한국초전도학회 2000년도 High Temperature Superconductivity Vol.X
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pp.111-120
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2000
Recently, metal oxide films such as MgO or ZrO$_2$ have been studied as buffer layers to fabricate the superconductor with preferred orientation and as diffusion barriers to prevent the reaction between superconductor and metal substrate. In this research, we focused fabrication and characterization of MgO and ZrO$_2$ films on textured metal substrates. We fabricated MgO and ZrO$_2$ films on the Ni metal sheets by sol-gel dipping method. The microstrcures of the films were investigated by SEM and AES analyses. The films were coated with different cycles and dryed at 400$^{\circ}$C and 500$^{\circ}$C . The final films were heat-treated at 700$^{\circ}$C, 800$^{\circ}$C, and 1000$^{\circ}$C, in air atmosphere. We investigated the alignment of MgO and ZrO$_2$ films on Ni metal sheets by XRD and pole figure. The grain growth of metal oxide films was improved by the increase of the drying temperature and annealing temperature. The grain growth was increased with the annealing temperature. The alignment of metal oxide films depended on the thickness.
We investigated the surface oxidation behavior of cube-textured polycrystalline nickel at various oxidation conditions. Cube-textured NiO film was formed on a cube-textured polycrystalline nickel regardless of oxidation conditions but different growth behavior of NiO crystals was observed depending on the oxidation conditions. The introduction of water vapor into $O_2$ did not affect the texture evolution, but rough and porous microstructure was developed. Microstructure of NiO film tends to be denser as the oxygen partial pressure increases. It is interesting that (111) peak of theta - two theta diffraction pattern started to get stronger in air atmosphere and (111) plane became the major texture in the substrate oxidized in high purity argon gas. Small amount of high index crystallographic plane NiO peak crystal was observed when $N_{2}O$ was used as an oxidant while only (200) plane crystal was formed in dry $O_2$ atmosphere. Flat and smooth surface was changed into rough faceted one when ramping rate to oxidation temperature was faster. The grain size of NiO was decreased when the oxygen partial pressure was low. It was also observed that the modification of nickel surface suppressed the development of (200) texture.
Nickel and nickel-tungsten alloy were electroplated on a cold rolled and heat treated copper(Cu) substrate. 4 mm-thick high purity commercial grade Cu was rolled to various thicknesses of 50, 70, 100 and 150 micron. High reduction ratio of 30% was applied down to 150 micron. Rolled texture was converted into cube texture via high temperature heat treatment at $400-800^{\circ}C$. Grain size of Cu was about 50 micron which is much smaller compared to >300 micron for the Cu prepared using smaller reduction pass of 5%. 1.5 km-long 150 micron Cu was fabricated with a rolling speed of 33 m/min and texture of Cu was uniform along length. Abnormal grain growth and non-cube texture appeared for the specimen anneal above $900^{\circ}C$. 1-10 micron thick Ni and Ni-W film was electroplated onto an annealed cube-textured Cu or directly on a cold rolled Cu. Both specimens were annealed and the degree of texture was measured. For electroplating of Ni on annealed Cu, Ni layer duplicated the cube-texture of Cu substrate and the FWHM of in plane XRD measurement for annealed Cu layer and electroplated layer was $9.9^{\circ}\;and\;13.4^{\irc}$, respectively. But the FWHM of in plane XRD measurement of the specimen which electroplated Ni directly on cold rolled Cu was $8.6^{\circ}$, which is better texture than that of nickel electroplated on annealed Cu and it might be caused by the suppression of secondary recrystallization and abnormal grain growth of Cu at high temperature above $900^{\circ}C$ by electroplated nickel.
Polycrystalline silicon(poly-Si) films are deposited on low temperature glass substrate by Hot-CVD(HWCVD). The structural properties of the poly-Si films are strongly dependent on the temperature$(T_w)$. The films deposited at high $T_w$ of $2000^{\circ}C$ have superior crystalline proper average lateral grain sizes are larger than $1{\mu}m$ and there are no vertical grain boundaries. The sur of the high $T_w$ samples are naturally textured like pyramid shape. These large grain size and text surface are believed to give high current density when applied to solar cells. However, the poly films are structurally porous and contains high defect density, by which high concentration of C and O resulted within the films by air-penetration after removed from chamber.
Jeong, Kang Wook;Kim, Bo Sung;Ultra, Venecio U. Jr.;Chul, Sang
한국작물학회지
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제60권3호
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pp.355-365
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2015
Environment-friendly growth enhancers for rice are being promoted to reverse the negative impact of intensive chemical-based and conventional rice farming on yield sustainability and environmental problems. Several rhizosphere microorganisms and pyroligneous acids (PA) had demonstrated beneficial influence on growth, yield and grain quality of rice. Since most of the previous study had evaluated the effect of PGPR and PA on paddy rice singly, the effect of combined application of these on the growth and yield of paddy rice and on some soil chemical properties were determined. A four factorial pot experiment was conducted to evaluate the effect of PGPR, PA in combination with fertilizers and on different soil types. There were 54 treatment combinations including the control with three replications under complete randomized design. Plant growth parameters were evaluated using standard procedures during tillering and heading stages. Rice yield and some soil chemical properties were determined at harvest. Results showed that inoculation of Bacillus licheniformis and Fusarium fujikuroi enhanced plant growth by increasing the plant height which could be ascribe to its ability to promote IAA and GA production in plants. Inoculation of Rhizobium phaseoli enhanced chlorophyll content indicative to its ability to improve the N nutrition. However, these plant growth benefits during the vegetative stage were override by the fertilizer application effect especially during the maturity stage and grain yield. High fertilization rates on coarse-textured soil without nutrient loss resulted to high available nutrients and consequently high yield. Wood vinegar application however improved nutrient availability in soil which could be beneficial for improving soil quality. Further evaluation is necessary to fully assess the potential benefits that could be derived from inoculation of these organisms and wood vinegar application in different soil environment especially under different field conditions.
APCVD에 의한 $SnO_2(:F)$ 박막 형성시 HF와 $H_2O$량의 변화에 따른 증착 조건이 전기적, 광학적 특성 그리고 textured $SnO_2(:F)$ 박막의 표면형상에 미치는 영향을 관찰하였다. HF의 bubbling량이 0.9 slm 이상일 경우에는 전자농도(electron concentration)가 $3{\Times}10^{20}/cm^3$에 도달 하였으며, 비저항값은 $7{\Times}10^4~9{\Times}10^4{Omega}cm$ 범위이었고, mobility 값은 $18~25 cm^{-2}/V.sec$이었다. 결정 grain의 형태는$H_2O$를 첨가시키지 않으며 증착시킨 경우 끝이 뾰족한 예각을 가진 pyramid 형태였으며, $H_2O$를 첨가시키며 증착시킨 경우에는 끝이 둥근 hemispherical 형이었다.
The optical memory devices of BST thin films to composite $(Ba_{0.7}\;Sr_{0.3})TiO_{3}$ using sol-gel method were fabricated by changing of the depositing layer number on $Pt/Ti/SiO_{2}/Si$ substrate. The structural properties of optical memory devices to be ferroelectric was investigated by fractal analysis and 3-dimension image processing. The thickness of BST thin films at each coating numbers 3, 4 and 5 times was $2500[\AA]$, $3500[\AA]$ and $3800[\AA]$. BST thin films exhibited the most pronounced grain growth. The surface morphology image was roughness with coating numbers. The thin films increasing with coating numbers shows a more textured and complex configuration.
The CeO$_2$ thin films were deposited on the biaxially textured Ni substrates by MOCVD process. The (200) oriented CeO$_2$ films were formed at the deposition temperature(Td) of 500~52$0^{\circ}C$, the oxygen partial pressure(PO2) of 0.90~3.33 torr and the deposition time(t) of 3~25 min. The surface roughness and gain size rapidly increased at Td $\geq$ 52$0^{\circ}C$ due to the grain growth. The surface roughness also increased as the deposition time increased. The optimized deposition conditions of the CeO$_2$ films for the YBCO coated conductor were Td= 500~51$0^{\circ}C$, PO2= 2.30 torr and t= 10~12 min.
Energy storage capacitors based on dielectric ceramics with superior polarization properties and dielectric constant can provide much higher output power density due to their very fast energy charging/discharging rates, which are particularly suitable for operating pulsed-power devices. For an outstanding energy storage performance of dielectric capacitor, a large recoverable energy density could be derived by introducing a slim polarization-electric field hysteresis loop into dielectric materials by various technical approaches. Many research teams have explored various dielectric capacitor technologies to demonstrate high output power density and ultrafast charging/discharging behavior. This article reviews the recent research progress in high-performance dielectric capacitors for pulsed-power electronic applications.
Highly textured Ag, Al and Al:Si back reflectors for flexible n-i-p silicon thin-film solar cells were prepared on 100-${\mu}m$-thick stainless steel substrates by DC magnetron sputtering and the influence of their surface textures on the light-scattering properties were investigated. The surface texture of the metal back reflectors was influenced by the increased grain size and by the bimodal distribution that arose due to the abnormal grain growth at elevated deposition temperatures. This can be explained by the structure zone model (SZM). With an increase in the deposition temperatures from room temperature to $500^{\circ}C$, the surface roughness of the Al:Si films increased from 11 nm to 95 nm, whereas that of the pure Ag films increased from 6 nm to 47 nm at the same deposition temperature. Although Al:Si back reflectors with larger surface feature dimensions than pure Ag can be fabricated at lower deposition temperatures due to the lower melting point and the Si impurity drag effect, they show poor total and diffuse reflectance, resulting from the low reflectivity and reflection loss on the textured surface. For a further improvement of the light-trapping efficiency in solar cells, a new type of back reflector consisting of Ag/Al:Si bilayer is suggested. The surface morphology and reflectance of this reflector are closely dependent on the Al:Si bottom layer and the Ag top layer. The relationship between the surface topography and the light-scattering properties of the bilayer back reflectors is also reported in this paper.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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