• 반도체디스플레이기술학회지
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• 제19권4호
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• pp.18-21
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• 2020

Undetected wafer slip during the lift pin-down motion in semiconductor equipment may affect the center to edge variation, wafer warpage, and pattern misalignment in plasma equipment. Direct measuring of the amount of wafer slip inside the plasma process chamber is not feasible because of the hardware space limitation inside the plasma chamber. In this paper, we demonstrated a practice for the wafer lift pin-up and down motions with respect to the gear ratio, operating voltage, and pulse width modulation to maintain accurate wafer position using remote control linear servo motor with an experimentally designed chamber mockup. We noticed that the pin moving velocity and gear ratio are the most influencing parameters to be control, and the step-wised position control algorithm showed the most suitable for the reduction of wafer slip.

• 한국지능시스템학회:학술대회논문집
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• 한국퍼지및지능시스템학회 2001년도 추계학술대회 학술발표 논문집
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• pp.87-90
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• 2001

This paper is concerned with the estimation of a wafer part in grasping system. The estimation of a wafer size in grasping system is very important because a wafer must be placed in accurate position. The accurate information of a wafer size should be forward to Robot in order to place a wafer in accurate position. So in this paper, we decide the size of a wafer with Fuzzy Logic and consider the possibility of this method by simulation.

• 제어로봇시스템학회논문지
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• 제12권11호
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• pp.1095-1101
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• 2006

The clean tube system was developed as a means of transferring air-floated wafers inside a closed tube filled with super clean air. This paper presents a wafer position sensing method in the clean tube system, where the photo proximity sensors are used. The first presented method uses the two positions sensed lately in order to compute the wafer center position. The next method uses the latest sensed position and the next latest position compensated with the information of the wafer velocity. The third method uses the kalman filter, which enable us to use all the previous sensing information. The simulation results are compared to show results of the presented method. In addition, the paper presents a control method to stop the wafer at the center of the unit in the clean tube system. The experimental clean tube system worked successfully with the applying the both presented methods of sensing and control.

• 한국멀티미디어학회논문지
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• 제13권3호
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• pp.400-409
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• 2010

본 논문에서는 반도체 생산 공정 중 클리닝 공정 설비에서, 웨이퍼의 장착 위치를 인식하는 영상 인식 시스템을 제안한다. 제안한 시스템은 웨이퍼의 위치 이탈에 따른 위치오차 발생 시 이를 클리닝 설비에 전달하여, 웨이퍼 클리닝 장비의 파손을 방지하여 시스템의 신뢰성과 경제성을 높이기 위한 것이다. 시스템의 주요 알고리즘은 카메라에 획득된 영상과 실제 웨이퍼간의 캘리브레이션 방법, 적외선 조명 및 필터 설계, 최소자승법 기반의 원 생성알고리즘에 의한 중심위치 판별법이다. 제안한 시스템은 고 신뢰성과 고 정밀의 위치인식 알고리즘을 사용하여, 효율적으로 웨이퍼 인라인 공정에 설치함을 목표로 하며 실험결과 충분한 허용 기준 내에서 오차를 검출해내는 좋은 성능을 보여준다.

• 한국정밀공학회:학술대회논문집
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• 한국정밀공학회 1997년도 추계학술대회 논문집
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• pp.484-487
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• 1997

The dicing is a process of gaining chip from a wafer. It is done by some mechanism to lengthwise and crosswise. Here, it is focused on measuring a depth of the wafer hefore a process of the dicing. First of all, it checks a precise outer position for the wafer on table to gain the chip. Second, the xafer should he lined after Imowing how much depth, it is in out of the outer position of the wafer. Here suggests that there are a composition of mechanical system, how to measure a depth out of scriber axis, a result from testing.

• 한국반도체및디스플레이장비학회:학술대회논문집
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• 한국반도체및디스플레이장비학회 2003년도 춘계학술대회 발표 논문집
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• pp.74-79
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• 2003

This paper is concerned with the estimation of a wafer part in grasping system. The estimation of a wafer size in grasping system is very important because a wafer must be placed in accurate position. The accurate information of a wafer size should be forward to Robot in order to place a wafer in accurate position. So in this paper, we decide the size of a wafer with Fuzzy Logic and consider the possibility of this method by simulation.

• 한국정보과학회논문지:소프트웨어및응용
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• 제31권6호
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• pp.792-798
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• 2004

본 논문에서는 웨이퍼 영상에서 다이 위치를 인식하기 위한 새로운 코너점 검출 방법을 제안한다. 웨이퍼 다이 위치 인식은 WSCSP(Wafer Scale Chip Scale Packaging)기술에 필수적인 과정으로서 웨이퍼 윗면의 다이 패턴을 얼마나 정확히 인식하느냐에 따라서 후 공정의 정확도가 결정된다. 본 논문에서는 정확한 다이 위치를 인식하기 위하여 계층적 명암 영상 코너 검출 방법을 제안한다. 새로운 코너 검출자는 코너 영역을 마스크 크기에 따라서 동심원으로 나누어 각각의 동심원에서의 코너성과 방향성을 구하여 정확한 코너점을 검출하도록 하였다. 또한 계층적 구조를 가지고 처리하여 기존의 명암 영상코너 검출자 보다 더 빠른 처리 속도를 얻을 수 있도록 하였다.

• 한국멀티미디어학회논문지
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• 제14권5호
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• pp.632-641
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• 2011

본 논문에서는 반도체 생산 공정 중 클리닝 공정 설비에서, 웨이퍼의 장착 위치를 인식하는 영상 인식 시스템을 제안한다. 제안한 시스템은 웨이퍼의 위치 이탈에 따른 위치오차 발생 시 이를 클리닝 설비에 전달하여, 웨이퍼 클리닝 장비의 파손을 방지하여 시스템의 신뢰성과 경제성을 높이기 위한 것이다. 제안한 방법은 기존의 시스템에서 체스보드 형태의 캘리브레이터를 사용시 발생되는 오차를 줄이기 위하여 방사형 캘리브레이터를 디자인 및 제작하고 이의 매핑합수를 구하는데 있다. 제안한 시스템은 고 신뢰성과 고 정밀의 위치인식 알고리즘을 사용하여, 효율적으로 웨이퍼 인라인 공정에 설치함을 목표로 하며 실험결과 기존의 방법에 비해 충분한 허용 기준 내에서 오차를 검출해내는 좋은 성능을 보여준다.

• 제어로봇시스템학회:학술대회논문집
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• 제어로봇시스템학회 2000년도 제15차 학술회의논문집
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• pp.161-161
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• 2000

The clean mobile robot for wafer transfer is AGV that carry each wafer to each equipment. It has wafer handling technology, wafer ID recognition technology, position calibration technology using vision system, and anti-vibration technology. Wafer loading/unloading working accuracy is within ${\pm}$1mm, ${\pm}$3$^{\circ}$. By application of this AGV, we can reduce the manufacturing tack time and bring cost down of equipment.

• 한국멀티미디어학회논문지
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• 제16권6호
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• pp.782-794
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• 2013

본 논문에서는 카메라를 이용한 웨이퍼 위치 인식 알고리즘을 제안한다. 먼저 챔버 외부의 조명 반사와 카메라로 인한 영상의 원근 왜곡을 제거하기 위하여 투영 변환을 적용하여 실제 웨이퍼와 같이 정원의 형태로 복원한다. 다음, 에지 검출 알고리즘을 이용하여 웨이퍼의 외부 경계를 추출한 후, 일반화 대칭 변환을 적용하여 원을 검출함으로서 웨이퍼의 위치를 검사한다. 일반화 대칭 변환은 영상에서 화소쌍들 사이의 대칭값을 거리 가중치 함수, 위상 가중치 함수, 화소들의 기울기 크기와 로그 맵핑이 결합되어 영상에서 관심 영역을 추출한다. 제안하는 방법을 적용하여 웨이퍼가 올바른 위치에 장착되었는가를 검사하여 클리닝 시스템 장비와 웨이퍼의 파손을 미연에 방지한다.