Several suture patterns can be used for cystotomy closure, and a continuous suture pattern is the most commonly used. In this study, the fluid-tight ability and other suitabilities of continuous appositional sutures, such as the simple continuous suture pattern (SC), running suture pattern (RN), and Ford interlocking suture pattern (FI), were compared for cystotomy closure. Cystotomy closure was performed using each suture method in 10 cases of ex vivo swine bladders in each group. Suture time, leakage site, suture length, bursting pressure (BP), bursting volume (BV), and circular bursting wall tension (CBWT) were measured. Suture time and suture length were the shortest in RN and the longest in FI. Leakage occurred in two places: the incision line directly and the hole made by the suture. Leakage occurred through the incision line in 4 bladders of the RN group and 2 bladders of the FI group, but not in the SC group, and in the rest of the bladders, leakage occurred through the suture hole. The values of BP, BV, and CBWT increased in the order of FI, SC, and RN. Suture time and suture length can be considered as factors related to healing and side effects. In this study, leakage through the incision was found in a less appositional area; therefore, leakage through the hole could be considered an indicator of better apposition. Good apposition is one of the conditions required for ideal cystotomy closure. The bursting strength representing the fluid-tight ability can be expressed as the CBWT. RN is expected to be efficient and cause a small degree of foreign body reaction; however, it is expected to be less stable. FI has the greatest fluid-tightness ability, but it has been proposed that side effects due to foreign body reactions most frequently occur in FI. In conclusion, SC, which is expected to have a sufficient degree of fluid-tightness and appropriate recovery, is preferable to other continuous appositional suturing methods for cystotomy closure.
차세대 나트륨이온전지용 음극 소재로 유망한 코발트 황화물 나노복합체를 간단한 수열법을 통해 합성하였다. 본 연구에서는 배터리의 전기화학적 에너지 저장 성능 향상을 위해 코발트 황화물 나노입자와 환원된 산화그래핀과 복합화 된 코발트 황화물 나노복합체를 제조하여 비교해주었다. 제조된 나노복합체 전극은 가역적이고 안정적인 사이클 성능(전류밀도 200 mA g-1에서 30 사이클 후 62 %)을 보였다. 개선된 전기화학적 특성은 수열합성 과정에서 코발트 황화물의 입자 크기가 작고 균일하게 분포되어 나트륨 이온의 확산 경로를 극대화함에서 기인하였다. 뿐만 아니라 전환 반응 중 음극재의 박리 및 부피 팽창을 효과적으로 억제함으로써 차세대 나트륨이온전지용 유망한 음극 소재로써의 가능성을 보여주었다.
To investigate effects of Achyranthis Radix herbal-acupuncture on adjuvant arthritis in rats, the edema rate, the number of WBC, the quantity of total protein, albumin and globuline in the blood serum and histological test of the muscular tissue were measured in the arthritis part. 1. After elicitating arthritis of Sprague dawley(SD) rats by injection of Freund's complete adjuvant for 2 weeks, normal saline was injected for the Exp. I group and Achyranthis Radix herbal-acupuncture was injected for the Exp. II group during 30days. Selected point was $D\acute{u}b\acute{i}(ST_{35})$ in both the groups. And then the volume of the paw were checked. The volume of the paw was $0.84{\pm}0.14mm$ in the Exp. I group and $0.47{\pm}0.11mm$ in the Exp.II group, the swelling of the paw was restricted significantly in the Exp. II group(p<0.05). 2. The number of WBC was $10.34{\pm}0.14(10^3/ml)$ in the normal group and $37.47{\pm}5.46(10^3/ml)$ in the Exp. I group. It was $21.24{\pm}2.58(10^3/ml)$ in the Exp. II group. This fact showed that the group Exp. II with Achyranthis Radix herbal-acupuncture was more effective than the Exp. II group in the treatment of arthritis(p<0.05). 3. The content of the total protein in the blood serum was $6.14{\pm}0.43g/dl$ in the normal group, $7.95{\pm}0.94g/dl$ in the Exp. I group, and $6.41{\pm}0.68g/dl$ in the Exp. II group. There was no significance in total protein between the Exp. II group and the Exp. I group from the statistical analysis. 4. The content of albumin in the blood serum was $2.94{\pm}0.13g/dl$ in the normal group, $2.01{\pm}0.48g/dl$ in Chang Tong-young the Exp. I group and $3.15{\pm}0.27g/dl$ in the Exp. II group. This fact showed that the Exp. II group had significant increase in the serum albumin from the statistical analysis compared with the Exp. I group. 5. The content of the globulin in the blood serum was $3.19{\pm}0.48g/dl$ in the normal group, $4.70{\pm}1.26g/dl$ in the Exp. I group and $3.26{\pm}0.57g/dl$ in the Exp. II group. There was no significance in the serum globulin between the Exp. II group and Exp. I group from the statistical analysis. 6. In histological finding, because of severe inflammatory reaction, remarkably irregular tissue and large amount of inflammatory cells were found in the Exp. I group. But the Exp. II group showed small amount of inflammatory cells, the refrained inflammatory state and even recovering state.
메조 세공을 갖는 SAPO-34 촉매를 2차 주형 물질로서 탄소 나노튜브(CNT)를 이용한 수열 합성 방법에 의해 성공적으로 합성했으며, CNT 첨가량(0.5, 1.5, 2.5 및 4.5 mol%)이 촉매 성능에 미치는 영향을 조사하였다. 합성된 촉매들은 X-선 회절 분석(XRD), 주사 전자 현미경(SEM), 질소 흡탈착 등온선 및 암모니아 승온 탈착($NH_3$-TPD)을 통해 특성분석을 수행하였다. 합성된 촉매 중에서 1.5 mol% CNT를 첨가하여 제조된 SAPO-34 (1.5C-SAPO-34)가 가장 큰 메조 세공부피를 나타냈을 뿐만 아니라 총 산점의 양도 가장 높은 것으로 관찰되었다. 그러나 CNT의 함량을 그 이상 첨가하여 제조한 촉매들의 경우 결정의 크기가 너무 작아 오히려 메조 세공의 부피가 감소하는 것으로 나타났다. 제조된 촉매들의 dimethyl ether to olefins 반응에서 CNT 함량에 따른 촉매 수명과 경질 올레핀($C_2{\sim}C_4$)의 선택성을 연구하였다. 그 결과 1.5C-SAPO-34 촉매는 기존의 SAPO-34 촉매와 비교하여 더 우수한 경질 올레핀 선택도와 약 36%의 향상된 촉매수명을 나타났다.
Purpose: Infection, foreign body reaction and decreased volume of implant are common complications after augmentation rhinoplasty with $Gore-tex^{(R)}$ implant. The author experienced two cases of recurrent foreign body granuloma in the patients who underwent $Gore-tex^{(R)}$ removal because of infection after augmentation rhinoplasty. and treated them with complete removal of$Gore-tex^{(R)}$. Methods: Case 1: A 49 year-old female visited our clinic for recurrent foreign body reaction on nasal dorsum and tip area. The patient underwent augmentation rhinoplasty with $Gore-tex^{(R)}$ 3 years ago and implant was removed due to infection 9 months ago. Excision of the granuloma was performed and a piece of foreign body suspicious to be a $Gore-tex^{(R)}$ implant debris was detected under the subcutaneous pocket. The implant fragments were removed and nasalis muscle rotation flap was performed to cover the lesion. The specimen was proved to be $Gore-tex^{(R)}$ in histological study. Case 2: A 31 year-old-male with recurrent foreign body granuloma on the nasal tip area visited our clinic. 10 years ago, the patient had augmentation rhinoplasty with silicone implant and then, he underwent revisional rhinoplasty five times including nasal implant removal, which was performed 9 months ago. The authors excised the granuloma and found a small sized foreign body suspicious to be a $Gore-tex^{(R)}$ implant debris under the granuloma. The foreign body was excised and identified to be $Gore-tex^{(R)}$ in histological study. Results: In both cases, the lesions were healed without any complications and there were no evidences of recurrence up to 6 months of follow-up. Conclusion: The $Gore-tex^{(R)}$ is known to be weak against mechanical force. These properties of $Gore-tex^{(R)}$ make it difficult to remove the implant completely. In the patient who have infection after augmentation rhinoplasty with $Gore-tex^{(R)}$, the operator should take care to perform the complete removal without remaining fragment of the implant.
최근 화석연료를 대체할 친환경 신재생에너지에 대한 요구가 증가하면서 수소에너지가 미래 대체에너지원으로서 주목받고 있다. 수소를 생산하는 방법 중 수전해 기술은 에너지효율과 안정성이 뛰어난 장점이 있지만, 산소발생반응시 발생하는 높은 과전압은 여전히 단점으로 지적되고 있다. 본 연구에서는 분무열분해 공정을 통하여 Co 전구체로부터 $Co_3O_4$를 제조하였다. 또한, urea, sucrose, citric acid의 유기물첨가제를 사용하여 다양한 입자 크기와 표면형상을 가지는 $Co_3O_4$를 제조하였고, 필요에 따라 추가로 열처리를 실시하였다. 합성한 $Co_3O_4$의 물리적 특성을 분석하기 위해 X-선 회절 분석(XRD)으로 결정성을 조사하였고, 주사전자현미경(SEM)과 투과전자현미경(TEM)으로 입자형상 및 표면을 분석하였다. 질소 흡 탈착 시험을 통해 촉매의 비표면적 및 기공부피를 측정하였고, 질소도핑을 확인하기 위해 X-선 광전자 분광법(XPS)을 사용하였다. 촉매의 산소발생반응 활성을 알아보기 위해 3전극 셀에서 선형주사전위법(LSV)으로 전기화학적 거동을 분석하였다. 첨가제를 사용하지 않은 $Co_3O_4$가 가장 우수한 활성을 보였고, 이는 분무열분해법을 통하여 상대적으로 작은 입자형성과 높은 비표면적의 영향인 것으로 판단된다.
For more than three decades, the gate dielectrics in CMOS devices are $SiO_2$ because of its blocking properties of current in insulated gate FET channels. As the dimensions of feature size have been scaled down (width and the thickness is reduced down to 50 urn and 2 urn or less), gate leakage current is increased and reliability of $SiO_2$ is reduced. Many metal oxides such as $TiO_2$, $Ta_2O_4$, $SrTiO_3$, $Al_2O_3$, $HfO_2$ and $ZrO_2$ have been challenged for memory devices. These materials posses relatively high dielectric constant, but $HfO_2$ and $Al_2O_3$ did not provide sufficient advantages over $SiO_2$ or $Si_3N_4$ because of reaction with Si substrate. Recently, $HfO_2$ have been attracted attention because Hf forms the most stable oxide with the highest heat of formation. In addition, Hf can reduce the native oxide layer by creating $HfO_2$. However, new gate oxide candidates must satisfy a standard CMOS process. In order to fabricate high density memories with small feature size, the plasma etch process should be developed by well understanding and optimizing plasma behaviors. Therefore, it is necessary that the etch behavior of $HfO_2$ and plasma parameters are systematically investigated as functions of process parameters including gas mixing ratio, rf power, pressure and temperature to determine the mechanism of plasma induced damage. However, there is few studies on the the etch mechanism and the surface reactions in $BCl_3$ based plasma to etch $HfO_2$ thin films. In this work, the samples of $HfO_2$ were prepared on Si wafer with using atomic layer deposition. In our previous work, the maximum etch rate of $BCl_3$/Ar were obtained 20% $BCl_3$/ 80% Ar. Over 20% $BCl_3$ addition, the etch rate of $HfO_2$ decreased. The etching rate of $HfO_2$ and selectivity of $HfO_2$ to Si were investigated with using in inductively coupled plasma etching system (ICP) and $BCl_3/Cl_2$/Ar plasma. The change of volume densities of radical and atoms were monitored with using optical emission spectroscopy analysis (OES). The variations of components of etched surfaces for $HfO_2$ was investigated with using x-ray photo electron spectroscopy (XPS). In order to investigate the accumulation of etch by products during etch process, the exposed surface of $HfO_2$ in $BCl_3/Cl_2$/Ar plasma was compared with surface of as-doped $HfO_2$ and all the surfaces of samples were examined with field emission scanning electron microscopy and atomic force microscope (AFM).
유기탄소와 Cr(VI)와의 반응을 연구하여 위하여 컬럼 실험을 실시하였다. 컬럼 실험은 거름토의 유기탄소와 수용액 속의 Cr(VI)와의 반응 후 시간별로 채취한 컬럼의 유출수와 반응 후 컬럼에 남은 고체물질에 대하여 화학분석과 SEM 관찰을 실시하였다. 컬럼에 공급된 Cr(VI)은 초기 유출수에서는 검출되지 않다가 약 8 PV (pore volume) 후 급격한 농도 증가를 보이며 공급수의 농도(20 mg/kg)까지 높아져 본 실험 조건에서 초기에 유기탄소와 Cr(VI)과의 반응에 의하여 일정 기간 동안 제거됨을 보인다. 전반적으로 유출수에서 측정된 양이온과 음이온의 농도는 $PO_4$를 제외하고 초기에 증가하였다가 시간이 지나면서 감소하는 경향을 보인다. 대부분의 이온들이 공급수에는 검출되진 않았거나 매우 낮은 농도임을 감안하면 이 이온들은 주로 유기탄소에서 유출된 것으로 판단된다. SEM 관찰결과 Cr은 유기탄소 표면에 Fe와 함께 공침되었음을 보이고 일부 침전물에 Mn, Ni, Co 등과 같은 금속들이 함께 함유되어있음을 보여준다. 이는 유기탄소 표면의 환원환경에서 Cr(VI)가 환원이 되어 $Cr(OH)_3$로 침전되면서 $Fe(OH)_3$와 같이 공침하였음을 보여주며 Fe의 존재가 Cr의 침전에 있어서 매우 중요함을 지시한다. 추후 용해성 Fe와 Mn과 같은 원소들이 더 이상 용출되지 않으면 Cr(VI)는 더 이상 침전 반응으로 제거되지 않는다. 다른 이온들과 달리 $PO_4$의 경우 초기 유출수에서 감소를 보이고 추후에 농도가 증가하는데 이는 유기탄소에 포함되어 있던 $PO_4$가 유출된 후에 Cr과 Fe의 침전물에 효과적으로 흡착이 되고 침전물이 더 이상 생성되지 않게 되면 원래 유기탄소로부터 용해되어 나온 $PO_4$의 농도로 회귀되어 일정한 값을 보이는 것으로 생각된다.
본 연구는 오염가스 제거시 발생되는 부산물인 에어로졸 입자가 방전전극에 부착되어 생기는 방전불안으로 제거율이 급격히 저하되는 문제점을 개선하고 제거장치의 운전비용을 감소시키기 위한 연구이다. 이를 위해 오염가스 제거에 필요한 라디칼과 이온을 발생시키기 위한 전기방전영역과 연소가스가 흐르는 관로를 분리시킨 플라즈마 반응기를 사용하여 방전불안에 의한 제거효율 저하와 방전선 산회 문제를 개선하여 장시간 운전 가능성을 확인하였고, 또한 운전비용을 감소시키기 위해서는 코로나 방전에 의한 비열플라즈마를 이용하여 연소가스를 산화 변화시키고, 첨가제로 수산화나트륨 수용액 증기와 소량의 암모니아를 사용하였다. 그 결과 암모니아 분자 몰비를 1.5로 하고, 유량이 $2.5{\ell}/min$인 질소가스로 농도가 20%인 수산화나트륨 수용액을 버블링하여 주입하였을 때 질소산화물, 황산화물 제거율이 각각 95, 100%인 우수한 제거특성을 얻었다.
생체분자 컴퓨팅은 DNA와 같은 생체 분자를 이용하여 정보를 표현하고 처리하는 새로운 컴퓨팅 패러다임이다. 작은 부피에 존재하는 무수히 많은 분자와 화학 반응에 내재된 대규모 병렬성은 새로운 개념의 고성능 계산 기법에 영감을 주었고 이를 바탕으로 다양한 계산 모델 및 문제 해결을 위한 분자알고리즘이 개발되었다. 한편 생체 분자를 이용한 정보처리라는 특징은 생물학 문제에 적용될 수 있는 가능성을 시사한다. 유전자 발현 패턴과 같은 생화학적 분자 정보의 분석을 위한 도구로서의 가능성을 가지고 있는 것이다. 이러한 맥락에서 DNA 컴퓨팅 기반의 생체분자 퍼셉트론 모델이 제안되었고 그 실험적 구현 결과가 제시된 바 있다. 생체분자 퍼셉트론의 핵심인 가중치 표현 및 가중치-합 연산은 입력 분자와 가중치를 표현하는 프로브 분자간의 경쟁적 혼성화 반응에 기반하고 있다. 그러나 그 혼성화 반응에서 열역학적 대칭성을 가정하고 있기 때문에 사용하는 프로브에 따라 가중치 표현의 오차가 있을 수 있다. 본 논문에서는 비대칭적인 열역학적 특성을 고려하여 일반화된 혼성화 반응 모델을 제시하고, 이를 바탕으로 신뢰성 있는 생체 분자 퍼셉트론의 구현을 위한 가중치 코딩 방법을 제안한다. 그리고 본 논문에서 제시한 가중치 표현 방법의 정확성을 이전 모델과 컴퓨터 시뮬레이션을 통해 비교하고 한계 오차를 만족하기 위한 조건을 제시한다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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