4-NQO에 대한 감수성을 이용한 A.nidulans uvs 유전자들의 epistatic grouping은 자외선 및 MMS의 감수성을 이용한 grouping과 동일한 결과를 보였다. 한편, MMS에 대한 감수성을 기준으로 분류한 epistasis group에서 uvsA는 UvsF group 유전자인 uvsF 및 uvsH와 synergistic interaction을 보였으며, uvsA;uvsB 및 uvsA;uvsC 이배체는 uvsB, uvsC의 반수체와 동일한 감수성을 나타내었다. Germination한 뒤 4시간 후의 자외선 감수성을 기준으로 한 uvsI의 epistatic grouping은 conidia 상태에서 자외선을 쬐어 조사한 grouping과 유사하여, uvsH, uvsC, uvsB와 synergistic interaction을 보였다. 하지만, quiescent conidia 상태에서의 additive effect를 보인 uvsI와 uvsF 돌연변이체는 4h germination 후에는 epistatic interaction을 나타내었다. uvsI 돌연변이체의 Intergenic-intragenic recombination frequency는 야생주와 유사하였다.
돌연변이원 감수성 hyper-rec type musN 돌연변이주를 recombination 과 mutation에 관여하는 유전자들이 포함된 UvsC group에 포함시켰다. 하지만, rec- 및 UV에 의한 돌연변이가 일어나지 않는 uvsC 돌연변이주와는 달리 musN은 매우 다른 성질을 나타냈다. musN은 uvsC와는 달리 mutator가 아니었다. 또한, UV 조사에 따른 selenate resistant mutation도 야생주와 비슷한 수준으로 유발되었다. 분열하는 musN 세포에서의 UV 감수성 또한 uvsC와는 달리 정상이었다. 이같은 결과는 UcsC group이 branched pathways를 갖고 있음을 나타낸다.
DNA damage response has a central role in the maintenance of genomic integrity while mutations in related genes may result in a range of disorders including neoplasic formations. The uvsZl characterized in this report is a navel uvs mutation in Aspergillus nidulans, resulting in a nucleotide excision repair (NER) phenotype: UV-sensitivity before DNA synthesis (quiescent cells), high UV-induced mutation frequency and probable absence of involvement with mitotic and meiotic recombinations. The mutation is recessive and nan-allelic to the previously characterized uvsA101 mutation, also located on the paba-y interval on chromosome I. uvsZl skewed wild-type sensitivity to MMS, which suggests non-involvement of this mutation with BER. Epitasis tests showed that the uvsZ gene product is probably involved in the same repair pathways as UVSB or UVSH proteins. Although mutations in these proteins result in an NER phenotype, UVSB is related with cell cycle control and UVSH is associated with the post-replicational repair pathway. The epistatic interaction among uvsZl and uvsB413 and uvsH77 mutations indicates that different repair systems may be related with the common steps of DNA damage response in Aspergillus nidulans.
Aspergillus nidulans에서, UV나 4- NQO에 의한 돌연변이 유발에 있어 성내적으로 핑요한 uvsH돌연변이를 가 지고 있는 변이주를 이용하여 mitotic recombination 현상을 조사하였다. 비록 uvsH locus는 {pB 37과 centromere 사이에서의 자말적인 mitotic crossing over에는 영향플 주지 않았지만 uvsH/uvsH동형이애체에서 UV에 의한 Int te rgenic recombination은 얻어나지 않았다. 또한 서로 상보적이 아닌 riboA 1과 ribo A3 유전핵적 단시에서의 riboflavin에 대한 gene converSlOn에 있어셔 u uvsH 돌연변이는 자말석이든 LV보 유멜시켰던 이 과정에 관여하고 있지 않있다. 비록 정상석인 성 장에서는 거으1 차이가 없였지만, 세포들을 UV로 조사하였을 때 야생주에 비해 uvsH동형 이배체에서의 aneuploid발생이 높은 빈도로 나타났다.
Arabidopsis thaliana columbia의 종자에 EMS를 처리하여 돌연변이체들을 만들었고 이중 UV-B에 감수성이 높은 돌연변이체를 골랐다. 이 UV-B 감수성 돌연변이체의 원인 유전자를 밝히기 위하여 교배 실험을 한 결과 이는 Mendel 유전법칙을 따르고 단일 유전자의 돌연변이에 의하여 나타나며 열성 유전을 하는 것으로 밝혀져 이 유전자를 uvs라 하였다. 염색체상의 uvs의 위치를 밝히기 위하여 CAPS maker를 이용한 연관분석을 하고자 하였고 이를 위하여 각각 maker의 primer 10종류를 제작하였다. 이를 이용, 각 PCR 산물에 대하여 uvs mutant와는 다른 제한효소 pattern를 갖는 Lansberg와 uvs mutant를 교배시켜서 얻은 것들로부터 DNA를 추출하여 PCR을 수행하였다. 이들과 자외선과의 감수성을 연관시켜 교차율을 계산한 결과 5번 염색체의 LFY3과 가장 가까웁게 연관되어 있었다.
본 연구에서는 자외선 살균기의 미생물 오염 상태를 분석하고 위생관리 방안을 제시하고자 하였다. 본 실험에 사용된 자외선 살균기는 전라남도 소재 일부 보육시설 98곳의 자외선 살균기를 대상으로 하였다. 일반세균 및 대장균군은 식품공전 미생물 시험법에 따라 실험하였다. 일반 세균은 98개 보육시설 중 67개소(68.4%), 대장균군은 5개 소(5.1%)에서 검출되었다. 식중독세균 실험 결과 Salmonella spp. 등 6종의 식중독세균은 검출되지 않았지만 B. cereus 는 98개 보육시설 중 1개소(2.8%)에서 검출되었다. 자외선 램프 교체 주기에 따른 일반세균 검출율은 3개월 이내가 6개 보육시설 중 3개소(50%), 3개월 이상 6개월 이내가 5개 보육시설 중 3개소(60%), 6개월 이상이 87개 보육시설 중 61개소(70.1%)로 나타났다. 대장균군 검출율은 6개월 이내에는 검출되지 않았으나 6개월 이상이 87개 보육시설 중 5개소(5.7%)로 나타났다. 자외선 살균기의 미생물 오염도는 램프 교체 주기가 길어질수록 미생물 오염도가 높게 나타났다. 또한 자외선 램프 교체 주기가 6개월 이상인 87개 보육시설 중 23개소(26.4%)의 자외선 살균기 반사판에는 물기가 있고 청소상태가 불량한 것으로 나타났다. 이러한 결과를 종합해 볼 때 보육시설에서 사용 중인 자외선 살균기의 위생관리를 위해 주기적인 청소 와 자외선 램프 교체가 필요한 것으로 판단된다. 또한 보육시설 급식담당자들에게 자외선 살균기 청결과 램프 교체에 대한 지속적인 교육이 필요할 것으로 판단되었다.
식품제조 및 조리 현장에 널리 보급되어 사용되고 있는 자외선 살균소독기의 유효성과 안전성을 검정하기 위하여 자외선램프의 출력 및 거리에 따른 자외선 강도를 측정하였고, 시판 자외선 살균소독기 5종에 대하여 장치 내 자외선 분포를 조사하였으며, 자외선 누출을 검정하였다. 자외선 강도는 램프 출력에 비례하였으며, 근거리(<25 cm)에서는 램프로부터의 거리에, 원거리(>25 cm)에서는 거리의 제곱에 반비례하여 변화하였다. 자외선 살균소독기 내 자외선 강도는 선반의 중앙부에서 가장 높았고, 선반의 중심에서 전후 또는 좌우 방향으로 멀어짐에 따라 감소하였다. 선반 위치에 따른 자외선 강도는 상단 선반과 하단 선반사이에 큰 차이를 보였으며, 각 선반의 외곽부위에서는 자외선강도가 극히 약화되었다. 문틈 등 틈새가 있을 경우 이를 통한자외선 누출은 상당한 수준에 달하였으며, 누출 자외선 강도는거리에 따라 낮아졌다. 자외선이 누출되는 자외선 살균소독기에 대하여 선진국의 자외선 노출 허용량을 근거로 안전작업거리를 제시하였다.
This study's purpose is to forecast the market demand of UVS (u-Transportation Vehicle Sensor) OBU (On-board Unit) of the ubiquitous Transportation. Bass model, Logistic model, and Gompertz model were used for the forecasting market demand. Firstly, this research focused on the market size for the u-T OBU. All three models were used for the market size prediction and the average values were used. The Bass model were calibrated and the market demand for the UVS OBU of the u-Transportation system were estimated using this model.
In this paper we propose an automatic segmentation system that outputs the time alignment information of phoneme boundary using Viterbi search with HMM (Hidden Markov Model) and corrects these results by an UVS (unvoiced/voiced/silence) classification algorithm. We selecte a set of 39 monophones and a set of 647 extended phones for HMM models. For the UVS classification we use the feature parameters such as ZCR (Zero Crossing Rate), log energy, spectral distribution. The result of forced alignment using the extended phone set is 11% better than that of the monophone set. The UVS classification algorithm shows high performance to correct the segmentation results.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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