This paper investigates the change of the percolation threshold in the carbon powder-filled polystyrene matrix composites based on the experimental results of changes in the resistivity and relative permittivity of the carbon powder filling, the electric field dependence of the current, and the critical exponent of conductivity. In this research, the percolation behavior, the critical exponent of resistivity, and electrical conduction mechanism of the carbon powder-filled polystyrene matrix composites are discussed based on a study of the overall change in the resistivity. It was found that the formation of infinite clusters is interrupted by a tunneling gap in the volume fraction of the carbon powder filling, where the change in the resistivity is extremely large. In addition, it was found that the critical exponent of conductivity for the universal law of conductivity is satisfied if the percolation threshold is estimated at the volume fraction of carbon powder where non-ohmic current behavior becomes ohmic. It was considered that the mechanism for changing the gaps between the carbon powder aggregates into ohmic contacts is identical to that of the connecting conducting phases above the percolation threshold in a random resister network system. The electric field dependence is discussed with a tunneling mechanism. It is concluded that the percolation threshold should be defined at this volume fraction (the second transition of resistivity for the carbon powder-filled polystyrene matrix composites) of carbon powder.
Lee, Hyung Gyoo;Kim, Sung Jin;Kang, Il-Suk;Lee, Gi Sung;Kim, Ki Nam;Koh, Jin Won
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.29
no.3
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pp.147-151
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2016
Graphene has a monolayer crystal structure formed with C-atoms and has been used as a base layer of HETs (hot electron transistors). Graphene HETs have exhibited the operation at THz frequencies and higher current on/off ratio than that of Graphene FETs. In this article, we report on the preliminary results of current characteristics from the HETs which are fabricated utilizing highly doped Si collector, graphene base, and 5 nm thin $Al_2O_3$ tunnel layers between the base and Ti emitter. We have observed E-B forward currents are inherited to tunneling through $Al_2O_3$ layers, but have not noticed the Schottky barrier blocking effect on B-C forward current at the base/collector interface. At the common-emitter configuration, under a constant $V_{BE}$ between 0~1.2V, $I_C$ has increased linearly with $V_{CE}$ for $V_{CE}$ < $V_{BE}$ indicating the saturation region. As the $V_{CE}$ increases further, a plateau of $I_C$ vs. $V_{CE}$ has appeared slightly at $V_{CE}{\simeq}V_{BE}$, denoting forward-active region. With further increase of $V_{CE}$, $I_C$ has kept increasing probably due to tunneling through thin Schottky barrier between B/C. Thus the current on/off ration has exhibited to be 50. To improve hot electron effects, we propose the usage of low doped Si substrate, insertion of barrier layer between B/C, or substrates with low electron affinity.
JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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v.16
no.5
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pp.630-634
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2016
We report the computer aided design results for a GaSb/InAs broken-gap gate all around nanowire tunneling FET (TFET). In designing, the semi-empirical tight-binding (TB) method using $sp3d5s^*$ is used as band structure model to produce the bulk properties. The calculated band structure is cooperated with open boundary conditions (OBCs) and a three-dimensional $Schr{\ddot{o}}dinger$-Poisson solver to execute quantum transport simulators. We find an device configuration for the operation voltage of 0.3 V which exhibit desired low sub-threshold swing (< 60 mV/dec) by adopting receded gate configuration while maintaining the high current characteristic ($I_{ON}$ > $100 {\mu}A/{\mu}m$) that broken-gap TFETs normally have.
The Transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers C
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v.54
no.2
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pp.51-54
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2005
In this work, the attempt has been made to investigate the morphology of self-assembled dipyridinium dithioacetate on Au(111) substrate by Scanning Tunneling Microscopy(STM). Also, we measured electrical properties(I-V) using Scanning Tunneling Spectroscopy(STS). Sample used in this experiment is dipyridinium dithioacetate, which contains thiol functional group, this structure that can be self-assembled easily to Au(111) substrate. The self-assembly procedure was used for two different concentrations, 0.5 mM/ml and 1 mM/ml. Dilute density of sample by 0.5 mM/ml, 1 mM/ml and observed dipyridinium dithioacetate's image by STM after self-assembled on Au(111) substrate. The structure of STM tip-SAMs-Au(111) substrate has been used measurement for electrical properties(I-V) using STS. The current-voltage(I-V) measurement result, observed negative differential resistance(NDR) properties.
JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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v.13
no.6
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pp.551-555
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2013
Linearity characteristics of hetero-gate-dielectric tunneling field-effect transistors (HG TFETs) have been compared with those of high-k-only and $SiO_2$-only TFETs in terms of IIP3 and P1dB. It has been observed that the optimized HG TFETs have higher IIP3 and P1dB than high-k-only and $SiO_2$-only TFETs. It is because HG TFETs show higher transconductance ($g_m$) and current drivability than $SiO_2$-only TFETs and $g_m$ less sensitive to gate voltage than high-k-only TFETs.
Journal of Electrical Engineering and information Science
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v.2
no.6
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pp.208-211
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1997
We have fabricated a single-electron-tunneling(SET) transistor with a dual gate geometry based on the SOI structure prepared by SIMOX wafers. The split-gate is the lower-gate is the lower-level gate and located ∼ 100${\AA}$ right above the inversion layer 2DEG active channel, which yields strong carrier confinement with fully controllable tunneling potential barrier. The transistor is operating at low temperatures and exhibits the single electron tunneling behavior through nano-size quantum dot. The Coulomb-Blockade oscillation is demonstrated at 15mK and its periodicity of 16.4mV in the upper-gate voltage corresponds to the formation of quantum dots with a capacity of 9.7aF. For non-linear transport regime, Coulomb-staircases are clearly observed up to four current steps in the range of 100mV drain-source bias. The I-V characteristics near the zero-bias displays typical Coulomb-gap due to one-electron charging effect.
We developed an embedded Object-Oriented Micromagnetic Frame (OOMMF) script schemes for more flexible simulations for complex and dynamic mircomagnetic behaviors. The OOMMF can be called from any kind of softwares by system calls, and we can interact with OOMMF by updating the input files for next step from the output files of the previous step of OOMMF. In our scheme, we set initial inputs for OOMMF simulation first, and run OOMMF for ${\Delta}t$ by system calls from any kind of control programs. After executing the OOMMF during ${\Delta}t$, we can obtain magnetization configuration file, and we adjust input parameters, and call OOMMF again for another ${\Delta}t$ running. We showed one example by using scripting embedded OOMMF scheme, tunneling magneto-resistance dependent switching time. We showed the simulation of tunneling magneto-resistance dependent switching process with non-uniform current density using the proposed framework as an example.
$Pb/Bi_2Sr_2CaCu_2O_{8+\delta}$-single-crystal junctions with the tunneling direction along the c axis of the crystal were fabricated to obtain an s-wave-superconductor/d-wave-superconductor Josephson junctions. The tunneling R (T) curves and current-voltage characteristics show distinct features which can be explained only under the assumption that the order parameter of high-$T_c/Bi_2Sr_2CaCu_2O_{8+{\delta}}$ superconductors has a pure d-wave symmetry, which is in contrast to the case of $YBa_2Cu_3O_{7+{\delta$}}$erconductors where a minor s-wave component is also present..
For interlayer tunneling spectroscopy using a small stack of $Bi_2Sr_2CaCu_2O_{8+x}$ (Bi-2212) intrinsic junctions in a high-bias range, large self-heating takes place due to the poor thermal conductivity of Bi-2212. In this study, we numerically estimate the self-heating around a Bi-2212 sample stack for I-V or dI/dV-V measurements. Our results show that the temperature discrepancy between the Bi-2212 sample stack and top Au electrodes due to bias-induced self-heating is small enough along the c-axis direction of Bi-2212. On the other hand, the lateral temperature discrepancy between the sample stack and the Bi-2212 on-chip thermometer stack can be as large as ${\sim}20\;K$ for the highest bias required to observe the pseudogap hump structure. We thus suggest a new in-situ ac thermometry, employing the Au current-bias electrode itself deposited on top of the sample stack as the resistive thermometer layer, which is supposed to allow safe temperature measurements for the interlayer tunneling spectroscopy.
Proceedings of the Korean Magnestics Society Conference
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2003.06a
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pp.21-21
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2003
Microstructure and magnetic transport phenomina in rf sputtered AlN/Co type ten-layered discontinuous films of nanoscaled [AlN (3 nm)/Co (t nm)]...$\sub$10/ with t$\sub$Co/=1.0∼2.0 nm have been investigated. The microstructure and tunneling magnetic resistance of the samples are strongly dependent on the thickness of Co layer. Negative tunneling magneto-resistance due to the spin-dependent transport has been observed along the current-in-plane configuration in the samples having the Co layers below 1.6 nm thick. When the thickness of Co layer was less than 1,2 nm, randomly oriented granular Co particles were completely isolated and embedded in amorphous AlN matrix, and the films showed the superparamagnetic behavior with a high MR value of Δ$\rho$/$\rho$$\sub$0/=1.8 %. As t$\sub$Co/ increases, a transition from the regime of co-existence of superparamagnetic and ferromagnetic behaviors to ferromagnetic behavior was observed. Tunneling barrier called "decay length for tunneling" for the films having the thickness of Co layer from 1.4 to 1.6 nm was measured to be ranged from 0.004 to 0.021 ${\AA}$$\^$-1/.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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