Journal of Korea Society of Digital Industry and Information Management
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v.6
no.2
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pp.11-17
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2010
In this paper, we propose efficient rate control algorithm for video near-lossless compression. The proposed method adjusts pixel error range using amounts of previous encoded bits and target bits at a slice encoding interval. Thus, encoded bits by the proposed method are transmitted well through limited bandwidth without overflow. Also, target bits and encoded bits can be controlled according to transmission policy. Experimental results show that our proposed method not only almost fits compression ratio, but also has better image quality.
Cu-Mn compacts are fabricated by the pulsed current activated sintering method (PCAS) for sputtering target application. For fabricating the compacts, optimized sintering conditions such as the temperature, pulse ratio, pressure, and heating rate are controlled during the sintering process. The final sintering temperature and heating rate required to fabricate the target materials having high density are $700^{\circ}C$ and $80^{\circ}C/min$, respectively. The heating directly progresses up to $700^{\circ}C$ with a 3 min holding time. The sputtering target materials having high relative density of 100% are fabricated by employing a uniaxial pressure of 60 MPa and a sintering temperature of $700^{\circ}C$ without any significant change in the grain size. Also, the shrinkage displacement of the Cu-Mn target materials considerably increases with an increase in the pressure at sintering temperatures up to $700^{\circ}C$.
In some wireless sensor networks, each wireless sensor network has its own target lifetime (desired lifetime after deployment). However, satisfying the target lifetime is not a trivial problem since the nodes in wireless sensor networks often rely on batteries as their power source. In this paper, we propose an energy efficient routing algorithm that satisfies the target-lifetime requirement of a wireless sensor network. The proposed routing algorithm not only finds energy efficient paths but also optimizes the sensing rate of each sensor node. Through simulation, we compare the performance of the proposed scheme with several other existing algorithms.
Park, Eun-Cheol;Gwak, Min-Seon;Lee, Ji-Yeong;Choe, Gwi-Seon;Sin, Hae-Rim
Journal of Korea Association of Health Promotion
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v.3
no.2
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pp.280-287
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2005
The Government bean implementing the National Cancer Screening Program(NCSP) in 1999 and expanded its target population and target cancers. The target cancers of NCSP since 2004 are the five most common cancers in Korea: stomachm liver colorectal, breast, cervical cancer. One goal of the NCSP in 2005 is to include in its target population up to lower 50% of premiu of National Health Insurance. The Government and National Cancer Center have bee developing the protocol for the NCSP with associated related academic societies Health Centers operate the NCSP with National Health Insurance Cooperation. The Particioants of NCSP in 2004 are 1.34million, 14% of target population and the detection rate 2004 is 0.07%. NCSP has three challenges. Firstly, NCSP improves the participant rate through educating cancer screening increasing the access of screening(e.g. mobile screening unit), and increasing reimbursement fee Secondly NCSP assesses the quality of screening with related academic societies and implement the intervention for quality improvement. Thirdly, NCSP continues to increase the cost-effectiveness through modification of target population, screening interval, method, and information system.
Lee, Jin Young;Hur, I Min;Lee, Jae-Ok;Kang, Woo Seok
Journal of the Semiconductor & Display Technology
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v.18
no.1
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pp.1-4
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2019
Reactive sputtering is widely used because of its high deposition rate and high step coverage. The deposition layer is often affected by target poisoning because the target conditions are changed, as well, by reactive gases during the initial stage of sputtering process. The reactive gas affects the deposition rate and process stability (target poisoning), and it also leads unintended oxide interlayer formation. Although the target poisoning mechanism has been well known, little attention has been paid on understanding the interlayer formation during the reactive sputtering. In this research, we studied the interlayer formation during the reactive sputtering. A DC magnetron sputtering process is carried out to deposit an aluminum oxide film on a silicon wafer. From the real-time process monitoring and material analysis, the target poisoning phenomena changes the reactive gas balance at the initial stage, and affects the interlayer formation during the reactive sputtering process.
The Ministry of the Environment conducts a water environment management plan and TMDL(Total Maximum Daily Load) for integrated watershed management, and determines whether the target water quality is achieved using water quality monitoring data. The concentration of monitoring points located in the downstream of the watershed is the outcome of complicated mechanisms such as influx of pollutants from the tributaries of the watershed and self-purification of river water. The purpose of this study is to analyze the effect of main stream and tributary water quality on the target water quality point using the water pollution source tracking and exceedance rate of watershed. In this study, FDC and exceedance rate analysis were performed on six water quality items including BOD and T-P, which are the targets of TMDL. Water quality items and points affecting the target water quality point were derived from flow rate. In this study, the pollution source tracking through FDC analysis and exceedance rate analysis will be able to establish more efficiently the water quality management strategy for each branch to achieve the target water quality.
Nguyen, Hung The;Nguyen, Lan The;Yan, Yong-Feng;Lee, Kyu-Jong;Lee, Byun-Woo
Journal of Crop Science and Biotechnology
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v.10
no.1
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pp.33-38
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2007
Nitrogen management at the panicle initiation stage(PI) should be fine-tuned for securing a concurrent high yield and high quality rice production. For calibration and testing of the recommendation models of N topdressing rates at PI for target grain yield and protein content of rice, three split-split-plot design experiments including five rice cultivars and various N rates were conducted at the experimental farm of Seoul National University, Korea from 2003 to 2005. Data from the first two years of experiments were used to calibrate models to predict grain yield and milled-rice protein content using shoot fresh weight(FW), chlorophyll meter value(SPAD), and the N topdressing rate(Npi) at PI by stepwise multiple regression. The calibrated models explained 85 and 87% of the variation in grain yield and protein content, respectively. The calibrated models were used to recommend Npi for the target protein content of 6.8%, with FW and SPAD measured for each plot in 2005. The recommended N rate treatment was characterized by an average protein content of 6.74%(similar to the target protein content), reduced the coefficient of variation in protein content to 2.5%(compared to 4.6% of the fixed rate treatment), and increased grain yield. In the recommended N rate treatments for the target protein content of 6.8%, grain yield was highly dependent on FW and SPAD at PI. In conclusion, the models for N topdressing rate recommendation at PI were successful under present experimental conditions. However, additional testing under more variable environmental conditions should be performed before universal application of such models.
Park, Jang-Sick;Lee, Won-Geon;Jung, Min-Gi;Park, Lee-Soon;An, Chang-Ku
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2007.11a
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pp.365-366
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2007
High quality cathode with high deposition rate of thin films and long target life time is required for manufacturing TFT-LCD and semiconductor. We developed WV(wide view) sputtering cathode with wide erosion area and high deposition rate. Ti thin film thickness variation in WV cathode is below 5% for 380 kWh target life time. Al thin film thickness using normal cathode is decreased about 20%. By using WV cathode, target using efficiency was improved 40%. in comparison with normal cathode.
Proceedings of the Korean Society for Agricultural Machinery Conference
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2000.11c
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pp.662-669
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2000
Based on the viscous flow characteristics of gas through capillary tube, a simple and low cost system was developed for controlling gas concentration for use in C.A experiments. The gas flow rate through capillary tube had a linear relationship with pressure, $(length)^{-1}$ and $(radius)^4$ of capillary tube, which agreed well with Hagen-Poiseuille's law. The developed system could control the gas concentration in storage chamber within ${\pm}0.3%$ deviation compared to the preset concentration. The required time for producing target gas concentration in storage chamber was exactly predicted by the model used in this study, and it required much longer time than the calculated time which divided the volume of chamber by flow rate. Therefore, for producing target gas concentration as quickly as possible, it needs to supply higher flow rate of gas during the initial stage of experiment when gas concentration in storage chamber has not reached at target value. It appeared that the developed system was very useful for C.A experiments. Because one could decide a desired flow rate by the prediction model, control flow rate freely and easily by changing pressure in the pressure-regulating chamber and the accuracy was high.
Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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2000.11a
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pp.12-12
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2000
This paper investigated the effect of the film deposition rate for $CrN_x$ microstructure and mechanical properties. For these purpose, pure Cr an stoichiometric CrN films were deposited with various target power density on Si hardened M2 tool steel. The variation of ni trogen concentration in $CrN_x$ f analyzed by AES and deposition rate was calculated by measuring of thickness using ${\alpha}-step$ profilometer. The microstructure was analyzed by X-Ray Diffract and Scanning Electron Microscopy(SEM), and mechanical properties were evalua residual stress, microhardness and adhesion tests. Deposition rate of Cr and CrN increased as an almost linear function of target power density from $0.25\mu\textrm{m}/min$ and $0.15\mu\textrm{m}/min$ to $0.43\mu\textrm{m}/min$. Residual stresses of Cr and CrN films were from tensi Ie to compressive stress with an increase of deposi tion rate a compressive stresses were increased as more augmentation of deposition r maximum hardness value of $2300kg/\textrm{mm}^2$ and the best adhesion strength correspond HF 1 were obtained for CrN film synthesized at the highest target densitY($13.2W/\textrm{mm}^2$) owing to high residual compressive stress and increasing mobility.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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