Study on Polishing Mechanism of Thermal Oxide Film after High-Temperature Conditioning (고온 패드 컨디셔닝 후 열산화막 연마 메커니즘 연구)
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- Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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- 한국전기전자재료학회 2005년도 하계학술대회 논문집 Vol.6
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- pp.193-194
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- 2005