The microstructure, electrical conductivity and hardness variation of an AZ91-5wt%Sn Mg alloy sample during a solid-solution and aging heat treatment were instigated by optical microscopy, scanning electron microscopy, X-ray diffraction and by Rockwell hardness techniques in this study. The XRD result shows that the main phases in the as-casted alloy are ${\alpha}$-Mg, $Mg_{17}Al_{12}$ and $Mg_2Sn$. From the SEM images of the AZ91-5wt%Sn Mg alloy after the solution treatment, the $Mg_{17}Al_{12}$ phases in the alloy were found to have dissolved into the matrix with an increase in the holding time during the solution treatment, but $Mg_2Sn$ phases were clearly observable. The highest peak hardness of the AZ91-5wt%Sn Mg alloy is 82HRE at an aging temperature of $200^{\circ}C$.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.25
no.4
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pp.304-308
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2012
Transparent thin film transistors (TTFT) were fabricated using the rf magnetron sputtered ZnO-$SnO_2$ films as active layers. A ceramic target whose Zn atomic ratio to Sn is 2:1 was employed for the deposition of ZnO-$SnO_2$ films. To study the post-annealing effects on the properties of TTFT, ZnO-$SnO_2$ films were annealed at $200^{\circ}C$ or $400^{\circ}C$ for 5 min before In deposition for source and drain electrodes. Oxygen was added into chamber during sputtering to raise the resistivity of ZnO-$SnO_2$ films. The effects of oxygen addition on the properties of TTFT were also investigated. 100 nm $Si_3N_4$ film grown on 100 nm $SiO_2$ film was used as gate dielectrics. The mobility, $I_{on}/I_{off}$, interface state density etc. were obtained from the transfer characteristics of ZnO-$SnO_2$ TTFTs.
Vu, Xuan Hien;Lee, Joon-Hyung;Kim, Jeong-Joo;Heo, Young-Woo
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2014.02a
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pp.272-272
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2014
SnO thin films, 100 nm in thickness, were deposited on glass substrates by RF magnetron sputtering. A stack structure of $SnO_2/SnO$, where few nanometers of $SnO_2$ were determined on the SnO thin film by X-ray photoelectron spectroscopy. In addition, XPS depth profile analysis of the pristine and heat treated thin films were introduced. The electrical behavior of the as-sputtered films during the annealing was recorded to investigate the working conditions for the SnO sensor. Subsequently, The NH3 sensing properties of the SnO sensor at operating temperature of $50-200^{\circ}C$ were examined, in which the p-type semiconducting sensing properties of the thin film were noted. The sensor shows good sensitivity and repeatability to $NH_3$ vapor. The sensor properties toward several gases like $H_2S$, $CH_4$ and $C_3H_8$ were also introduced. Finally, a sensing mechanism was proposed and discussed.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.13
no.8
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pp.658-666
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2000
Sb and Sb-Fe doped SnO$_2$film resistors were prepared by spray pyrolysis technique. The effects of Sb and Sb-Fe addition on TCR and electrical properties of SnO$_2$film resistors were studied. Also the dependence of electrical properties on the substrate temperature and substrate-nozzle distance was investigated. The Sn-Sb system with 7.9 mol% SbCl$_3$(STO-406) and Sn-Sb-Fe systems with 7.3 mol% SbCl$_3$+7.3 mol% FeCl$_3$(STO-407) and with 3.4 mol% SbCl$_3$+7.7mol% FeCl$_3$(STO-408) were prepared. Both of the systems Sn-Sb and Sn-Sb-Fe represented nonlinearity of TCR with temperature. As the amount of Fe increased TCR was shifted to positive direction. Decreasing Sb or increasing Fe caused resistivity to increase. Also increasing Fe caused the crystallization degree of rutile structure in SnO$_2$film to decrease. The electrical resistivity decreased with increasing substrate temperature The resistivity decreased with increasing substrate-nozzle distance in the ranges from 15 to 25 cm and increased rapidly at the distance over 25cm.
To investigate the corrosion behavior of Zr-1.0Nb-xSn (x=1.0, 1.5, 2.0 and 2.5wt. %)alloy system, the corrosion tests of Zr-1.0Nb-xSn alloys were carried out in steam at $400^{\circ}C$ for 125 days and in 70ppm LiOH solution at $360^{\circ}C$ for 180 days. The matrix microstructures of the test specimens were analyzed using TEM and the oxide structures on the test specimens were analyzed using XRD. It was found from the analyses that the more Sn content the alloy had, the faster it was corroded and with the increase of Sn content in the alloy the fraction of $t-ZrO_2$ to $m-ZrO_2$ was decreased. It was also found that the alloys having more Sn showed more dislocation density than those having less.
Oh, Ji Seon;Kim, Duri;Chae, Seung Ho;Oh, Seungjoo;Yoo, Seong Tae;Kim, Haebeen;Ryu, Ji Heon
Journal of Electrochemical Science and Technology
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v.10
no.3
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pp.329-334
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2019
Sn-Cu alloy powders were prepared via a simple chemical reduction method for the negative electrode materials in lithiumion batteries. The addition of Cu can suppress the growth of Sn particles during synthetic process. Furthermore, the Cu also acts as a matrix phase against the volume change during cycling. With increasing amount of the Cu, a stable $Cu_6Sn_5$ phase formed in the Sn-Cu alloy and its cycle performance greatly enhanced depending on the Cu content. To promote the generation of the $Cu_6Sn_5$ phase, the synthesis temperature is raised to $60-100^{\circ}C$ from the ambient temperature. The Sn-Cu alloy powders prepared at elevated temperatures showed remarkable cycle performances. The Sn-Cu alloy powder obtained at $60^{\circ}C$ exhibited a significantly high volumetric capacity of over 2,000 mAh/cc at the 50th cycle.
Sn-9Zn solder balls were bonded to Cu, ENIG (Electroless Nickel/Immersion Gold) and electrolytic Au/Ni pads, and the effect of aging on their joint reliability was investigated. The interfacial products were different from the general reaction layer formed in a Sn-base solder. The intermetallic compounds formed in the solder/Cu joint were $Cu_{5}Zn_{8}$ and $Cu_{6}Sn_{5}$. After aging treatment, voids formed irregularly at the bottom side of the solder because of Sn diffusion into the $Cu_{5}Zn_{8}$ IMC. In the case of the solder/ENIG joint, $AuZn_{3}$ IMCs were formed at the interface. In the case of the Au/Ni/Cu substrate, an $AuZn_{3}$ IMC layer formed at the interface due to the fast reaction between Au and Zn. In addition, the $AuZn_{3}$ IMC layer became detached from the interface after reflow. When the aging time was extended to 100 h, $Ni_{5}Zn_{21}$ IMC was observed on the Ni substrate.
Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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2014.11a
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pp.237-238
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2014
비정질 투명 전도성 산화물의 전기적 특성을 개선하기 위해 불순물 도입을 통한 연구가 많이 진행되고 있다. 하지만 50 nm의 박막 두께에서는 물론, 얇은 박막 두께에 맞춰 극미량의 Sn 첨가를 통한 4성분계 IZO에 대한 연구는 보고된 바 없다. 본 연구에서는 DC 마그네트론 스퍼터링 법을 이용하여 Sn을 미량 도핑 한 50 nm IZO 박막을 제조하였으며, 후열처리 전후의 전기적, 기계적, 광학성 특성을 비교 분석 하였다. Sn이 미량 도핑 되었을 때 전기적 특성이 개선되었고, 이러한 현상은 후열처리 온도에 따라 뚜렷하게 관찰되었다. 이것은 불순물 Sn이 전기적으로 활성화되었기 때문이라고 생각된다.
Kim, Jun-Hyung;Kim, Hyeong-Gwan;Lee, Ho-Nyun;Kim, Hyun-Jong;Lee, Hee-Chul
Journal of Surface Science and Engineering
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v.50
no.5
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pp.411-420
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2017
In this paper, two methods of making the Pd-added $SnO_2$ ($Pd-SnO_2$) powder with pure tetragonal phase by the hydrazine method were suggested and compared in terms of crystal structure, surface morphology, and alcohol gas response. One of the addition methods is to use $PdCl_2$ as a Pd source, the other is to use Pd-based organic with oleylamine (OAM). When Pd concentration was increased from 0 to 5 wt%, the average grain size of $Pd-SnO_2$ made with Pd-OAM were decreased from 32 to 12 nm. In the case of using with $PdCl_2$, grain size of the $PdCl_2$ fell to less than 10 nm. However, agglomerated and extruded surface morphology was observed for the films with Pd addition over 4 wt%. The crack-free $Pd-SnO_2$ thick films were able to successfully fill the $30{\mu}m$ gap of patterned Pt electrodes by optimized ink dropping method. Also, the 2 wt% $Pd-SnO_2$ thick film made with PdCl2 showed gas responses ($R_{air}/R_{gas}$) of 3.7, 5.7 and 9.0 at alcohol concentrations of 10, 50 and 100 ppm, respectively. On the other hand, the prepared 3 wt% $Pd-SnO_2$ thick film with Pd-OAM exhibited very excellent responses of 3.4, 6.8 and 12.2 at the equivalent measurement conditions, respectively. The 3 wt% $Pd-SnO_2$ thick film with Pd-OAM has a specific surface area of $31.39m^2/g$.
An, Yong-Tae;Choi, Byung-Hyun;Ji, Mi-Jung;Kwon, Yong-Jin;Bae, Hyun;Hwang, Hae-Jin
Journal of the Korean Ceramic Society
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v.49
no.2
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pp.191-196
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2012
In this study, tin phosphate glass system($SnO_2-(1-x)P_2O_5-xB_2O_3$) that occur during the melting of the metal oxide inhibition of the oxidation reaction, and to reduce oxides of high melting temperature in the following three methods were melting. The first is the general way in the atmosphere, and the second by injecting $N_2$ gas under a neutral atmosphere, and finally in the air were melted by the addition of a reducing agent Melt in the atmosphere when the oxidation of the metal oxide is inhibited by low temperatures were melting. In addition, the deposition of crystals within glassy or inhibit devitrification phenomenon is also improved over 80% transmittance. This phenomenon, when the melting of glass, many of $Sn^{4+}$ ions are reduced to the $Sn^{2+}$ was forming oxides SnO, because it acts as a modifier oxide.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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