Conductive adhesives have been investigated for use in microelectronics packaging as a lead-free solder substitute due to their advantages, such as low bonding temperature. However, high resistivity and poor mechanical behavior may be the limiting factors for the development of conductive adhesives. The metal fillers and the polymer resins provide electrical and mechanical interconnections between surface mount device components and a substrate. As metal fillers used in conductive adhesives, silver is the most commonly used due to its high conductivity and the stability. However the cost of conductive adhesives with silver fillers is much higher than usual lead-free solders and silver has poor electro-migration performance. So, copper can be a promising candidate for conductive filler metal due to its low resistivity and low cost, but oxidation causes this metal to lose its conductivity. In this study, electrically conductive adhesives (ECAs) using surface modified copper fillers were developed. Especially, in order to overcome the problem associated with the oxidation of copper, copper particles were coated with silver, and the silver-coated copper was tested as a filler metal. Especially the effect of silver coating on the electrical resistance just after curing and after aging was investigated. As a result, it was found that the electrical resistance of ECA with silver-coated copper filler was clearly lower and more stable than that of ECA with pure copper filler after curing process. And, during high temperature storage test, the degradation rate of electrical resistance for ECA with silver coated copper filler was quite slower than that for ECA with pure copper filler.
The effect of misfit on the indentation behaviour of silver coated copper multilayer was studied by molecular dynamics simulation. It was found that the misfit bands on interface formed by the mismatch of lattice structure between copper and silver in slip direction [110] and the dislocation band width depended on the mismatched lattice constants of materials. More dislocations were created and glided by indentation, which created a "four-wing flower" structure consisting of pile. up of dislocation at the interface. The size of "flower" depended on the thickness of silver layer. The critical thickness for "flower" was approximately 4nm above which the "flower" disappeared. As the result, deformation mechanisms such as dislocation pile-up, dislocation cross-slip and movement of misfit dislocation were revealed. Only silver atoms in the dislocation pile-up were involved in the creation of the "flower" while the dislocations in copper were glided in slip direction on interface.
While in the process of electroless plating of dendrite-shape copper with silver, various silver-coated copper (Ag@Cu) particles were prepared by using both displacement plating and reducing electroless plating. The physicochemical properties of Ag@Cu particles were analyzed by scanning electron microscope- energy-dispersive X-ray spectroscopy (SEM-EDS), thermogravimetric analysis (TGA), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), X-ray diffraction (XRD) and Brunauer-Emmett-Teller analysis (BET), and it was confirmed that the silver coated by the reducing electroless plating was formed as nano-particles on the copper surface. Ag@Cu particles were compounded with an epoxy resin to prepare a conductive film, and its thermal stability was evaluated. We investigated the effect of the difference between the displacement plating and reducing electroless plating on the initial resistance and thermal stability of conductive films.
Silver stabilizing layer of coated conductor has been prepared by dip coating method using organic silver complexes containing 10 wt% silver as a starting material. Coated silver complex layer was dried in situ with hot air and converted to crystalline silver by post heat treatment in flowing oxygen atmosphere. A dense continuous silver layer with good surface coverage and proper thickness of 230 nm is obtained by multiple dip coatings and heat treatments. The film heat treated at $500^{\circ}C$ showed good mechanical adhesion and crystallographic property. The interface resistivity between superconducting YBCO layer and silver layer prepared by dip coating was measured as $0.67\;{\times}\;10^{-13}\;{\Omega}m^2$. Additional protecting copper layer with the thickness of $20\;{\mu}m$ was successfully deposited by electroplating. The critical current measured with the specimen prepared by dip coating and sputtering on same quality YBCO layer showed similar value of ~140 A and proved its ability to replace sputtering method for industrial production of coated conductor.
The purpose of this study was to achieve the reduction of the galvanic current between the dental amalgam alloy and gold alloy. In order to measure the galvanic current between these two metals a prep in the size of $4{\times}13mm$ which was filled with amalgam and another prep of $4{\times}2mm$ was filled with gold alloy was made in the acrylic resin. These two preps were then connected to a 2mm diameter copper wire. Using an ammeter to measure the galvanic current, six different kinds of amalgam and gold alloy were immersed in saline solution with approximately 10mm distance between the two alloys. Chemical agents that are thought to reduce the galvanic current such as hydrazine. silver nitrate, potassium chromate, and bonding agents such as Scotch bond 2(3M) and All bond 2(Bisco) were applied to the alloy surface. Cathodic inhibitor such as hydrazine was applied to gold alloy where as anodic inhibitor such as silver nitrate and potassium chromate were applied to amalgam. Both bonding agents, Scotch bond 2(3M) and All bond 2 (Bisco), were applied to amalgam. The following results were obtained when the currency on the coated alloy surface was compared to the uncoated surface. 1. The galvanic currency went down as the time elapsed and after 30 minutes no change was detected. 2. Initial currency was higher in low copper amalgam compared to high copper amalgam. Intitial currency was the highest in low copper lathe-cut amalgam. 3. Group of gold coated with hydrazine had the most reduction in galvanic currency. 4. Group of amalgam coated with silver nitrate or potassium chromate also showed significant reduction in galvanic currency. 5. The bonding agents also helped reduce galvanic currency. 6. Of all the agents used to reduce galvanic currency, silver nitrate showed the best result.
Park, Seung Woo;Son, Jae Hong;Sim, Sang Bo;Choi, Yeon Bin;Bae, Dong Sik
Korean Journal of Materials Research
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v.29
no.1
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pp.37-42
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2019
This study investigates Ag coated $Cu_2O$ nanoparticles that are produced with a changing molar ratio of Ag and $Cu_2O$. The results of XRD analysis reveal that each nanoparticle has a diffraction pattern peculiar to Ag and $Cu_2O$ determination, and SEM image analysis confirms that Ag is partially coated on the surface of $Cu_2O$ nanoparticles. The conductive paste with Ag coated $Cu_2O$ nanoparticles approaches the specific resistance of $6.4{\Omega}{\cdot}cm$ for silver paste(SP) as $(Ag)/(Cu_2O)$ the molar ratio increases. The paste(containing 70 % content and average a 100 nm particle size for the silver nanoparticles) for commercial use for mounting with a fine line width of $100{\mu}m$ or less has a surface resistance of 5 to $20{\mu}{\Omega}{\cdot}cm$, while in this research an Ag coated $Cu_2O$ paste has a larger surface resistance, which is disadvantageous. Its performance deteriorates as a material required for application of a fine line width electrode for a touch panel. A touch panel module that utilizes a nano imprinting technique of $10{\mu}m$ or less is expected to be used as an electrode material for electric and electronic parts where large precision(mounting with fine line width) is not required.
Journal of the Korean institute of surface engineering
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v.42
no.1
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pp.47-52
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2009
Cu-Ag powder having Core-Shell structure was prepared from by electroless plating method using agents such as $AgNO_3$, $NH_{4}OH$, Hydroquinone. Ag coated copper powders were analyzed using scanning electron microscopy(SEM) and energy dispersive X-ray spectrometer(EDX). The silver coating layer of copper powder was affected from various reaction conditions such as molar ratio of $NH_{4}OH$, $AgNO_3$, and pulp density. Free silver was generated below 0.1M or 0.3M and above of $NH_{4}OH$ mole ratio. Silver coating layer thickened as addition of $AgNO_3$. When the pulp density reached 12% with 0.2M $NH_{4}OH$, and 0.15M $AgNO_3$ at $4^{\circ}C$, silver was homogeneously distributed around the copper particles and free silver particles were not generated.
Submicron copper-silver core-shell (Cu@Ag) particles were synthesized using the sonochemical combined transmetallation reaction and the application to printed electronics as a low cost conductive paste was evaluated. $Cu_2O$ of the $Cu_2O/Cu$ composite used as a core in the reaction for the synthesis of core-shell was sonochemically reduced to Cu, and Cu atoms functioned as a reducer for silver ions in transmetallation to achieve the copper-silver core-shell structure. The characterization of submicron particles by TEM-EDS and TG-DSC confirmed the core-shell structure. Conductive pastes in which 70 wt% Cu@Ag was dispersed in solvents were prepared using a binder and wetting agents, and coated on the polyamide film using a screen-printing method. Printed paste films containing synthesized Cu@Ag particles with 8 at% and 16 at% Ag exhibited low resistivity of 96.2 and $38.4{\mu}{\Omega}cm$ after sintering at $180^{\circ}C$ in air, respectively.
Silver coated copper powders were prepared by a chemical reduction method with controlling the deposition process variables such as the feeding rate of the silver ionic solution and concentration of the reductants at room temperature. The characteristics of the products were evaluated by scanning electron microscope (SEM), X-ray diffractometer (XRD), atomic absorption spectrophotometer (AA) and a 4 probe resistivity measurement system. The optimum condition of the preparation of Ag coated Cu powders was at 0.05 M of potassium sodium tartrate and 2 ml/min of the feeding rate of the silver ionic solution. Our method successfully produced dense, uniform, and well-dispersed Ag coated Cu powder of $2{\sim}2.5{\mu}m$ witha silver layer of 100~200 nm. Additionally, we found that thespecific resistivity of the 30 wt.% Ag coated Cu powder was similar to that of pure silver, so that the composite powder could be used as an alternative electromagnetic shielding material for silver.
Journal of the Korean institute of surface engineering
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v.19
no.3
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pp.92-108
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1986
An electroplating on the lead frame fabricated from domestic copper plate was studied experimentally. In this study, nickel was plated on the thin copper lead frame and silver layer was coated on the nickel film in the cyanide electrolyte. The effect of process variables such as current density, plating time, coating thickness and flow rate of electrolytic solution on the properties of coating was investigated. Some samples on each step were fabricated during electroplating. The results obtained from polarization measurement, observation of SEM photograph, adhesion test of coating and microhardness test are as follows. On silver plating, polarization resistance of potentiostatic cathodic polarization curve is reduced as the flow rate of Ag electrolytic solution increases. And above resistance is also reduced when the minor chemicals of sodium cyanide and sodium carbonate are added in potassium silver cyanide bath. The reduced polarization resistance makes silver deposition on the cathode easy. An increase in the current density and the coating thickness causes the particle size of deposit to coarsen, and consequently the Knoop microhardness of the coating decreases. On selective plating an increase in the flow rate of plating solution lead to do high speed plating with high current density. In this case, the surface morphology of deposit is of fine microstructure with high Knoop hardness. An increasing trend of the adhesion of coating was shown with increasing the current density and flow rate of electrolytic solution.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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