• 제목/요약/키워드: T-Junction

검색결과 399건 처리시간 0.024초

실리콘-게르마늄 이종접합 바이폴라 트랜지스터의 신뢰성 현상 (The reliability physics of SiGe hetero-junction bipolar transistors)

  • 이승윤;박찬우;김상훈;이상흥;강진영;조경익
    • 한국진공학회지
    • /
    • 제12권4호
    • /
    • pp.239-250
    • /
    • 2003
  • 실리콘-게르마늄 이종접합 바이폴라 트랜지스터 (SiGe HBT)에서 발생하는 신뢰성 열화 현상을 고찰하였다. SiGe HBT의 경우에 전류이득 감소, AC특성 저하, 오프셋 전압이 자주 관찰되는데 그 원인으로는 각각 에미터-베이스 역 바이어스 전압 스트레스, 과도촉진확산 (transient enhanced diffusion), 공정 변동 (fluctuation)에 따른 베이스-콜렉터 접합 특성 저하를 들 수 있다. 에미터-베이스 접합에 역 바이어스 전압 스트레스가 걸리면 에미터-베이스 접합면의 테두리 부분에서 높은 에너지를 가지는 전자와 정공들이 생성되고, 이들 전자와 정공들이 실리콘-산화막 계면 및 산화막 내부에 전하를 띈 트랩을 생성하기 때문에 재결합에 의한 베이스 누설전류가 증가하여 소자의 전류이득은 크게 감소하게 된다. 에미터-베이스 접합과 외부 베이스의 거리가 임계 값보다 짧을 때에는 소자의 차단주파수($f_t$)가 감소하게 되는데 이것은 외부 베이스 이온주입에 의하여 내부 베이스 내의 도펀트의 확산이 촉진되어 나타나는 현상이다. 외부 베이스 이온주입 에너지가 충분하지 않은 경우에는 콜렉터-베이스 접합의 턴온 전압이 감소하여 전류-전압 특성 곡선에서 오프셋 전압이 발생하게 된다.

간극결합채널의 아미노말단이 채널개폐에 미치는 영향 (Effect of Amino Terminus of Gap Junction Hemichannel on Its Channel Gating)

  • 임재길;천미색;정진;오승훈
    • 생명과학회지
    • /
    • 제16권1호
    • /
    • pp.37-43
    • /
    • 2006
  • 간극결합은 이웃하는 두 세포 사이에 형성된 이온채널이며 또한 단일세포막에서도 작용한다. 간극결합채널을 형성하는 아미노 말단의 10번째 아미노산 잔기 부위까지가 개폐극성(gating polarity)과 전류-전압관계에 영향을 미친다. 정상적인 Cx32 채널은 음성의 개폐극성과 내향적인 정류현상을 보이는 반면, 음성전하를 띠는 aspartate로 치환된 T8D 채널은 반대의 개폐극성과 직선의 정류현상을 보인다. 이러한 개폐극성과 정류현상의 변화가 전하 자체에 의한 것인지 아니면 아미노 말단의 구조적인 변화에 의한 것인지는 아직 불명확하다. 이러한 문제점을 규명하기 위하여 아미노 말단의 8번째 아미노산 잔기를 cysteine기로 치환시킨 T8C 채널을 만들어 substituted-cysteine accessibility method (SCAM) 방법으로 이 채널의 생물리학적 특성을 조사하고자 하였다. T8C 채널은 정상적인 Cx32 채널처럼 음성의 개폐극성과 내향적인 정류현상을 보였으며, cysteine기로 치환이 정상적인 Cx32 채널의 원래 구조를 변화시키지 않았다는 것을 의미한다. 본 연구에서는 이런 전하효과를 규명하기 위하여 음성 전하를 갖는 MTSES-와 양성전하를 갖는 MTSET+를 사용하였다. MTSES-를 처리하면 T8C 채널은 T8D 채널의 특성처럼 양성의 개폐극성과 직선의 정류현상을 보였다. 그러나 양성전하를 갖는 MTSET+를 처리한 경우에는 T8C 채널은 본래의 특성을 그대로 유지하였다. 작은 분자의 MTS에 의해서 부여된 전하가 아미노 말단의 구조적인 변화를 초래하지는 않을 것으로 생각된다. 따라서 반대의 전하를 띠는 MTSES-와 MTSET+가 서로 상반대는 영향을 미치는 것으로 보아 본 연구에서 관찰된 개폐극성과 전류-전압의 변화는 아미노말단의 구조적인 변화라기보다는 MTS에 의해서 부여된 전하 자체에 기인한다고 할 수 있다. 또한 MTS가 아미노말단의 8번째 부위에 접근하여 반응을 일으킬 수 있다는 결과는 간극결합채널의 아미노말단이 채널의 통로(pore)를 형성한다는 가설을 뒷받침한다.

스테비올 및 그 유도체의 세포연접 관련 클라우딘 8 발현 조절을 통한 세포이동 저해효과 (Inhibitory Effect of Steviol and Its Derivatives on Cell Migration via Regulation of Tight Junction-related Protein Claudin 8)

  • 최선경;조남준;조욱민;심중현;김기광;황형서
    • 대한화장품학회지
    • /
    • 제42권4호
    • /
    • pp.403-412
    • /
    • 2016
  • 밀착연접(tight junction, TJ)은 인접하는 표피 세포 사이를 서로 연결 및 접합하여 전해질과 수분의 이동을 조절할 뿐만 아니라 세포 내 신호를 전달하고 세포분열을 조절하는 등 다양한 기능을 갖고 있는 것으로 알려졌다. 또한 최근 연구에 따르면 TJ 관련 단백질들의 비정상적 발현은 암 발생 및 진행과 밀접한 관련이 있는 것으로 보고되었으며, TJ 구성 단백질의 발현 조절은 피부 장벽 강화 및 보습 조절과 연관된 것으로 알려졌다. 본 연구에서는 세포 장벽 조절을 통해 피부 보습 조절에 관여하는 새로운 화장품 소재를 발굴하기 위해 여러가지 소재들에 대한 스크리닝을 수행하였다. 이 중 인공 감미료 소재로 널리 사용되는 스테비올 및 당 유도체(스테비오사이드)의 미백 및 주름 개선 등의 효능에 대한 기존 보고에 따라, 이들에 의한 TJ 조절 메커니즘을 확인하기 위해 다양한 세포 활성 기능 시험을 수행하였다. MTS (3-(4,5-dimethylthiazol-2-yl)-5-(3-carboxymethoxyphenyl)-2-(4-sulfophenyl)-2H-tetrazolium, inner salt)를 이용한 실험을 통하여 스테비올은 human keratinocyte cell line인 HaCaT 세포에 $250{\mu}M$ 까지 독성을 나타내지 않음을 확인하였다. Quantitative real-time PCR을 이용한 TJ 관련 단백질들의 mRNA 발현 변화를 통하여 스테비올에 의한 TJ 조절 기능을 확인하였다. 그 결과, 스테비올은 TJ 관련 단백질 중 특이적으로 claudin 8을 대조군 대비 30% 수준까지 감소시키는 것을 관찰하였다. 또한, 세포이동에 의한 영향을 관찰한 결과 스테비올 처리에 의해 세포이동이 현저히 저해되는 것을 확인하였다. 마지막으로 세포 장벽의 투과성 변화를 관찰하기 위해 표피세포 피부저항(transepithelial electric resistance, TEER) 분석 결과 스테비올에 의한 세포투과성(cell permeability) 또한 증가되는 것을 관찰하였다. 이에 반해, 스테비올 유도체(스테비오사이드, 리바우디오사이드)에서는 $1000{\mu}M$까지 세포 독성이 거의 나타나지 않을 뿐만 아니라 claudin 8 발현 억제 및 세포이동 저해현상도 관찰되지 않았다. 스테비올은 HaCaT 세포의 세포 독성, claudin 8 발현 억제, 그리고 세포 이동의 저해효과를 보이는 반면 스테비올 당 유도체인 스테비오사이드, 리바우디오사이드는 세포 독성 및 세포이동에 영향이 없는 것으로 나타난 본 연구 결과들은 스테비올 당 유도체가 향후 화장품 원료로써 스테비올보다 적합한 소재임을 시사한다.

흉요추 이행부 원인에 의한 후장골릉 부근 요통 -증례 보고- (Pain Around the Posterior Iliac Crest of Thoracolumbar Origin -Case report-)

  • 황영섭;오광조;김우선;최훈
    • The Korean Journal of Pain
    • /
    • 제13권1호
    • /
    • pp.111-114
    • /
    • 2000
  • Pain around the posterior iliac crest area is usually attributed to disorders of the lower lumbar or lumbosacral spine. However, low back pain arising from the thoracolumbar region is common and it is very similar to low back pain of lumbosacral origin. Low back pain of thoracolumbar origin is clinically distinguished from other nonspecific low back pain syndrome. It is characterized by symptoms localized at one posterior iliac crest innervated by posterior branch of $T_{12}$ spinal nerve. Patients never complain of spontaneous pain at the thoracolumbar junction. Only localized tenderness over involved segments of thoracolumbar junction can be noted. We report two cases of posterior iliac crest pain of thoracolumbar origin which was relieved by the treatment on the thoracolumbar junction.

  • PDF

A MULTIPHASE LEVEL SET FRAMEWORK FOR IMAGE SEGMENTATION USING GLOBAL AND LOCAL IMAGE FITTING ENERGY

  • TERBISH, DULTUYA;ADIYA, ENKHBOLOR;KANG, MYUNGJOO
    • Journal of the Korean Society for Industrial and Applied Mathematics
    • /
    • 제21권2호
    • /
    • pp.63-73
    • /
    • 2017
  • Segmenting the image into multiple regions is at the core of image processing. Many segmentation formulations of an images with multiple regions have been suggested over the years. We consider segmentation algorithm based on the multi-phase level set method in this work. Proposed method gives the best result upon other methods found in the references. Moreover it can segment images with intensity inhomogeneity and have multiple junction. We extend our method (GLIF) in [T. Dultuya, and M. Kang, Segmentation with shape prior using global and local image fitting energy, J.KSIAM Vol.18, No.3, 225-244, 2014.] using a multiphase level set formulation to segment images with multiple regions and junction. We test our method on different images and compare the method to other existing methods.

100nm 이하의 CMOS소자를 위한 Ni Silicide Technology (Technology of Ni Silicide for sub-100nm CMOS Device)

  • 이헌진;지희환;배미숙;안순의;박성형;이기민;이주형;왕진석;이희덕
    • 대한전자공학회:학술대회논문집
    • /
    • 대한전자공학회 2002년도 하계종합학술대회 논문집(2)
    • /
    • pp.237-240
    • /
    • 2002
  • In this W, a NiSi technology suitable for sub-100nm CMOS sevice is proposed. It seems that capping layer has little effect on the sheet resistance and junction leakage current when there is no thermal treatment. However, there happened agglomeration and drastic increase of Junction leakage current without capping layer. In other word, capping layer especially TiN capping layer is highly effective in suppressing thermal effect. It is shown that the sheet resistance of 0.12${\mu}{\textrm}{m}$ linewidth and shallow p+/n junction with NiSi were stable up to 700 t /30 minute thermal treatment.

  • PDF

Microwave plasma emission from tunnel-injected nonequilibrium high-Tc superconductors

  • Lee, Kie-Jin
    • 한국초전도학회:학술대회논문집
    • /
    • 한국초전도학회 2000년도 High Temperature Superconductivity Vol.X
    • /
    • pp.9-14
    • /
    • 2000
  • We report on the novel nonequilibrium nlicrowave emission from quasiparticle-injected high-Tc superconductors. The phenomena have been observed for the current-injected YBCO/I/Au or BSCCO/I/Au thin-film tunnel junctions and BSCCO single-crystal intrinsic Josephson mesa junction samples. For the thin-film tunnel junctions, the emitted radiation appears as broadband. For the intrinsic BSCCO mesa samples, the radiation appears as three different modes of emissions depending on the bias point in the hysteretic current-voltage characteristics; Josephson-emission, nonequilibrium broad emission and sharp coherent microwave emission. The results were interpreted by the Josephson plasma excitation model due to quasiparticle injection.

  • PDF

Numerical Simulation of Thermal Fluctuation of Hot and Cold Fluids Mixing in a Tee Junction

  • Gao, Kai;Lu, Tao
    • International Journal of Advanced Culture Technology
    • /
    • 제3권2호
    • /
    • pp.171-178
    • /
    • 2015
  • In this work, mixing processes of hot and cold fluids of three different jet types are predicted by large-eddy simulation (LES) on FLUENT platform. Temperature at different positions of internal wall and mixing conditions of T-junctions at different times are obtained, then the simulated normalized mean and root-mean square (RMS) temperature, temperature contour and velocity vector of every case are compared. The results indicate that, the mixing regions in the tee junction is related to the jet type, and temperature fluctuations on the pipe wall in the type of the deflecting jet is the least.

Single Junction Charge Pumping 방법을 이용한 전하 트랩 형 SONOSFET NVSM 셀의 기억 트랩 분포 결정 (Determination of Memory Trap Distribution in Charge Trap Type SONOSFET NVSM Cells Using Single Junction Charge Pumping Method)

  • 양전우;흥순혁;박희정;김선주;서광열
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
    • /
    • 한국전기전자재료학회 1999년도 추계학술대회 논문집
    • /
    • pp.453-456
    • /
    • 1999
  • The Si-SiO$_2$interface trap and nitride bulk trap distribution of SONOSFET(polysilicon-oxide-nitride-oxide-semiconductor)NVSM(nonvolatile semiconductor memory) cell were investigated by single charge pumping method. The used device was fabricated by 0.35 7m standard logic fabrication including the ONO cell process. This ONO dielectric thickness is tunnel oxide 24 $\AA$, nitride 74 $\AA$, blocking oxide 25 $\AA$, respectively. Keeping the pulse base level in accumulation and pulsing the surface into inversion with increasing amplitudes, the charge pumping current flow from the single junction. Using the obtained I$_{cp}$-V$_{h}$ curve, the local V$_{t}$ distribution, doping concentration, lateral interface trap distribution and lateral memory trap distribution were extracted. The maximum N$_{it}$($\chi$) of 1.62$\times$10$^{19}$ /cm$^2$were determined.mined.d.

  • PDF