Kim, Jong Hwan;Kim, Hyung Tae;Woo, Yoon Myung;Kim, Ki Hwan;Lee, Chan Bock;Fielding, R.S.
Nuclear Engineering and Technology
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v.45
no.5
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pp.683-688
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2013
Candidate coating materials for re-usable metallic nuclear fuel crucibles, TaC, TiC, ZrC, $ZrO_2$, and $Y_2O_3$, were plasmasprayed onto a niobium substrate. The microstructure of the plasma-sprayed coatings and thermal cycling behavior were characterized, and U-Zr melt interaction studies were carried out. The TaC and $Y_2O_3$ coating layers had a uniform thickness, and high density with only a few small closed pores showing good consolidation, while the ZrC, TiC, and $ZrO_2$ coatings were not well consolidated with a considerable amount of porosity. Thermal cycling tests showed that the adhesion of the TiC, ZrC, and $ZrO_2$ coating layers with niobium was relatively weak compared to the TaC and $Y_2O_3$ coatings. The TaC and $Y_2O_3$ coatings had better cycling characteristics with no interconnected cracks. In the interaction studies, ZrC and $ZrO_2$ coated rods showed significant degradations after exposure to U-10 wt.% Zr melt at $1600^{\circ}C$ for 15 min., but TaC, TiC, and $Y_2O_3$ coatings showed good compatibility with U-Zr melt.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.26
no.1
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pp.22-26
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2013
PTCR ceramics of $(Ba_{0.998}Sm_{0.002})TiO_3+0.001MnCO_3+xSiO_2$ (x=1, 2, 3, 4, 5, 6 mol%) were fabricated by solid state method. Disk samples of diameter 5 mm and thickness about 1mm were sintered at $1,290^{\circ}C$ for 2 h in reduced atmosphere of $5%H_2-95%N_2$ followed by re-oxidation at $600^{\circ}C$ for 30 min. in $20%O_2-80%N_2$.and their microstructures and electrical properties were investigated with SEM and Multimeter. The color of sintered samples was strongly dependent on $SiO_2$ content showing that the color of samples with $SiO_2$ of 1~2 mol% was gray but that of samples with $SiO_2$ of 4~6 mol% was changed from gray to blue, which seems to be related with the reduction of samples due to the oxygen vacancies created during the sintering in reduced atmosphere. $SiO_2$ content had a great influence on the microstructure and the electrical properties. With increasing $SiO_2$ content, the grain size of samples increased and the resistivity as well as the resistivity jump ($R_{285}/R_{min}$) decreased, which is considered to be attributed to the resistivity change at grain interior and grain boundary due to the fast mass transfer through $SiO_2$ liquide phase during the sintering. Samples with 2 mol% $SiO_2$ has the resistivity of $202{\Omega}cm$ and the resistivity jump of 3.28. It is expected that $SiO_2$ doped $BaTiO_3$ based PTC ceramics can be used for multilayered PTC thermistor due to the resistance to the sintering in reduced atmosphere.
Choi Y. G.;Son Y. J.;Kweon J. C.;Cho K. W.;Yoon M. S.;Kim I. H.;Kim Y. M.;Ur S. C.
Korean Journal of Materials Research
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v.15
no.6
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pp.413-418
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2005
Perovskite $Pb(Ni_{1/3}Nb_{2/3})O_3-Pb(Zr,Ti)O_3[PNN-PZT]$ ceramics were synthesized by conventional ceramic processing technique. In order to modify piezoelectric properties for sensor application in this system, NiO addition was considered to provide $Ni^{+2}$ as an acceptor, which was known to occupy with B site in the structure. The effect of NiO addition up to $8\;mol\%$ on the following piezoelectric properties as well as sintering properties was investigated. When NiO added more than $1\;mol\%$, average grain size was decreased and second phase was found to form. Moreover, the second phase caused decrease in relative dielectric constant $(\varepsilon_{33}T/\varepsilon0)$, electro-mechanical coupling factor $(k_p)$, and piezoelectric charge constant $(d_{33})$, while increasing mechanical quality factor $(Q_m)$. When $1\;mol\%$ NiO was added, density, dielectric properties and piezoelectric properties were abruptly increased.
Bang, Ki Su;Jeong, So Un;Lim, Jung Wook;Lee, Seung-Yun
Journal of the Korean Vacuum Society
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v.22
no.1
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pp.13-19
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2013
It is expected that progress in building-integrated photovoltaic (BIPV) systems, improving the functionality and design of buildings, will be accelerated in the coming years. While the dye sensitized solar cell is considered one of the most important technologies in the BIPV field, the transparent silicon based thin film solar cell fabricated by thin film processes has drawn attention as a novel alternative. When the selective transmitting layer is applied to the solar cell, the conversion efficiency is improved due to the re-reflection of infrared light into an absorber layer with the transmission of visible light through the solar cell. In this work, we prepared Al-Ti based oxide thin films using cost-effective sputter deposition and examined their selective transmitting characteristics with various compositions. The transmittance and reflectance of the Al-Ti based oxide thin film changed with the variation of its composition, and the selective transmitting property was observed in the sample with the 25 nm-thick AlTiO layer. It is considered that the realization of transparent solar cells and the improvement of their conversion efficiency can be achieved by introducing the Al-Ti based selective transmitting layer.
Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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v.15
no.5
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pp.175-181
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2005
Ingots of rutile single crystals were grown by the skull melting method, and their characteristics were compared in terms of melt-dwelling time for each melt. The method is based on direct inductive heating of an electrically conducted melt by an alternating RF field, and the heating is performed by absorption of RF energy. $TiO_2$ is an insulator at room temperature but its electric conductivity increases elevated temperature. Therefore, titanium metal ring(outside diameter : 6cm, inside diameter : 4cm, thickness 0.2cm) was embedded into $TiO_2$, powder (anatase phase, CERAC, 3N) for initial RF induction heating. Important factors of the skull melting method are electric resistivity of materials at their melting point, working frequency of RF generator and cold crucible size. In this study, electric resitivity of $TiO_2$, $(10^{-2}\~10^{-1}\;{\Omega}{\cdot}m)$ at its melting point was estimated by compairing the electric resitivities of alumina and zirconia. Inner diameter and height of the cold crucible was 11 and 14cm, respectively, which were determined by considering of the Penetration depth $(0.36\~1.13cm)$ and the frequency of RF generator.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.14
no.7
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pp.551-556
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2001
In this work, the recovery of etching damage in the etched PZT thin film with $O_2$ annealing has been studied. The PZT thin films were etched as a function of Cl$_2$/Ar and additive CF$_4$ into Cl$_2$(80%) /Ar(20%). the etch rates of PZT thin films were 1600$\AA$/min at Cl$_2$(80%)/Ar(20%) and 1970 $\AA$/min at 30% additive Cf$_4$ into Cl$_2$(80%)/Ar(20%). In order to recover the characteristics of etched PZT thin films, the etched PZT thin films were annealed in $O_2$ atmosphere at various temperatures. From the hysteresis curves, ferroelectrical properties are improved by $O_2$ annealing process. The improvement of ferroelectric behavior is consistent with the increase of the (100) and (200) PZT phase revealed by x-ray diffraction (XRD). From x-ray photoelectron spectroscopy (XPS) analysis, intensities of Pb-O, Zr-O and Ti-O peak increase and the chemical residue peak is reduced by $O_2$ annealing. From the atomic force microscopy (AFM) images. it shows that the surface morphology of re-annealed PZT thin films after etching is improved.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2012.08a
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pp.307-307
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2012
In this study, we investigated that the resistance switching characteristics of Al-doped MgOx films with increasing Al doping concentration and increasing film thickness. The Al-doped MgOx based ReRAM devices with a TiN/Al-doped MgOx/Pt/Ti/SiO2 were fabricated on Si substrates. The 5 nm, 10 nm, and 15 nm thick Al-doped MgOx films were deposited by reactive dc magnetron co-sputtering at $300^{\circ}C$ and oxygen partial ratio of 60% (Ar: 16 sccm, O2: 24 sccm). Micro-structure of Al-doped MgOx films and atomic concentration were investigated by XRD and XPS, respectively. The Al-doped MgOx films showed set/reset resistance switching behavior at various Al doping concentrations. The process voltage of forming/set is decreased and whereas the initial current level is increased with decreasing thickness of Al-doped MgOx films. Besides, the initial current of Al-doped MgOx films is increased with increasing Al doping concentration in MgOx films. The change of resistance switching behavior depending on doping concentration was discussed in terms of concentration of non-lattice oxygen of Al-doped MgOx.
Park, Choong-Bum;Kwon, Ki-Jeong;Cha, Da-Ham;Choi, Hoon;Kim, Chum-Su
Journal of KIISE:Computing Practices and Letters
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v.14
no.2
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pp.211-215
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2008
the data-centric publish/subscribe middle-ware is suitable for a communication environment in which various devices dynamically forms a network domain and same type of data are frequently exchanged. For this purpose, OMG has standardized DDS (Data Distribution Service) specification. In this study, we designed the RiTiCoM, data distribution service system that observes the OMG DDS (Data Distribution Service) standard specification and supports the automation of system management, and analyzed the performance and compared with the JMS.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2014.02a
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pp.378.1-378.1
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2014
In this study, we investigated that the resistance switching characteristics of Nb-doped HfO2 films with increasing Nb doping concentration. The Nb-doped HfO2 based ReRAM devices with a TiN/Nb-doped HfO2/Pt/Ti/SiO2 were fabricated on Si substrates. The Nb-doped HfO2 films were deposited by reactive dc magnetron co-sputtering at $300^{\circ}C$ and oxygen partial ratio of 60% (Ar: 16sccm, O2: 24sccm). Microstructure of Nb-doped HfO2 films and atomic concentration were investigated by XRD, TEM, and XPS, respectively. The Nb-doped HfO2 films showed set/reset resistance switching behavior at various Nb doping concentrations. The process voltage of forming/set is decreased and whereas the initial current level is increased in doped HfO2 films. However, the switching properties of Nb-doped HfO2 were changed above the specific doping concentration of Nb. The change of resistance switching behavior depending on doping concentration was discussed in terms of concentration of non-lattice oxygen and micro-structure of Nb-doped HfO2.
Journal of Nuclear Fuel Cycle and Waste Technology(JNFCWT)
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v.3
no.4
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pp.309-317
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2005
A study on the separation of $^{99}Tc,\;^{94}Nb,\;^{55}Fe,\;^{90}Sr\;and\;^{59/63}Ni$ in various radioactive wastes discharged from nuclear power plants has been performed for a use in their quantification which is indispensible for the evaluation of the radionuclide inventory Ni was recovered along with Ca, Mg, Al, Cr, Ti, Mn, Ce, Na, K, and Cu through the sequential separation procedure of Re(as a surrogate of $^{99}Tc$), Nb, Fe and Sr by anion exchange and Sr-Spec extraction chromatography. In this research, chemical separation of Ni from the co-existing elements was investigated by cation exchange and Ni-Spec extraction chromatography. Precipitation behaviour of Ni and the co-existing elements with dimethylglyoxime(DMG) was investigated in ammonium $citrate/ethanol-H_2O$ and tartaric $acid/acetone-H_2O$ in order to purify separated Ni fractions and to prepare $^{59/63}Ni$ source for the radioactivity measurement using a gas proportional counter. Recovery of Ni separated through ion exchange chromatographic separation procedure was $92.1\%$ with relative standard deviation of $0.9\%$. In addition, recovery of Ni with DMG in the tartaric $acid/acetone-H_2O$ was $85.6\%$ with relative standard deviation of $1.9\%$.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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