변조영역에서는 $Z_c=50\omega, n$$Z_c$ c/=50.OMEGA., n=2.26인 설계파라미터와, n$_{eff}$=2.2, Z$_{c}$=47.7.OMEGA.인 설계파라미터를 찾았다.

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전기이중층의 임피던스 파라미터 I. 백금전극을 사용한 전해쎌 임피던스 파라미터의 결정방법 (Impedance Parameters of Electrical Double Layer I. A Determination Method of Electrolytic Cell Impedance Parameter on the Platinum Electrode)

  • 황김소;김은식
    • 대한화학회지
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    • 제30권3호
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    • pp.273-281
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    • 1986
  • 본 연구는 임피던스 파라미터(전기이중층 내의 미분용량 $C_d$, 용핵저향 $R_Q$, 전하이동저항 $R_t$,및 흡착유사용량 $C{\phi}$)를 결정하기 위해 정확한 측정식을 얻는데 주력하낟. 정현파가 정상상태에 있을 때 복소수함수 ${\omega}$중의 허수부분만을 으용하여 구한 전체임피던스식은 낮은 주파수에서 $|Z_{LF}|=1/{\omega}_{1C\phi}{\sqrt{1+{{\omega}_1}^2/{\omega}^2}$에, 높은 주파수에서는 $|Z_{HF}|={\omega}_2/({\omega}_1{\omega}_3C{\phi})({\omega}^2+{{\omega}_2}^2){\sqrt{{({\omega}^2+{\omega}_2{\omega}_3)}^2+{({\omega}_2{\omega}-{\omega_3{\omega})^2}}$에 따름을 나타낸다. 이들 임피던스 파라미터의 계산에 필요한 전체임피던수, 위상각 및 쎌전류값을 .5M $NA_2SO_4$ 또는 1M NaCl, 19.373% 해수, 1M HCl, 1M $KNO_3$ 지지전해질과 이들의 지지전해질내에 각각 $10^{-2}M Kl$ 또는 6mM DBNA를 첨가하여 20~60Hz 범위에서 실험적으로 측정하였다. 본 연구에서 유도한 식은 임피던스 파라미터 $C_d,\;C_{\phi},\;R_t$$R_Q$의 값들이 각각 $15{\sim}4{\mu}F/cm^2,\;162{\sim}758{\mu}F/cm^2,\;11.5{\sim}57.6ohm{\cdot}cm^2$$0.5{\times}10^{-2}{\sim}4.1{\sim}10^{-2}\;ohm{\cdot}cm^2$임을 보여준다.

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완전 스위칭이 가능한 Ti:LiNbO3 진행파 광변조기 (Traveling-wave Ti:LiNbO3 optical modulator capable of complete switching)

  • 곽재곤;김경암;김영문;정은주;피중호;박권동;김창민
    • 한국광학회지
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    • 제14권5호
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    • pp.545-554
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    • 2003
  • Ti:LiNbO$_3$세 도파로 방향성 결합기와 CPW진행파 전극으로 구성된 완전 스위칭이 가능한 외부 광변조기를 설계, 제작하였다. 결합 모드 이론을 이용하여 세 도파로 광결합기의 스위칭 현상을 해석하였으며, 유한차분법을 이용하여 단일 모드를 갖는 광도파로의 설계 및 공정 파라미터를 도출하였으며, 이를 이용하여 광 결합길이를 계산하였다. 등각사상법과 반복이완법을 이용하여, CPW구조 진행파 전극의 특성임피던스와 M/W(Micro wave)유효굴절률 정합조건을 동시에 만족하는 설계 파라미터를 도출하였다. 제작된 세 도파로 광변조기의 삽입손실과 스위칭 전압은 약 4㏈와 19V였으며, S 파라미터를 측정하여 특성임피던스 Z$_{c}$=45 Ω M/W 유효굴절률 N$_{eff}$=2.20, 그리고 감쇠상수 $\alpha$$_{0}$=0.055/cm√GHZ 등의 진행파 전극 파라미터를 추출하였다. 추출된 진행파 전극 파라미터를 이용하여 이론적인 주파수 응답 R($\omega$)을 계산하였으며, Photo Detector로 측정된 주파수 응답과 비교하였다. 주파수 응답 측정 결과, 3㏈ 변조대역폭은 13 GHz로 측정되었다.

표면평균기울기를 이용한 암석절리면의 3차원 거칠기 분석에 관한 연구 (A Study on 3D Roughness Analysis of Rock Joints Based on Surface Angularity)

  • 이덕환;이승중;최성웅
    • 터널과지하공간
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    • 제21권6호
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    • pp.494-507
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    • 2011
  • 암석의 절리면 거칠기 평가에 있어서 최적의 거칠기 파라미터를 선택하는 것은 중요한 문제이다. 선행연구에서 절리면 거칠기의 평가는 여러 가지 통계적 방법에 의해 2차원적으로 이루어져왔다. 본 연구에서는 Barton과 Choubey(1977)가 제안한 표준 프로파일(JRC)을 3차원 표면으로 확장하고, 표면평균기울기를 적용하여 절리면 거칠기를 정량화 하였다. 그리고 $Z_2$, Ai파라미터와 비교하여 표면평균기울기를 이용한 거칠기 정량화의 타당성을 검증하였으며, 복제시료를 이용한 절리면 전단시험을 통하여 전단강도와 표면평균기울기의 관계를 분석하였다.

2-(n-Octyl)-3-(n-propyl)isothiourea 유도체의 살충활성에 미치는 N-치환 Amino group의 영향 (Influence of N-substituted Amino Group on the Insecticidal Activity of 2-(n-Octyl)-3-(n-propyl)isothiourea Derivatives)

  • 정경채;전동주;김대황;성낙도
    • Applied Biological Chemistry
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    • 제38권2호
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    • pp.163-167
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    • 1995
  • 살충성Buprofezine분자의 구조를 변형한 20종의 새로운 isothiourea유도체(S)를 합성하고 N-치환(Z)amino기의 변화에 따르는 6종의 해충에 대한 살충활성을 검토한 바, 배추 좀나방(Plutella Xylostella Linnaeus)에 대하여 현저하게 선택적인 살충성을 나타내었다. N-치환(Z) amino기의 치환기(Z)가 변화함에 따른 물리-화학적 파라미터와 배추 좀나방에 대한 살충활성값 (Obs. $pI_{50}$)과의 구조-활성 관계(SAR)식으로부터 살충활성에 미치는 물리-화학적 파라미터의 영향은 MR>${\pi}$>$L_1$의 순이었으며, 이들 파라미터의 적정값(optimal value)은 각각 $L_1=5.22{{\AA}}$, $MR=15.70(Cm^3/mol)$${\pi}=1.60$이었다. 이 값을 만족하는 치환기(Z)로는 탄소 원자수가 3개로 구성된 iso-propyl 치환체(5)로써 가장 큰 살충성(Obs. $pI_{50}=3.00$)을 나타내었다.

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랜덤중점변위법에 의한 거칠기의 생성 및 활용에 관한 연구 (Generation of Roughness Using the Random Midpoint Displacement Method and Its Application to Quantification of Joint Roughness)

  • 서현교;엄정기
    • 터널과지하공간
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    • 제22권3호
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    • pp.196-204
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    • 2012
  • 거칠기에 대한 정량화는 암석 절리의 강도 및 변형, 수리특성 등을 연구함에 있어서 매우 중요하다. 이 연구는 절리 거칠기를 모사하고 거칠기의 속성을 고찰하였다. 프랙털 파라미터와 프로파일 특성치를 입력변수로 설정하여 랜덤중점변위법에 기반한 이차원적 정상성 브라운 프로파일이 생성되었다. 또한, 랜덤중점변위법을 사용하여 삼차원적 거칠기 면을 모사하는 절차가 제시되었다. 이 연구의 거칠기 모사기법은 절리 거칠기와 관련된 해석적 연구를 수행하기 위한 요소 기술로 활용될 수 있다. 자기유사 거칠기 프로파일에 대하여 통계적 거칠기 파라미터를 적용한 결과 미소 거칠기의 기울기와 관련된 $Z_2$, $SL_{ave}$, $SD_{SL}$ 등의 통계적 파라미터는 상관구조, 진폭 등의 거칠기 속성을 고려할 수 있으나 측점간격의 변화에 영향을 받는 것으로 나타났다.