Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2007.06a
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pp.359-360
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2007
In this paper, the elastic modulus and hardness of poly 3C-SiC thin films growed by APCVD were measured using nanoindentation test. The resulting values of elastic modulus E and hardness H of the poly 3C-SiC film are 305 GPa and 26 GPa, respectively. The mechanical properties of the poly 3C-SiC film are better than bulk Si wafers. Therefore, the poly 3C-SiC thin film is suitable for abrasion resistance, high frequency, and bio MEMS applications.
For connector material applications, the influence alloying elements of Mn, Cr, Fe, and Ti and cold rolling reduction on the mechanical property, electrical conductivity and bendiability of Cu-Ni-Si-P alloy was investigated. The hot rolled plates were solution treated at $980^{\circ}C$ for 1.5 h, quenched into water, cold rolled by 10% and 30% reduction in thickness, and then aged at $440{\sim}500^{\circ}C$ for 3, 4, 5 times. respectively. Cu-Ni-Si-P-x alloys cold rolled by 10 reduction before heat treatment have a good bendability compare to cold rolled by 30 reduction. Cu-3.4Ni-0.8Si-0.03P-0.1Ti shows the peak strength value of 759 MPa, an electrical conductivity of 39%IACS, an elongation of 10% and a hardness of 256 Hv aged at $440^{\circ}C$ for 6 hrs. Thus it is suitable for lead frame and connector.
Journal of the Korean institute of surface engineering
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v.56
no.5
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pp.335-340
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2023
Quinary component of 3㎛ thick Ti-Al-Si-Cu-N films were deposited onto WC-Co and Si wafer substrates by using an arc ion plating(AIP) system. In this study, the influence of copper(Cu) contents on the mechanical properties and microstructure of the films were investigated. The hardness of the films with 3.1 at.% Cu addition exhibited the hardness value of above 42 GPa due to the microstructural change as well as the solid-solution hardening. The instrumental analyses revealed that the deposited film with Cu content of 3.1 at.% was a nano-composites with nano-sized crystallites (5-7 nm in dia.) and a thin layer of amorphous Si3N4 phase.
In this study we investigated magnetism and magnetostriction of B2-structured FeX (X = Al, Si, Ni, Ga, Ge, and Sn) using a first-principles method, in order to survey the possibility of developing a transition metal based magnetostriction material. The Full-potential Linearized Augmented Plane Wave method was employed for solving the Kohn-Sham equation within the generalized gradient approximation for exchange-correlation interaction between electrons. FeX alloys are stabilized in ferromagnetic states except for the FeSi and FeGe alloys. Magnetostrcition coefficients of FeX (X = Al, Ni, Ga, and Sn) were calculated to be -5, +6, -84, -522ppm, respectively. It is noteworthy that the magnetostriction coefficient (-522ppm) of FeSn is larger than that (+400ppm) of Gafenol.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2009.06a
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pp.214-215
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2009
This paper presents the fabrication and characteristics of microheaters, built on AlN(0.1 um)/3C-SiC(1 um) suspended membranes. Pt was used as microheater and temperature sensor materials. The results of simulated are shown that AlN/3C-SiC membrane has more large uniform-temperature area than $SiO_2$/3C-SiC membrane. Resistance of temperature sensor and power consumption of microheater were measured and calculated. Pt microheater generates the heat of about $550^{\circ}C$ at 340 mW and TCR of Pt temperature sensor is about 3188 ppm/$^{\circ}C$.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2009.06a
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pp.217-217
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2009
This paper describes the characteristics of polycrystalline 3C-SiC doubly clamped beam micro resonators. The polycrystalline 3C-SiC doubly clamped beam resonators with 60 ~ 100 ${\mu}m$ lengths, $10\;{\mu}m$ width, and $0.4\;{\mu}m$ thickness were fabricated using a surface micromachining technique. Polycrystalline 3C-SiC micro resonators were actuated by piezoelectric element and their fundamental resonant frequency was measured by a laser vibrometer in vacuum at room temperature. For the 60 ~ 100 ${\mu}m$ long cantilevers, the fundamental frequency appeared at 373.4 ~ 908.1 kHz. The resonant frequencies of doubly clamped beam with lengths were higher than simulated results because of tensile stress. Therefore, polycrystalline 3C-SiC doubly clamped beam micro resonators are suitable for RF MEMS devices and bio/chemical sensor applications.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2009.06a
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pp.237-237
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2009
Zinc oxide (ZnO) thin film was deposited on Si substrates using polycrystalline (poly) 3C-SiC buffer layer, in which the ZnO film was grown by sol-gel method. Physical characteristics of the grown ZnO film was investigated experimentally by means of SEM, XRD, FT-IR (Furier Transform-Infrared spectrum), and AFM. XRD pattern was proved that the grown ZnO film on 3C-SiC layers had highly (002) orientation with low FWHM (Full width of half maxium). These results showed that ZnO thin film grown on 3C-SiC buffer layers can be used for various piezoelectric fields and M/NEMS applications.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2010.06a
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pp.6-6
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2010
This paper describes that single crystal cubic silicon (3C-SiC) films have been deposited on carbonized Si(100) substrate using hexamethyldisilane(HMDS, $Si_2(CH_3)_6$) as a safe organosilane single-source precursor and a nonflammable mixture of Ar and $H_2$ gas as the carrier gas by APCVD at $1280^{\circ}C$. The 3C-SiC film had a very good crystal quality without defects due to viods, a very low residual stress.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2010.06a
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pp.27-27
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2010
This paper describes the electrical and optical characteristics of $N_2$ doped porous 3C-SiC films. Average pore diameter is about 30 nm and etched area was increased with $N_2$ doping rate. The mobility was dramatically decreased in porous 3C-SiC. The band gaps of polycrystalline 3C-SiC films and doped porous 3C-SiC were 2.5 eV and 2.7 eV, respectively.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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