Zinc oxide (ZnO) films were deposited by an RF magnetron sputtering system with the RF power of 200W and 300W and flow rate of oxygen gases of 20 and 30 sccm, in order to research the growth of ZnO on carbon doped silicon oxide (SiOC) thin film. The reflectance of SiOC film on Si film deposited by the sputtering decreased with increasing the oxygen flow rate in the range of long wavelength. In comparison between ZnO/Si and ZnO/SiOC/Si thin film, the reflectance of ZnO/SiOC/Si film was inversed that of ZnO/Si film in the rage of 200~1000 nm. The transmittance of ZnO film increased with increasing the oxygen gas flow rate because of the transition from conduction band to oxygen interstitial band due to the oxygen interstitial (Oi) sites. The low reflectance and the high transmittance of ZnO film was suitable properties to use for the front electrode in the display or solar cell.
The Transactions of The Korean Institute of Electrical Engineers
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v.58
no.12
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pp.2441-2445
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2009
The effects of Si -doped MgO have been investigated in order to improve the material properties of the MgO protective layer in plasma display panels. A small amount of Si is added to the MgO pellet while the MgO layer is being deposited by using an electron-beam evaporation method. Both the surface characteristics of the protecting layer and the electro-optical properties of 4 in. test panels are investigated, such as XRD patterns, SEM images, firing and sustain voltages, secondary electron emission coefficient($\gamma$), luminance, luminous efficacy and lifetime. The firing and sustain voltage are minimized when Si concentration is 0.038%, where the luminance and luminous efficacy increase up to 17% and 26% compared with that of the pure MgO film, separately, and lifetime also shows good characteristics.
Highly self-cleaning thin films of $TiO_2-SiO_2$ co-doped with Ag and F are prepared by the sol-gel method. The asprepared thin films consist of bottom $SiO_2$ and top $TiO_2$ layers which are modified by doping with F, Ag and F-Ag elements. XRD analysis confirms that the prepared thin film is a crystalline anatase phase. UV-vis spectra show that the light absorption of $Ag-F-TiO_2/SiO_2$ thin films is tuned in the visible region. The self-cleaning properties of the prepared films are evaluated by a water contact angle measurement under UV light irradiation. The photocatalytic performances of the thin films are studied using methylene blue dye under both UV and visible light irradiation. The $Ag-F-TiO_2/SiO_2$ thin films exhibit higher photocatalytic activity under both UV and visible light compared with other samples of pure $TiO_2$, Ag-doped $TiO_2$, and F-doped $TiO_2$ films.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.22
no.2
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pp.158-162
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2009
$Zn_2SiO_4$:Mn green phosphors doped with Ga for PDP were synthesized by solid state reaction method. Photoluminescence measurements showed a new emission peak at around 600 nm for $Zn_2SiO_4$:Mn phosphors doped with Ga. Also, the luminescent color with doping $Ga^{3+}$ in the $Zn_2SiO_4$:Mn phosphors changed to green from yellowish green. Consequently, the new peak and charge of the luminescent color in the $Zn_2SiO_4$:Mn, Ga phosphors were attributed to $^2E{\rightarrow}^6A_2$ transition of $Mn^{4+}$.
The Y1.99-xMxCe0.01SiO5(M=Li, La, Nd, and Gd) phosphors were synthesized by solid-state reaction at 1350oC for 10h under reducing atmosphere in order to improve properties of blue emitting phosphors. Compared with commercial blue phosphors, the Y2SiO5:Ce blue phosphors substituted with various elements showed significant enhancement of the emission intensity. Particularly, 1 mol% Li doped Y2SiO5:Ce phosphors indicated the maximum emission intensity in the photoluminescence spectra. Thanks to SEM analyses revealed that the morphology of Y2SiO5:(Ce,Li) blue phosphors was a pseudo-spherical with particle size of 3m.
Recently semiconductor doped glasses have attracted attention as nonlinear optical materials because of their large third order nonlinear optical properties. The transparent and homogeneous CdS-doped SiO2 glass thin films were obtained by the dip=coating process of the sol-gel method. Thin films were consisted of glasses containing CdS microcrystallites which were formed by dissolved Cd2+ and S2- ions in a SiO2 matrix solutions. A subsequent thermal treatment of this samples led the formation of colloidal agglomerates and finally of microcrystallites. The size of CdS microcrystallites was about 4 to 15 nm after thermal treatments at various heating conditions. From the optical absorption spectra of the CdS-doped SiO2 glass films it was found that the absorption edge was blue-shifted compared with that of the bulk CdS crystal(~2, 4 eV) and that the amount of energy shift was inversely proportional to the crystal size. And the band gap energy increased with the decrease in crystallite size indicating that the quantum size effects occured.
The effect of Si3N4 addition on the microstructure and PTCR characteristics of BaTiO3 was studied. When 0.1 mol% Sb2O3-doped BaTiO3 codoped with Si3N4 (0.1, 0.25, 0.5, 0.75, and 1 wt%, respectively) were sintered, their microstructures were changed by the amount of the liquid phase as a result of eutectic reaction at 126$0^{\circ}C$. By these microstructural changes, the specific resistivity ratio($\rho$max/$\rho$min) with Si3N4 content variation of 0.1 mol% Sb2O3-doped BaTiO3 ceramics sintered at 130$0^{\circ}C$ for 1 hour varied between 3.70$\times$102(0.1 wt% Si3N4) to 1.16$\times$103 (1wt% Si3N4).
ZnO/n-Si junctions were fabricated by spin coating with ZnO precursor produced by the sol-gel process. In order to increase the electrical conductivity of ZnO films, the films were n-doped with Al impurity and subsequently annealed at about $450^{\circ}C$ under reducing environments. The ohmic contacts between n-Si and AI for a bottom electrode were successfully fabricated by doping the rear surface of Si substrate with phosphorous atoms. The front surface of the substrate was also doped with phosphorous atoms for improving the efficiency of the solar cells. Consequently, conversion efficiencies ranging up to about 5.3% were obtained. These efficiencies were found to decrease slowly with time because of the oxide films formed at the ZnO/Si interface upon oxygen penetration through the porous ZnO. Oxygen barrier layers could be necessary in order to prevent the reduction of conversion efficiencies.
We have synthesized a $Eu^{2{\cdot}}$ -activated $Sr_3MgSi_2O_8$ blue phosphor and $Ba^{2{\cdot}}$ co-doped $Sr_2SiO_4$ yellow phosphor investigated an attempt to develop white LEDs by combining it with a GaN blue LED chip. Three distinct emission bands from the GaN-based LED and the ($Sr_3MgSi_2O_8$:Eu + $Ba^{2{\cdot}}$ co-doped $Sr_2SiO_4$:Eu) phosphor are clearly observed at 405nm, 455 nm and at around 540 nm, respectively. These three emission bands combine to give a spectrum that appears white to the naked eye. Our results show that GaN (405 nm chip)-based ($Sr_3MgSi_2O_8$:Eu + $Ba^{2{\cdot}}$ co-doped $Sr_2SiO_4$:Eu) exhibits a better luminous efficiency than that of the industrially available product InGaN (460 nm chip)-based YAG:Ce.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2010.02a
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pp.109-109
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2010
$Er^{3+}$ ion shows a stable and efficient luminescence at 1.54mm due to its $^4I_{13/2}\;{\rightarrow}\;^4I_{15/2}$ intra-4f transition. As this corresponds to the low-loss window of silica-based optical fibers, Er-based light sources have become a mainstay of the long-distance telecom. In most telecom applications, $Er^{3+}$ ions are excited via resonant optical pumping. However, if nanocluster-Si (nc-Si) are co-doped with $Er^{3+}$, $Er^{3+}$ can be excited via energy transfer from excited electrical carriers in the nc-Si as well. This combines the broad, strong absorption band of nc-Si with narrow, stable emission spectra of $Er^{3+}$ to allow top-pumping with off-resonant, low-cost broadband light sources as well as electrical pumping. A widely used method to achieve nc-Si sensitization of $Er^{3+}$ is high-temperature annealing of Er-doped, non-stoichiometric amorphous thin film with excess Si (e.g.,silicon-rich silicon oxide(SRSO)) to precipitate nc-Si and optically activate $Er^{3+}$ at the same time. Unfortunately, such precipitation and growth of nc-Si into Er-doped oxide matrix can lead to $Er^{3+}$ clustering away from nc-Si at anneal temperatures much lower than ${\sim}1000^{\circ}C$ that is necessary for full optical activation of $Er^{3+}$ in $SiO_2$. Recently, silicon-rich silicon nitride (SRSN) was reported to be a promising alternative to SRSO that can overcome this problem of Er clustering. But as nc-Si formation and optical activation $Er^{3+}$ remain linked in Er-doped SRSN, it is not clear which mechanism is responsible for the observed improvement. In this paper, we report on investigating the effect of separating the nc-Si formation and $Er^{3+}$ activation by using hetero-multilayers that consist of nm-thin SRSO or SRSN sensitizing layers with Er-doped $SiO_2$ or $Si_3N_4$ luminescing layers.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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