탈이온수의 압력과 정제된 $N_2$ 가스가 ILD-CMP 공정에 미치는 영향
(Influence of D.I. Water Pressure and Purified $N_2$ Gas on the Inter Level Dielectric-Chemical Mechanical Polishing Process)
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- 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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- 한국전기전자재료학회 2000년도 춘계학술대회 논문집 전자세라믹스 센서 및 박막재료 반도체재료 일렉트렛트 및 응용기술
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- pp.31-34
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- 2000