ZnO and Al-doped ZnO thin films were prepared by sol-gel dip-coating method and electrical and optical properties of films were investigated. Using the zinc acetate dihydrate and acetylaceton(AcAc) as a chelating agent stable ZnO sol was synthesized with HCl catalyst. Adding aluminium chloride to the ZnO sol Al-doped ZnO sol could be also synthesized. As Al contents increase the crystallinity of ZnO thin film was retarded by increased compressive stress in the film resulted from the difference of ionic radius between Zn2+ and Al3+ The thickness of ZnO and Al-doped ZnO thin film was in the range of 2100~2350$\AA$. The resistivity of ZnO thin films was measured by Van der Pauw method. ZnO and Al-doped ZnO thin films with annealing temperature and Al content had the resistivity of 0.78~1.65$\Omega$cm and ZnO and Al-doped ZnO thin film post-annealed at 40$0^{\circ}C$ in vacuum(5$\times$10-5 torr) showed the resistivity of 2.28$\times$10-2$\Omega$cm. And the trans-mittance of ZnO and Al-doped ZnO thin film is in the range of 91-97% in visible range.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2009.11a
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pp.69-69
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2009
Al이 doping된 ZnO 투명전도막을 fusion 1737 기판위에 Sol- Gel법으로 제조하였다. 제조된 Sol은 48시간 이상 숙성하여 안정화 시킨 다음, 박막을 제조하여 doping한 Al의 at%에 따른 박막의 전기, 광학적 특성을 조사하였다. XRD 측정 결과 순수한 ZnO Sol로 제조된 박막의 경우보다 0.75at%의 Al을 첨가하였을 때 가장 강한 peak intensity를 얻을 수 있었으며, 또한 0.75at% 첨가 시 순수한 ZnO 투명전도막보다 3~4order 정도 낮은 비저항을 나타내었다. 광투과율은 Al의 첨가량에 관계없이 90%를 넘는 높은 값을 나타내었다.
Chae, Seong Won;Yun, Ho Jin;Yang, Seung Dong;Jeong, Jun Kyo;Park, Jung Hyun;Kim, Yu Jeong;Kim, Hyo Jin;Lee, Ga-Won
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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v.18
no.3
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pp.155-158
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2017
In this paper, ZnO Thin Film Transistors (TFTs) were fabricated by a sol-gel method using a low-temperature process, and their physical and electrical characteristics were analyzed. To lower the process temperature to $200^{\circ}C$, we used a zinc nitrate hydrate ($Zn(NO_3)_2{\cdot}xH_2O$) precursor. Thermo Gravimetric Analyzer (TGA) analysis showed that the zinc nitrate hydrate precursor solution had 1.5% residual organics, much less than the 6.5% of zinc acetate dihydrate at $200^{\circ}C$. In the sol-gel method, organic materials in the precursor disrupt formation of a high-quality film, and high-temperature annealing is needed to remove the organic residuals, which implies that, by using zinc nitrate hydrate, ZnO devices can be fabricated at a much lower temperature. Using an X-Ray Diffractometer (XRD) and an X-ray Photoelectron Spectrometer (XPS), $200^{\circ}C$ annealed ZnO film with zinc nitrate hydrate (ZnO (N)) was found to have an amorphous phase and much more oxygen vacancy ($V_o$) than Zn-O bonds. Despite no crystallinity, the ZnO (N) had conductance comparable to that of ZnO with zinc acetate dihydrate (ZnO (A)) annealed at $500^{\circ}C$ as in TFTs. These results show that sol-gel could be made a potent process for low-cost and flexible device applications by optimizing the precursors.
Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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v.16
no.2
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pp.59-65
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2006
Al-doped and F-doped ZnO (ZnO : Al & ZnO : F) thin films were coated onto glass substrate by sol-gel method. These films showed c-axis orientation in common, but different I(002)/[I(002) + I(101)] and FWHM (full width at half-maximum). In particular, the grain size of the ZnO : Al films decreased with the increase in the Al-doping concentration, while for the ZnO : F films the grain siae increased up to F 3 at% and then decreased. For the electrical properties, Hall effect measurement was used. The resistivity of the ZnO : Al films and the ZnO : F films were, respectively, $2.9{\times}10^{-2}{\Omega}cm$ at Al 1 at% and $3.3{\times}10^{-1}{\Omega}cm$ at F 3 at%. Moreover compared with ZnO:Al films, ZnO:F films have lower carrier concentration (ZnO : Al $4.8{\times}10^{18}cm^{-3}$, ZnO : F $3.9{\times}10^{16}cm^{-3}$) and higher mobility (ZnO : Al $45cm^2/Vs$, ZnO : F $495cm^2/Vs$). For average optical transmittances, ZnO : Al thin films have $86{\sim}90%$ and ZnO : F films have $77{\sim}85%$ comparatively low.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2010.06a
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pp.390-390
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2010
We fabricate Schottky diodes with the contact between a sol-gel derived ZnO layer and Au that guarantees the expected Schottky contact due to the high work function. The formed single metal Schottky barrier shows characteristics comparable to the barrier formed by alloys. Au is deposited by thermal evaporation on a ZnO thin film that is optimally formed under sol-gel process conditions of a 1-mol zinc acetate concentration and a 3000-rpm coating speed. Possible defects. which can provide deleterious current paths. are minimized by patterning the deposited Au. The I-V curve verifies the formation of a Schottky contact. Measurements showed that the Schottky barrier height and leakage current at -5 V were 0.6 eV and $1{\times}10^{-12}A$. respectively.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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v.12
no.3
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pp.102-105
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2011
This work describes the characteristics of zinc oxide (ZnO) thin films formed on a polycrystalline (poly) 3C-SiC buffer layer using a sol-gel process. The deposited ZnO films were characterized using X-ray diffraction, scanning electron microscopy, and photoluminescence (PL) spectra. ZnO thin films grown on the poly 3C-SiC buffer layer had a nanoparticle structure and porous film. The effects of post-annealing on ZnO film were also studied. The PL spectra at room temperature confirmed the crystal quality and optical properties of ZnO thin films formed on the 3C-SiC buffer layer were improved due to close lattice mismatch in the ZnO/3C-SiC interface.
Monodispersed $SiO_2/ZnO$ composite fine powders were prepared by Sol-Gel processing and their surface electrical and UV absorbance properties were investigated. Pseudomorph ZnO fine powders were microcapsuled by $SiO_2/ZnO$ sol fabricated using TEOS[tetraethylorthosilicate, purity 98% and ethanol as a solvent with $NH_3$ catalyst. The effects of experimental parameters such as molar ratio of starting materials on the final particle size and shape of $SiO_2/ZnO$ composite fine powder were discussed. As a result, we could controlled the size of monodispersed $SiO_2/ZnO$ composite fine powders without agglomeration, as well as the good dispersibility in aquous solution. The prepared powders were observed to have the mean particle sizes of $0.26-0.78{\mu}m$ with standard deviations of $0.020-0.063{\mu}m$.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2002.07b
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pp.821-825
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2002
ZnO thick films by Sol-Gel processing were investigated electrics, optics and the sensing characteristics of CO gas. Using the znic acetate dihydrate and acetylaceton (AcAc) as a chelating agent, stable ZnO sol was synthesized. ZnO phase was crystallized through the heat-treatment at $70^{\circ}C$ for 4hrs and influenced the sensing characteristics of the electrics and CO gas by uniform particle distributions not related particle size. The samples on the alumina substrate by thick films were investigated the properties of electrics and the effect of sensing. The sensitivity was so excellent in the sample of the heat-treatment at $600^{\circ}C$ for 12hrs and good in the heat-treatment for 1hrs generally. Crystallization and volatilization of organic materials according to the change of heating treatment temperature of thick films were analyzed by TG-DTA, XRD and mirostructure of thick films were observed by SEM.
A novel non-alkoxide sol-gel process for synthesizing Ga-doped ZnO thin film on glass was derived for possible use as a transparent electrode in flat-panel displays, using zinc acetate dehydrate as the starting material. The structural and electrical properties of thin films have been characterized as functions of Ga addition and post-heat-treatments. Their carrier density, Hall mobility, and optical transmittance were measured and discussed herein to explain the characteristics of the sol-gel-derived Ga-doped ZnO thin film on glass.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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