• 제목/요약/키워드: UV Photoelectron spectroscopy

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The Effects of Ar-ion Bombardment and Annealing of D2O/Zircaloy-4 Surfaces Using XPS and UPS

  • Oh, Kyung-Sun;Kang, Yong-Cheol
    • Bulletin of the Korean Chemical Society
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    • 제28권8호
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    • pp.1341-1345
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    • 2007
  • The surface chemistry of D2O dosed Zircaloy-4 (Zry-4) surface followed by Ar-ion bombardment and annealing was studied by means of X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and Ultraviolet photoelectron spectroscopy (UPS). In the XPS study, Ar-ion bombardment caused decrease of the oxygen on the surface region of Zry-4 and therefore led to change the oxidation states of the zirconium from oxide to metallic form. In addition, oxidation states of zirconium were changed to lower oxidation states of zirconium due to depopulation of oxygen on the surface region by annealing. Up to about 787 K, the bulk oxygen diffused out to the subsurface region and after this temperature, the oxygen on the surface of Zry-4 was depopulated. UPS study showed that the valence band spectrum of the D2O exposed Zry-4 exhibited a dominant peak at around 13 eV and no clear Fermi edge was detected. After stepwise Ar+ sputtering processes, the decrease of the oxygen on the surface of Zry-4 led to suppress the dominant peak around 13 eV, the peak around 9 eV and develop a new peak of the metallic Zr 4d state (20.5-21.0 eV) at the Fermi level.

UV/Ozone 처리를 통한 Polydimethylsiloxane(PDMS) 주름 구조의 물리화학적 특성 분석 (Physicochemical Characteristics of UV/Ozone Treated Polydimethylsiloxane(PDMS) Wrinkle Structures)

  • 박홍규;박승엽
    • 한국정보전자통신기술학회논문지
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    • 제15권5호
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    • pp.321-327
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    • 2022
  • 본 논문에서는 UV/Ozone 처리를 통해 Polydimethylsiloxane(PDMS) 표면에 주름 구조를 형성하고, 물리화학적 특성 분석을 통해 줄금 구조 형성 메커니즘을 밝혔다. 30분의 UV/Ozone 처리를 통해 PDMS 표면에 주름 구조를 형성하였으며, 주사전자현미경의 단면 촬영으로 PDMS 표면의 주기적인 주름 형성을 확인할 수 있었다. 또한, XPS 스펙트럼 분석을 통해 PDMS 표면에 SiOx의 실리카 경질 표면이 UV/Ozone에 의해 만들어지는 것을 확인하였고, PDMS 표면의 경질층과 내부의 연질층 사이의 탄성 계수 불일치는 PDMS의 주름 형성의 팽윤 메커니즘을 확인시켜 준다. 본 연구 결과는 UV/Ozone 처리에 의한 PDMS 표면의 주름 구조 형성 메커니즘의 이해도를 향상시킬 뿐만 아니라, 향후 UV/Ozone 조사 조건에 따라 주름 구조의 진폭과 주기를 조정하는데 기초 연구로 쓰일 수 있을 것이다.

Fabrication of Hybrid Films Using Titanium Chloride and 2,4-hexadiyne-1,6-diol by Molecular Layer Deposition

  • 윤관혁;성명모
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2012년도 제42회 동계 정기 학술대회 초록집
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    • pp.418-418
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    • 2012
  • We fabricated a new type of hybrid film using molecular layer deposition (MLD). The MLD is a gas phase process analogous to atomic layer deposition (ALD) and also relies on a saturated surface reaction sequentially which results in the formation of a monolayer in each sequence. In the MLD process, polydiacetylene (PDA) layers were grown by repeated sequential surface reactions of titanium tetrachloride and 2,4-hexadiyne-1,6-diol with ultraviolet (UV) polymerization under a substrate temperature of $100^{\circ}C$. Ellipsometry analysis showed a self-limiting surface reaction process and linear growth of the hybrid films. Polymerization of the hybrid films was confirmed by infrared (IR) spectroscopy and UV-Vis spectroscopy. Composition of the films was confirmed by IR spectroscopy and X-ray photoelectron (XP) spectroscopy. The titanium oxide cross-linked polydiacetylene (TiOPDA) hybrid films exhibited good thermal and mechanical stabilities.

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목련잎 추출액을 이용한 Au Core-Ag Shell 합금 나노입자의 생물학적 합성 (Biological Synthesis of Au Core-Ag Shell Bimetallic Nanoparticles Using Magnolia kobus Leaf Extract)

  • 송재용;김범수
    • Korean Chemical Engineering Research
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    • 제48권1호
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    • pp.98-102
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    • 2010
  • 목련잎 추출액을 이용하여 Au core-Ag shell 합금 나노입자를 합성하였다. 환원제인 식물잎 추출액을 먼저 $HAuCl_4$ 용액과 반응시키고 다음에 $AgNO_3$ 용액과 반응시켜 금 seed와 은 shell을 형성시켰다. 반응시간에 따른 UV-visible spectroscopy의 변화를 모니터링하여 합금 나노입자의 형성을 관찰하였다. 합성된 합금 나노입자를 transmission electron microscopy(TEM), energy dispersive X-ray spectroscopy(EDS), X-ray photoelectron spectroscopy(XPS) 등으로 특성화 하였다. TEM image로부터 관찰된 합금 나노입자는 삼각형, 오각형, 육각형 등의 평판과 구 구조의 혼합물이었다. EDS와 XPS 분석으로부터 결정된 금/은 합금 나노입자의 원자 은 함량은 각각 34와 65 wt%로 Au core-Ag shell 나노구조가 형성되었음을 알 수 있었다. 이러한 core-shell 형태의 나노구조는 표면 강화 라만 분광 및 생물분자의 고감도 검출 등에 잠재적인 응용이 기대된다.

Interfacial Natures and Controlling Morphology of Co Oxide Nanocrystal Structures by Adding Spectator Ni Ions

  • Gwag, Jin-Seog;Sohn, Young-Ku
    • Bulletin of the Korean Chemical Society
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    • 제33권2호
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    • pp.505-510
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    • 2012
  • Cobalt oxide nanostructure materials have been prepared by adding several concentrations of spectator Ni ions in solution, and analyzed by electron microscopy, X-day diffraction, calorimetry/thermogravimetric analysis, UV-vis absorption, Raman, and X-ray photoelectron spectroscopy. The electron microscopy results show that the morphology of the nanostructures is dramatically altered by changing the concentration of spectator ions. The bulk XRD patterns of $350^{\circ}C$-annealed samples indicate that the structure of the cobalt oxide is all of cubic Fd-3m $Co_3O_4$, and show that the major XRD peaks shift slightly with the concentration of Ni ions. In Raman spectroscopy, we can confirm the XRD data through a more obvious change in peak position, broadness, and intensity. For the un-sputtered samples in the XPS measurement process, the XPS peaks of Co 2p and O 1s for the samples prepared without Ni ions exhibit higher binding energies than those for the sample prepared with Ni ions. Upon $Ar^+$ ion sputtering, we found $Co_3O_4$ reduces to CoO, on the basis of XPS data. Our study could be further applied to controlling morphology and surface oxidation state.

Conducting ZnO Thin Film Fabrication by UV-enhanced Atomic Layer Deposition

  • 김세준;김홍범;성명모
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2013년도 제45회 하계 정기학술대회 초록집
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    • pp.211.1-211.1
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    • 2013
  • We fabricate the conductive zinc oxide(ZnO) thin film using UV-enhanced atomic layer deposition. ZnO is semiconductor with a wide band gap(3.37eV) and transparent in the visible region. ZnO can be deposited with various method, such as metal organic chemical vapour deposition, magnetron sputtering and pulsed laser ablation deposition. In this experiment, ZnO thin films was deposited by atomic layer deposition using diethylzinc (DEZ) and D.I water as precursors with UV irradiation during water dosing. As a function of UV exposure time, the resistivity of ZnO thin films decreased dramatically. We were able to confirm that UV irradiation is one of the effective way to improve conductivity of ZnO thin film. The resistivity was investigated by 4 point probe. Additionally, we confirm the thin film composition is ZnO by X-ray photoelectron spectroscopy. We anticipate that this UV-enhanced ZnO thin film can be applied to electronics or photonic devices as transparent electrode.

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a-Si:H 분광스펙트럼 특성연구 (A Study on properties of a-Si:H layers by photoelectron spectroscopic)

  • 양현훈;김한울;김주회;김철중;이창권;소순열;박계춘;이진
    • 한국신재생에너지학회:학술대회논문집
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    • 한국신재생에너지학회 2011년도 추계학술대회 초록집
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    • pp.61.1-61.1
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    • 2011
  • We report on a detailed study on gap-state distribution in thin amorphous silicon layers(a-Si:H) with film thickness between 5 nm and 20 nm c-Si wafers performed by UV excited photoelectron spectroscopy(UV-PES). We measured how the work function, the gap state density, the position of the Fermi-level and the Urbch-energy depend on the layer thickness and the doping level of the ultra thin a-Si:H(n) layer. It was found, that for phosphorous doping the position of the Fermi level saturates at $E_F-E_V$=1.47 eV. This is achieved at a gas phase concentration of 10000 ppm $PH_3$ in the $SiH_4/H_2$ mixture which was used for the PECVD deposition process. The variation of the doping level from 0 to 20000 ppm $PH_3$ addition results in an increase of the Urbach energy from 65 meV to 101 meV and in an increase of the gap state density at midgap($E_i-E_V$=0.86eV) from $3{\times}10^{18}$ to $2{\times}1019cm^{-3}eV^{-1}$.

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A facile green reduction of graphene oxide using Annona squamosa leaf extract

  • Chandu, Basavaiah;Mosali, Venkata Sai Sriram;Mullamuri, Bhanu;Bollikolla, Hari Babu
    • Carbon letters
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    • 제21권
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    • pp.74-80
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    • 2017
  • A highly facile and eco-friendly green synthesis of Annona squamosa (custard apple) leaf extract reduced graphene oxide (CRG) nanosheets was achieved by the reduction of graphene oxide (GO). The as-prepared CRG was characterized with X-ray diffraction (XRD), transmission electron microscope (TEM), Fourier-transform infrared spectroscopy (FT-IR), ultraviolet-visible (UV-Vis), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and Raman spectroscopic techniques. Removal of oxygen containing moieties from the GO was confirmed by UV-Vis, FT-IR and XPS spectroscopic data. The XRD and Raman data further confirmed the formation of the CRG. TEM images showed the sheet structure of the synthesized CRG. These results show that the phytochemicals present in custard apple leaf extract act as excellent reducing agents. The CRG showed good dispersion in water.

투명 유연 AMOLED TV 구현을 위한 증착형 SnO2/Ag-Pd-Cu(APC)/SnO2 다층 투명 캐소드 박막 연구

  • 김두희;김한기
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2016년도 제50회 동계 정기학술대회 초록집
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    • pp.181.2-181.2
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    • 2016
  • OLED 소자는 발광 방향에 따라 Bottom Emission 방식과 Top Emission 방식으로 나뉜다. 이 중 대면적 OLED TV 적용에 개구율이 더 높은 Top Emission방식을 선호하는 추세이다. 높은 개구율을 가진 Top Emission OLED소자를 위해서는 투명하고 전도성이 높은 캐소드가 중요하다. 본 연구에서는 Themal Evaporation 시스템을 이용하여 증착한 $SnO_2/Ag-Pd-Cu(APC)/SnO_2$ hybrid 전극의 특성을 연구하고 Oxide/Metal/Oxide(OMO) hybrid 박막의 bending mechanism을 제시하였다. base pressure는 $1{\times}10^{-6}Torr$로 고정하고 $SnO_2$ 박막은 0.34A / 0.32V, APC 박막은 0.46A / 0.40V의 power로 성막하였다. APC와 $SnO_2$의 두께를 변수로 OMO 전극을 제작하였고 그 전기적, 광학적 특성을 Hall measurement, UV/Visible spectroscopy을 이용하여 분석하고 Figure of merit 값을 바탕으로 최적 두께를 설정하였다. UPS(Ultraviolet Photoelectron Spectroscopy) 분석으로 $SnO_2/APC/SnO_2$ 전극의 일함수을 통해 투명 cathode로 쓰였을 때 $SnO_2$ 층이 buffer layer역할을 함을 확인하였다. XPS(X-ray photoelectron spectroscopy)를 이용하여 정성분석과 정량분석을 하였고 OMO hybrid 전극의 bending mechanism 연구를 위해 다양한 bending test (Inner/Outer dynamic fatigue test, twisting test, rolling test)를 진행하였다. 물리적 힘이 가해진 OMO hybrid 전극의 표면과 구조는 FE-SEM(Field Emission Scanning Electron Microscope) 분석을 통해서 확인할 수 있었다.

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NiO 박막의 전기적, 전자적 및 광학적 특성

  • 김주환;박찬애;박수정;유스라마 덴니;이강일;채홍철;강희재
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2014년도 제46회 동계 정기학술대회 초록집
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    • pp.178.1-178.1
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    • 2014
  • 본 연구에서는 RF스퍼터링법에 의하여 유리기판에 NiO를 40 nm만큼 증착시킨후, 30분 동안 각각 상온, $100^{\circ}C$, $200^{\circ}C$, $300^{\circ}C$, $400^{\circ}C$로 후 열처리 하였다. 박막의 전자적, 광학적 특성은 XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy), REELS (Reflection Electron Energy Loss Spectroscopy)와 UV-Spectrometer를 이용하여 =측정하였고, Hall Effect를 이용하여 전기적 특성을 측정하였다. XPS측정결과, $400^{\circ}C$ 후 열처리 한 NiO박막은 NiO 결합인 Ni2+가 줄어 들면서 금속 결합인 Ni0가 증가하면, 상온에서 띠틈이 4.0eV, 3.4eV로 줄어드는 것을 REELS로 확인 했다. 이 값은 UV-Spectrometer를 이용한 광학적 띠틈과 같음을 보였다. Hall Effect측정 결과 $400^{\circ}C$ 후 열처리한 샘플에서 P-type에서 N-type으로 바뀜을 보였으며, 비저항이 낮아지는 경향을 보였다. UV-Spectrometer를 이용한 광학적 특성을 측정해본 결과, 가시광선영역인 380 nm~780 nm에서의 투과율이 75%이상으로 투명전자소자로의 응용이 가능하다는 것을 보여 주었다.

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