Hydrothermal deposition of hydroxyapatite coatings on $Al_2$O$_3$ substrates was studied using aqueous solutions of Ca(NO$_3$)$_2$ㆍ4$H_2O$ and (NH$_4$)$_2$HPO$_4$ containing EDTA disodium salt as a chelating agent for $Ca^{2+}$. For the precipitation of the coatings the EDTA-Ca$^{2+}$ chelates were dissociated thermally at 20$0^{\circ}C$ or decomposed by oxidation with $H_2O$$_2$ at 9$0^{\circ}C$. Scanning electron microscopy and X-ray diffraction were used to investigate the deposition behavior and the phase of the coatings. Hydroxyapatite coatings were not deposited with the thermal dissociation method, whereas uniform deposition of the coatings (about 0.7 $\mu\textrm{m}$ thickness) was obtained with the oxidative decomposition method. The coatings consisted of fine rod-like hydroxyapatite crystals (hexagonal structure) with 60-80 nm diameters, having some preferred orientation with their length (i.e., the c axis) perpendicular to the substrate.ate.
We report on the successful fabrication of ZnO nanorod (NR)/polystyrene (PS) nanosphere hybrid nanostructure by combining drop coating and hydrothermal methods. Especially, by adopting an atomic layer deposition method for seed layer formation, very uniform ZnO NR structure is grown on the complicated PS surfaces. By using zinc nitrate hexahydrate $[Zn(NO_3)_2{\cdot}6H_2O]$ and hexamine $[(CH_2)_6N_4]$ as sources for Zn and O in hydrothermal process, hexagonal shaped single crystal ZnO NRs are synthesized without dissolution of PS in hydrothermal solution. X-ray diffraction results show that the ZnO NRs are grown along c-axis with single crystalline structure and there is no trace of impurities or unintentionally formed intermetallic compounds. Photoluminescence spectrum measured at room temperature for the ZnO NRs on flat Si and PS show typical two emission bands, which are corresponding to the band-edge and deep level emissions in ZnO crystal. Based on these structural and optical investigations, we confirm that the ZnO NRs can be grown well even on the complicated PS surface morphology to form the chestnut-shaped hybrid nanostructures for the energy generation and storage applications.
Two different coverlayers which is useful for an optical buffer and a mechanical protection made of not only UV resin but also polycarbonate coversheet were prepared on small form factor optical disks. Thin coverlayer of 10 ${\mu}m$ and thick coverlayer of 80 ${\mu}m$ were fabricated. 10 ${\mu}m$-thick coverlayer was coated using UV resin material by spin coating method for the flying optical head application. On the other hand, 80 ${\mu}m$-thick coverlayer using coversheet with the resin bonding material was prepared for the non-flying optical head application. Both cases, the thickness uniformity seem to be the primary prerequisite factor, and it was analyzed. Thickness of 10 ${\mu}m$-thick UV resin coverlayer could be controlled within ${\pm}0.2m$ range and 80 ${\mu}m$-thick coversheet could be controlled within ${\pm}3{\mu}m$ range. However, the yield of such thickness tolerance was not good. New design of metal housing holder and polycarbonate outer ring was adopted to diminish the ski-jump phenomenon. Specifically, the polycarbonate outer ring was very effective to reduce the ski-jump. However, it should be careful to maintain uniform edge between disk and ring for the perfect coverlayer.
Electroplating of Ag and Au on the functional area of lead frames are required for good bonding ability in IC packaging. As the patterns of the lead frame become finer, development of new deposition technology has been required for solving problems associated with process control for uniform thickness on selected area. Sputtering was employed to investigate the adhesion between substrate Alloy42 and Ag film as a new candidate process alternative to conventional electroplating. Coating thickness of Ag film was controlled to 3.5$\mu\textrm{m}$ at room temperature as a reference. The deposition of film was optimized to ensure the adhesion by process parameters of substrate heating temperature at $100~300^{\circ}C$, sputter etching time at -300V for 10~30min, bias voltage of -100~-500V, and existence of Cr interlayer film of $500\AA$. The critical $load L_{c}$ /, defined as the minimum load at which initial damage occurs, was the highest up to 29N at bias voltage of -500V by scratch test. AFM surface image and AES depth profile were investigated to analyze the interface. The effect of bias voltage in sputtering was to improve the surface roughness and remove the oxide on Alloy42.
A single layer ultrafiltration(UF) ceramic membrane was prepared using boehmite sol. Boehmite was synthesized using a typical sol-gel process with optimization of the viscosity, pH, molar ratio of aluminum isopropoxide(AIP) and $HNO_3$. Boehmite sol was coated on a microfiltration(MF) support using the dip-coating method. MF support was dipped into the boehmite sol with a withdrawal speed of 5 mm/s and was maintained for 10 s in the boehmite sol, resulting in a uniform UF membrane layer of $10{\mu}m$ thickness. The porosity of the obtained membrane was measured and found to be 41.2%; the pore size was found to range from 80~100 nm, corresponding to the pore size of the UF membrane. The flux of the obtained membrane was initially 540 $L/m^2h$ and approximately 85% of the initial flux was recovered using a periodic back-flushing process.
The digital signage display is actively researched as the next generation of large FPD. To commercialize those digital signage display, the manufacturing cost must be downed with printing method instead of conventional photolithography. Here, we demonstrate a reverse offset printed TFT electrodes for the digital signage display. For the fabricated source/drain and gate electrode, we used Ag ink, silicone blanket, Clich$\acute{e}$ and reverse offset printer. We printed uniform TFT electrode patterns with narrow line width(10 ${\mu}m$ range) and thin thickness(nm range). In the end the printing source/drain and gate electrode are successfully achieved by optimization of experimental conditions such as Clich$\acute{e}$ surface treatment, ink coating process, delay time, off/set process and curing temperature. Also, we checked that the printing align accuracy was within 5 ${\mu}m$.
The hydraulic control valve, used in the CPB (cold-pad-Batch) cold dyeing system, passes through a pressurized material that absorbs the dye. The hydraulic control of the hydraulic control panel shall be driven in a uniform and precisely controlled manner, as it interferes directly with the dyschromatism. In this study, an acceleration test model was employed to verify the durability of the hydraulic control of the hydraulic control panel, which was manufactured by the scenic model, and the pre-roll angle was analyzed before the performance of acceleration test. Based on the change in the amount of deformation of the padder roll the durability of the padder roll was analyzed along with verification of the durability of the skin and the rubber coating in contact with the fabric. Furthermore, the accelerated test method used for hydraulic controlled multi-cell padder rolls was verified.
졸-겔 기술에 의해 $WO_3$ 다충박막이 유리와 ITO coated glass 위에 증착되었다. 특성은 XRD, 분광광도계, DTA/TGA, SEM/EDAX 그리고 RBS에 의해서 분석되었다. 균질한 $WO_3$막은 유리기판위에 dipping속도 5mm/s에서 증착 되었으며 이 시료는 희석된 HCI 전해액을 사용하여 착색시킨 결과 낮은 근적외선 투과율을 나타내었다. DTA 결과 $380^{\circ}C{\sim}500^{\circ}C$ 범위의 gel data는 $WO_3$의 결정화 온도 형성을 결정하였으며 이 측정치는 졸-겔 박막의 결정화 온도와 일치하였다. RBS에 의해 착색되지 않은 $WO_3$ 졸-겔 막의 화학조성은 $WO_3$였다.
비행체를 레이더의 시야에 들어나지 않도록 하기 위한 은신 (stealth) 기술은 일반적으로 비행체 표면에 특수도료를 도포하는 방식을 사용하여 실현하고 있지만 요즈음 플라즈마의 전자기파 흡수 능력을 이용하려는 연구가 활발히 진행되고 있다. 대기압 플라즈마가 은신기술에 응용될 수 있는가 우선 물리적인 타당성을 알아보기 위해 이 논문에서는 대기층에서 비행하는 비행체 표면을 어떤 정도의 플라즈마로 얼마나 덮어야 원하는 은신 기능을 나타낼 수 있는지 판단할 수 있도록 비 자장, 비 균일, 평판 플라즈마 모델을 사용하여 계산한 결과를 제시하고 논의한다.
Vanadium dioxide ($VO_2$) of monoclinic phase exhibits Metal Insulator Phase Transition (MIPT) phenomenon involving a sharp change in electrical and optical properties at $68^{\circ}C$. Solution-based process is applied to form uniform $VO_2$ coating layer on ceramic tiles. This can selectively block the near-infrared light to possibly reduce the energy loss and prevent dew condensation caused by the temperature difference. Heat treatment conditions including temperature and dwell time were examined to obtain a monoclinic $VO_2$ single phase. Both rutile and monoclinic $VO_2$ phases were observed from in the tiles post-annealed below $700^{\circ}C$. Desired monoclinic $VO_2$ single phase was grown in the tiles heat treated at $750^{\circ}C$. Nano facets of irregular size were observed in the monoclinic $VO_2$ phase involving the phase-transition. Grain growth of monoclinic $VO_2$ phase was observed as a function of dwell time at $750^{\circ}C$.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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