A study on the optimal parameter design of rapid thermal processing to improve wafer temperature uniformity (8인치 웨이퍼의 온도균일도향상을 위한 고속열처리공정기의 최적 파라미터에 설게에 관한 연구)
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- Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics D
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- v.34D no.10
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- pp.68-76
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- 1997