폴리카보네이트(PC) 필름에 이온 조사량과 에너지를 변화시켜 가면서 여러 종류의 이온을 조사하였다. 광 투과 특성과 화학적 조성은 각각 UV-VIS와 FTIR(ATR) spectroscopy를 이용해서 얻었다. 400 nm에서 이러한 UV-A 차단율은 에너지와 이온 조사량에 따라서 10에서 100%까지 자유롭게 조절할 수 있었다. 이온 조사된 PC 필름의 표면 전기 저항은 $10^6-10^{13}{\Omega}/cm^2$까지 전도도의 변화를 보인다. 이온 조사된 필름의 접촉각은 모재 필름의 접촉각보다 감소하였다. 폴리머 표면 형태는 atomic force microscopy(AFM)에 의해서 관찰되었다. 예상대로 더 무거운 Xe 이온 조사 후에 폴리머 필름의 파괴가 더 많았다. 그러나 Ar 이온 조사 후에 폴리머 필름의 표면 거칠기가 더 나타났다. 이것은 Xe 이온 조사의 경우 사용가능한 자유체적의 감소와 관련되어 폴리머 필름 표면층의 강력한 채움으로써 설명될 수 있다.
탄소나노튜브(CNT), 불소계 아크릴레이트 2,2,2-trifluoroethylmethacrylate(3FMA) 및 유-무기 조성비와 같은 합성조건을 달리하여 제조된 자외선 경화형 유-무기 하이브리드 코팅 막의 표면특성 및 내오존성에 대해 연구하였다. 코팅 막은 금속 알콕사이드 전구체인 tetraethoxysilane(TEOS)와 실란 커플링제인 methacryloyloxypropyltrimethoxysilane (MPTMS)로 구성된 유-무기 혼성 용액에 탄소나노튜브 및 3FMA와 자외선 경화를 위한 유기물을 첨가하여 제조된 코팅제를 자외선 경화시켜 제조하였다. 제조된 코팅 막의 내오존성 및 기재와의 접착력은 TEOS, 3FMA 및 CNT의 함량에 크게 영향을 받는다는 것을 확인하였다. 특히, 탄소나노튜브가 첨가된 코팅 막은 우수한 내오존성 및 접착력 뿐만 아니라 높은 표면경도를 나타내었다. TEOS의 경우, 함량이 증가할수록 표면경도 및 내오존성은 향상되었지만, 기재와의 접착력은 감소되었다. 불소아크릴레이트 3FMA의 경우, 함량이 증가할수록 내오존성은 향상되었지만 표면경도는 감소하였다.
A new kind of silicone-epoxy composite is reported in this research. The silicone-epoxy resin was synthesized by the hydrosilylation of tetramethycyclotetrasiloxane and 4-vinyl-1-cyclohexene 1,2-epoxy with a high reaction yield. It was found that the obtained silicone-epoxy resin shows a high reactive activity to the aluminum complex-silanol catalyst. The resin could be cured under the catalysis of $(Al(acac)_3/Ph_2Si(OH)_2$ at a concentration below 0.1 wt% to give a hard cured resin showing excellent optical clarity, UV resistance and thermal stability. It was also found that the Si-H groups facilitated the curing reaction and the silicone-epoxy resin bearing Si-H group could be cured effectively even if $Ph_2Si(OH)_2h$ was absent. Moreover, the UV resistance and thermal stability were improved significantly by the introduction of Si-H groups. This is possibly due to the reductive property of Si-H groups which can annihilate radical and peroxide effectively. This kind of silicone-containing epoxy composite might have very promising applications as optical resin, optical adhesive and encapsulation materials for electronic devices.
We optimize electrical and optical properties of thermal and SF6 plasma treated indium tin oxide (ITO)/Al based reflector for high-power ultraviolet (UV) light-emitting diodes (LEDs). After thermal and $SF_6$ plasma treatments of ITO/Al reflector, the specific contact resistance decreased from $1.04{\times}10^{-3}\;{\Omega}{\cdot}cm^2$ to $9.21{\times}10^{-4}\;{\Omega}{\cdot}cm^2$, while the reflectance increased from 58% to 70% at the 365 nm wavelength. The low resistance and high reflectance of ITO/Al reflector are attributed to the reduced Schottky barrier height (SBH) between the ITO and AlGaN by large electronegativity of fluorine species and reduced interface roughness between the ITO and Al, respectively.
Nathan, Sheila;Van Hoffen, Anneke;Mullenders, Leon H.F.;Mayne, Lynne V.
BMB Reports
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제32권6호
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pp.554-560
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1999
TTD1BI cells are non-hypersensitive to UV irradiation and perform normal genome repair of pyrimidine dimers but fail to excise 6-4 photoproducts and, concomitantly, are unable to restore RNA synthesis levels following UV irradiation. This pointed to a detect in gene-specific repair and this study was undertaken to examine repair of 6-4 photoproducts at the gene-level. The results indicated a defect in gene-specific repair of 6-4 photoproducts in active genes, although strand-specificity of 6-4 photoproduct removal was essentially similar to that of normal cells. These findings indicate that the near normal UV resistance of TTD1BI cells may be due to the inability of these cells to remove DNA lesions preferentially, as well as to the cells opting out of the cell cycle to repair damage before resuming replication.
The production of superoxide dismutase (SOD) varied in Deinococcus radiophilus, the UV resistant bacterium, depending upon different phases of growth, UV irradiation, and superoxide treatment. A gradual increase in total SOD activity occurred up to the stationary phases. The electrophoretic resolution of the SOD in cell extracts of D. radiophilus at each growth phase revealed the occurrence of MnSOD throughout the growth phases. The SOD profiles of D. radiophilus at the exponential phase received oxidative stress by the potassium superoxide treatment or UV irradiation also revealed the occurrence of a single SOD. However, these treatments caused an increase in SOD activity. The data strongly suggest that D. radiophilus has only one species of SOD as a constitutive enzyme, which seems to be a membrane-associated protein.
In this paper, a new method of laser trimming of thick film heater is studied. Various laser waves (IR, Green, UV) are used to ablation the heater and the process parameters are also presented. For given initial printed resisters, the cutting length should be prepared to obtain the target resister value in advance. Therefore, the cutting model is very important. The well-known model was tested and proven that it is valid only within a certain range of cutting length. A new model is proposed for a wide range of resister laser trimming. The cutting lengths and resister variation was obtained and formulated. To verify the presented method, the cutting lengths of each resister are calculated for various target resister value and laser trimming using UV is conducted.
본 총설에서는 외부에 사용되는 목재를 풍화인자로부터 보호하기 위해 실행되고 있는 최근의 연구동향에 대해 조사 분석하였다. 주요 기상열화 인자로부터 목재의 표면 보호를 위한 연구 동향에 대하여 조사한 결과 다음과 같은 결론을 얻었다. 목재보존제로 사용된 크롬, 구리 등의 무기화합물이 목재를 기상열화로부터 보호할 수 있는 것으로 보고되었다. 또한 ACQ처리 목재의 표면에 wax나 oil같은 소수성물질과 UV 흡수제, HALS(Hindered Amine Light Stabilizers) 등을 방부목재 표면에 precoating하면 기상열화 저항성을 강화할 수 있다고 보고되었다. 또한 방부목재 표면에 불투명 도막형성의 페인트/스테인 및 반투명스테인등이 기상열화방지에 대한 시너지 효과가 높힐수 있다는 보고들이 다수 있었다. 또한 방부목재의 표면보호를 위한 재도장 처리의 필요성이 시사되었다. 투명성의 도막에 UV방지를 위한 첨가물로서 미세입자의 ZnO 또는 $TiO_2$, Co, Cr, Fe, Mn, Ni과 Ti 등의 금속이온, Tris-resorcinol triazine derivatives, triazine 및 Benzotriazole과 같은 UV흡수제 등이 소개되었다. Methylation, acetylation 또는 alkylation 등과 같이 화학적으로 개질된 경우에는 이로 인한 중량증가가 높은 경우 기상열화 방지효과가 상승된다는 연구들이 소개되었다, 열처리목재의 기상열화 저항성에 대해서는 여러 가지 상반되는 연구보고 들이 있었고, UV저항성을 지닌 도장의 필요성이 강조된 보고가 있어 보다 심도 있는 연구의 필요성이 시사되었다.
Zhang, Chen;Zhou, Zhengfu;Zhang, Wei;Chen, Zhen;Song, Yuan;Lu, Wei;Lin, Min;Chen, Ming
Journal of Microbiology and Biotechnology
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제25권12호
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pp.2125-2134
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2015
IrrE is a highly conserved global regulator in the Deinococcus genus and contributes to survival from high doses of UV radiation, ionizing radiation, and desiccation. Drad-IrrE and Dgob-IrrE from Deinococcus radiodurans and Deinococcus gobiensis I-0 each share 66% sequence identity. However, Dgob-IrrE showed a stronger protection phenotype against UV radiation than Drad-IrrE in the D. radiodurans irrE-deletion mutant (ΔirrE), which may be due to amino acid residues differences around the DNA-binding HTH domain. Site-directed mutagenesis was used to generate a Drad-IrrE A184S single mutant, which has been characterized and compared with the ΔirrE mutant complemented strain with Drad-irrE, designated ΔirrE-E. The effects of the A184S mutation following UV radiation and mitomycin C (MMC) shock were determined. The A184S mutant displayed significantly increased resistance to UV radiation and MMC shock. The corresponding A184 site in Dgob-IrrE was inversely mutated, generating the S131A mutant, which exhibited a loss of resistance against UV radiation, MMC shock, and desiccation. qPCR analysis revealed that critical genes in the DNA repair system, such as recA, pprA, uvrA, and ddrB, were remarkably induced after UV radiation and MMC shock in the ΔirrE-IE and A184S mutants. These data suggested that A184S improves the ability against UV radiation and MMC shock, providing new insights into the modification of IrrE. We speculated that the serine residue may determine the efficiency of DNA binding, leading to the increased expression of IrrE-dependent genes important for protection against DNA damage.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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