Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2001.07a
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pp.1039-1042
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2001
A method for designing antireflection (AR) and antistatic (AS) films by the use of conducting polymer as an electrically conductive transparent layer is proposed. The conducting AR film is composed of four-layer with alternating high and low refractive index layer: silicon dioxide (n=1.44) and titanium dioxide (n=2.02) prepared at low temperature by sol-gel method are used as the low and high refractive index layer, respectively. The 3,4-polyethylenedioxythiophene (PEDOT) which has the sheet resistance of 10$^4$$\Omega$/$\square$ is used as a conductive layer. Optical constant of ARAS film was measured by the spectroscopic ellipsometer and from the measured optical constants the spectral properties such as reflectance and transmittance were simulated in the visible region. The reflectance of ARAS films on glass substrate was below 0.8 %R and the transmittance was higher than 95 % in the visible wavelength (400-700 nm). The measured AR spectral properties was very similar to its simulated results.
Lead titanate thin films were deposited on titanium substrates by a chemical vapour deposition(CVD) process involving the application of vapour mixtures of Pb, ethyl titanate( Ti($C_2H_5O_4$)), and oxygen. The lead titanate having a stoichiometric composition has a dc conductivity of $3.2{\times}10^{-12}{\Omega}^{-1}{\cdot}cm^{-1}$ at room temperature. The nonsaturating loops observed in present investigation may be attributed to the $TiO_2$ and TiO layers between the conductive substrate and the $PbTiO_3$ ferroelectric film. The ferroelectric properties of the stoichiometric $PbTiO_3$ film included a remanent polarization of 14.1 ${\mu}C/cm^2$ and a coercive field of 20.16 kV/cm.
Kim, Young-Kon;Park, Joon-B.;Lakes, R.S.;Andreasen, G.F.
Proceedings of the KOSOMBE Conference
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v.1989
no.05
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pp.9-12
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1989
A preliminary study has been conducted to demonstrate the effect of laser heat treatment on Ni Ti alloy dental arch wires ($0.016"\;{\times}\;0.022"$ and $0.018"\;{\times}\;0.026"$, rectangular shape). Changes in mechanical and thermal properties and surface morphologies are investigated by using optical and scanning electron microscope (SEM), energy dispersive x-ray microprobe analysis(EDX), differential scanning calorimeter (DSC), and micro hardness tester. The results indicate that the laser can affect the thermal equilibrium state of the localized surface. Titanium rich surface film is formed by the laser treatment. The surface film and rapidly resolidified underlying structures show better chemical resistance than the matrix material. Phase transition temperatures which are related to shape recovery temperatures are changed after laser treatment. Hardness of resolidified area and heat affected zone are lower than before treatment.
Enhancement of the surface hydrophobicity of polydimethylsiloxane (PDMS) thin films deposited on substrates covered with titanium dioxide ($TiO_2$) nanospheres was studied. First, a low-temperature solution-phase method using polyvinylpyrrolidone (PVP) as a surface capping agent and a water/dimethylformamide (DMF) mixture as the reaction medium was used to synthesize monodisperse $TiO_2$ nanospheres. It was possible to easily control hydrolysis rate of the Ti-precursors and the size of the synthesized nanospheres by varying the amount of PVP and the volume ratio of the solvent mixture. Spray coating of the synthesized $TiO_2$ nanospheres under the PDMS film increased the water contact angle of the film surface to $150.3^{\circ}$. This simple treatment can modify the surface morphology at a nanometer scale without any long or complicated nanoprocess; hence, the surface enters the superhydrophobic Cassie-Baxter regime.
Effects of process variables of HCD ion plating on the film composition of Ti(C, N) were analyzed. The mole ratio of carbon to nitrogen and that of non-metal to titanium in the film primarily depend on the partial pressure ratio of ($C-2H_2$/ $N_2$) and total reactive gas pressure, respectively. The amount of nonmetallic com-ponents increases in nonlinear fashion as the total gas pressure due to the different reactivity of $C-2H_2$ and $N_2$ gases with Ti. The nonmetallic components was saturated dwith nitrogen when the nitrogen gas was more than 60% of total reactive gas. These two process variables could be related systematically using the concept of effective pressure in which the difference of reactivity of each gas was normalized.
In this study, we developed plasma electrolytic oxidation (PEO) process for aluminum 7075 alloy to improve the corrosion and mechanical properties. The electrolyte consists of potassium hydroxide and sodium silicate. Additionally, sodium stannate was added into the electrolyte to investigate its effect on PEO film formation. Titanium was used as the counter electrode. Plasma generation voltage reduced from 300V to 150 V by adding 4 g/L of sodium stannate. The thin oxide films were observed by SEM(Scanning Electron Microscopy)/EDS (Energy Dispersive Spectroscopy) for quantitative and qualitative analyses. XRD (X-ray diffraction) and XRF (X-ray Fluorescences) analyses were also carried out to identify oxide layer on aluminum 7075 surface. Vicker's hardness test was performed on the PEO-treated aluminum 7075 surface.
Recent studies son surface coatings have shown that the change of physical, chemical and crystallographic structure analysed and observed according to the deposition process variables has the effects on the resultant film properties. Under the same preparation condition conditions of the substrate and process variables, physical morphology variations characterized by substrate temperature and bias which offect the surface mobility of adatom and adhesion variations related to the formation of Ti interlayer were considered in the present study. Microhardness showed the highest value around 40$0^{\circ}C$ of the substrate temperature and increased with the substrate bias. Adhesion was improved with the increase of substrate temperature and bias. An interlayer of pure titanium formed prior to deposition of TiN improves the adhesion at its optimum thickness. These results were explained by the change of physical morphology and phase analysis.
Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology
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2003.12a
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pp.1-6
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2003
Flow modulation chemical vapor deposition process has been reported as an alternative way to obtain low resistivity, low residual chlorine content and good step-coverage titanium nitride film. Flow and concentration characteristics in a vertical FMCVD reactor are analyzed by using computational fluid dynamics method. The results show that 1.0 second as Cl reduction period is too short and there is still $TiCl_4$ gas above the holder at the end of the period. Time variation of $TiCl_4$ gas concentration on the holder shows that at least 3.0 second is necessary as Cl reduction time for the sake of film characteristics.
Proceedings of the Korea Association of Crystal Growth Conference
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1998.09a
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pp.103-111
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1998
Au fine particle dispersed TiO2 film was prepared on silica glass substrate by sol-gel dip and firing process. The films were fabricated from the system of titanium tetraisoproxie-EtOh-HCl_H2O-hydrogen tetrachloroaurate(III) tetrahydrate. The conditions for the formation of the clear solution and dissolving high concentration of Au compound were examined. And a photoreduction process was adopted to control the size of gold metal particles. Phase evolution of matrix TiO2 and variation of Au particle with UV irradiation were investigated by XRDA, SEM, TEM and UV-visible spectrophotometer. And the effect of CPCl(Cetylpyridinium chloride monohydrate) as a dispersion agent was evaluated.
Electrochromic $WO_3$ thin films were prepared by electron beam deposition. The transmission and durability of films were investigated. Coloring and bleaching experiments were repeated in an electrolyte of propylene carbonate with 0.6M of $LiClO_4$ by cyclic voltammetry. Spectrophotometer was used to measure the transmission in the degraded films. The 5000 ${\AA}$ thick film was found to be the stable after repeated cycles. The durability of the annealed film also showed improvements over unannealed samples. Tungsten oxide films with titanium content of about $10{\sim}15$ mol% was found to be most stable, undergoing the least degradation during the repeated cycles.
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