• Tribology and Lubricants
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• 제23권6호
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• pp.298-300
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• 2007

Frictional characteristics of mesoporous $SiO_2$ thin films were evaluated with different pore sizes. The films were manufactured by sol-gel and self-assembly methods to have a porous structure. The pores on the surface may play as the outlet of wear particle and the storage of lubricant so that the surface interactions could be improved. The pores were exposed on the surface by chemical mechanical polishing (CMP) or plasma-etching after forming the porous films. The ball-on-disk tests with mesoporous $SiO_2$ thin films on glass specimen were conducted at sliding speed of 15 rpm and a load of 0.26 N. The results show considerable dependency of friction on pore size of mesoporous $SiO_2$ thin films. The friction coefficient decreased as increasing the pore size. CMP process was very useful to expose the pores on the surface.

• Progress in Superconductivity
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• 제3권1호
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• pp.49-55
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• 2001

Josephson junction arrays were fabricated by DC magnetron sputtering, self-aligning and reactive ion etching technique. The Al native oxide, formed by thermal oxidation, was used as the tunneling barrier of Nb/$Al-A1_2$$O_3$Nb trilayer. The arrays have 2,000 Josephson junctions with the area of $14\mu\textrm{m}$ $\times$ $46\mu\textrm{m}$. The gap voltages were in the range of 2.5 ~2.6 mV and the spread of critical current was $\pm$11~14%. When operated at 70~94 ㎓, the arrays generated zero-crossing steps up to 2.1~2.4 V. To improve transmission of microwave power and prevent diffusion of oxygen into Nb ground-plane while depositing $SiO_2$dielectric, we applied a plasma nitridation process to the Nb ground-plane. The microwave power was well propagated in Josephson junction arrays with nitridation. The difference in microwave transmission 7an be interpreted by the surface impedance change depending on nitridation.

• 대한소아치과학회지
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• 제49권3호
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• pp.264-273
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• 2022

치과에서 사용하는 재료들의 물성의 발달로 인하여 브라켓과 치아 사이의 결합 능력도 크게 향상되었다. 그러나 소아치과 영역에서와 같이 환자의 협조를 기대하기 어렵거나, 수분 격리가 제대로 이루어지지 않을 경우 기대하는 효과에 미치지 못하는 결합강도를 보여 줄 수 있다. 본 연구의 목적은 세 가지의 접착 술식을 비교하여 브라켓의 전단 접착 강도를 평가하고, 임상적으로 유의한 차이가 존재하는지 비교하는 것이다. 우식증이나 수복물이 없는 상, 하악 소구치 60개 치아를 대상으로 하였다. Group I은 대조군으로서 기존의 3 step 접착 방식에 따라 브라켓을 부착하였고, Group II는 self-etching primer system을 이용하여 부착하였다. Group III는 self-priming adhesive를 이용하여 브라켓을 부착하였다. 각 group의 전단 결합 강도를 측정하고 접착제 잔류지수(ARI)를 기록하였다. 각 group I, II, III의 평균 전단 결합 강도는 14.69 MPa, 11.21 MPa 그리고 12.21 MPa로 측정되었다. Group I과 II, group I과 III에서만 유의한 차이가 존재하였으며(p < 0.05), ARI 값은 모든 group에서 유의한 차이가 존재하지 않았다.

• Restorative Dentistry and Endodontics
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• 제36권6호
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• pp.477-482
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• 2011

연구목적: 이 연구는 서로 다른 버로 형성한 법랑질 표면에 대한 자가부식 프라이머 접착제의 결합강도를 상호 비교함으로써 법랑질에 우수한 접착 표면을 제공하는 적절한 버를 알아보기 위해 시행하였다. 연구 재료 및 방법: 42개의 발거된 대구치 치관의 법랑질을 이용하였고, 법랑질을 삭제하는 기구의 종류에 따라 6개군, 즉 1군은 Coarse (125 - 150 ${\mu}m$) diamond bur; 2군은 standard (106 - 125 ${\mu}m$) diamond bur; 3군은 fine (53 - 63 ${\mu}m$) diamond bur; 4군은 extrafine (20 - 30 ${\mu}m$) diamond bur; 5군은 plain-cut carbide bur (no. 245); 6군은 cross-cut carbide bur (no. 557)으로 분류하였다. 각 군의 법랑질 표면에 Clearfil SE Bond를 적용한 후 Tygon tube를 이용하여 Clearfil AP-X를 접착하였다. 각 군의 미세전단 결합강도를 측정하였다. 결과: 4군의 결합강도는 모든 군중 가장 높게 나타나 1군, 2군, 3군 및 6군보다 통계학적으로 높게 나타났으며(p < 0.05), 5군과는 통계학적으로 유의한 차이를 나타내지 않았다(p > 0.05). 결론: 버의 종류와 다이아몬드 버의 입자크기는 약한 자가 산부식 프라이머 접착제의 법랑질에 대한 결합강도에 영향을 주었다. Clearfil SE Bond의 법랑질에 대한 우수한 접착을 위해서는 초미세입자 다이아몬드 버나 plain-cut 카바이드 버의 사용이 추천된다.

• Restorative Dentistry and Endodontics
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• 제31권6호
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• pp.415-426
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• 2006

자가부식 상아질 접착제의 중합 후 시간 경과에 따른 접착강도의 변화를 관찰하고, 중합률의 영향을 평가하고자 하였다. 36개의 상하악 대구치를 Single Bond (SB, 3M ESPE, USA), Clearfil SE Bond (SE, Kuraray, Japan), Xeno-III (XIII, Dentsply, Germany), 및 Adper Prompt (AP, 3M ESPE, USA)를 적용하는 4군으로 나누고, 이를 다시 미세인장접착강도 측정 시점에 따라 22$^{\circ}$C의 증류수에 보관 후 48시간에 측정한 군과 7일 후 측정한 군, 및 접착된 시편을 5000회 열순환을 시행하고 측정한 군으로 나누었다. 모래시계 형태의 접착시편을 제작하여 만능시험기 (Model 4466; Instron Co., USA)로 1 mm/min의 하중속도 하에서 미세인장접착강도를 측정하였다. 접착제의 중합률은 Fourier 변환 적외선 분광법을 이용하여 중합 직후, 48시간, 1주일에 측정하였으며, 주사전자현미경을 이용하여 파절 단면을 관찰하였다. 미세인장접착강도와 중합률 모두 시간의 경과에 따라 유의한 증가를 보였으며, 시간 경과와 재료간에 교호작용이 있었다 (미세인장접착강도, 2-way ANOVA, p = 0.018; 중합률, Repeated Measures ANOVA, p < 0.001) . XIII와 AP의 낮은 미세인장접착강도는 낮은 중합률 때문임을 확인할 수 있었다. 48시간 이후에 SE와 AP에서 접착강도가 증가 되는 것은 중합률과는 관련이 없고, 전자현미경에서 관찰되는 접착제층의 성숙에 따른 취성의 증가가 원인일 가능성이 제기된다.

• 대한소아치과학회지
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• 제29권1호
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• pp.107-114
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• 2002

연구목적은 자가부식 프라이머의 적용 시기에 따른 타액과 혈액 오염에 대한 결합력에 미치는 영향을 알아보는 것이었다. 유치 시편을 각각 10개씩 제작하여 대조군, 접착전 타액 오염, 접착제 중합후 타액 오염, 접착전 혈액 오염, 접착제 중합후 혈액 오염된 상황으로 2가지 종류의 자가부식 접착제와 복합레진을 적용하여 만능 물성 시험기로 전단결합강도를 측정, 분석하였다. 접착제 적용전 타액 오염(I군)시에는 대조군과 비교하여 결합력이 유사하거나 약간 감소되었으나, 통계학적 유의한 차이가 없었다(P>0.05). 접착후 타액 오염(II군)이나 접착 전후의 혈액 오염(III, IV군)시 유의하게 결합력이 감소하였다. (P<0.01). Clearfil SE Bond가 AQ Bond보다 유의하게 높은 결합강도를 보였다(P<0.05).

• Restorative Dentistry and Endodontics
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• 제30권6호
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• pp.493-504
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• 2005

본 연구는 상아질 접착제와 레진 시멘트의 적합성 여부를 알아보고자 시행하였다. 발거한 제3대구치의 상아질 표면을 노출시킨 후 Tescera ATL 복합레진 시편을 상아질 접착제 [All Bond 2 (Bisco), Clearfil SE Bond (Kuraray), Adper Prompt L-POP (3M), One-Up Bond F (Tokuyama)]와 레진시멘트 [Choice (Bisco), Panavia F (Kuraray), RelyX ARC (3M), Bistite II DC (Tokuyama)]로 접착하고 미세인장 결합강도 및 주사전자 현미경 관찰을 시행한 결론은 다음과 같다. 1. Clearfil SE Bond와 All-Bond 2가 Prompt L-Pop과 One-Up Bond F 보다 높은 미세인장 결합강도를 보였다(p<0.05). 2. Clearfil SE Bond와 All-Bond 2 사용시 1-step 상아질 접착제보다 혼성층이 두껍고 레진 tag가 길었다.

• 대한소아치과학회지
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• 제46권3호
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• pp.274-282
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• 2019

이 연구의 목적은 유치에서 한 단계 자가부식 접착제를 이용한 레진수복 시 타액오염 후 처치과정에 따른 미세인장강도를 비교하는 것이다. 건전한 유구치를 접착제 사용에 따라 각각 $Scotchbond^{TM}$ Universal Adhesive (SBU), All-Bond $Universal^{(R)}$ (ABU), and $Tetric^{(R)}$ N Bond Universal (TBU)의 3 그룹으로 나누어 무작위로 분배하였다. 각 그룹은 접착제 도포 후 처치과정에 따라 7가지 하위분류로 나누었다. Subgroup I은 대조군으로써, 타액오염 없이 제조사 권고사항에 따라 접착제를 적용하였다. Subgroup II - IV는 접착제 광중합 전에 타액오염을 시행하였고, subgroup V - VII는 접착제 광중합 후에 타액오염을 시행하였다. 그 후 subgroup II, V는 건조, subgroup III, IV는 수세 후 건조, subgroup IV, VII는 수세 후 건조, 그리고 접착제 재도포를 시행하였다. SBU와 ABU에서 subgroup I, IV, VII의 미세인장강도가 subgroup II, III, V, VI의 미세인장강도보다 유의하게 높았다. TBU에서 subgroup I, IV의 미세인장강도가 subgroup II, III, V, VI의 미세인장강도보다 유의하게 높았다. 이 연구 결과, 임상가는 한 단계 자가부식 접착제를 이용한 레진 수복 시 타액과 수분의 오염으로부터 철저하게 격리를 지켜야 하지만 그럼에도 불구하고 타액오염이 발생하였다면, 수세 및 건조 후 접착제를 재도포할 것을 권장한다.

• 대한치과보철학회지
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• 제46권5호
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• pp.535-543
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• 2008

최근의 레진 접착시스템은 단계를 줄이고 적용과정을 간편화시키는데 주력하고 있으며, 치면에 bonding 및 conditioning 과정 없이 바로 적용 가능한, one-step의 새로운 자가 접착 레진시멘트 (self-adhesive resin luting cement)들이 소개되어 임상에 사용되고 있다. 이에 본 연구의 목적은 자가 접착 레진시멘트와 기존의 레진시멘트의 상아질에 대한 전단 결합 강도를 비교해보고, 자가 접착 레진시멘트 적용시 치면의 식각 처리 여부가 전단 결합 강도에 미치는 영향에 관하여 알아보고자 하는 것이다. 본 연구를 위해 최근 6개월 내 발치된 비교적 건전한 성인의 대구치 45개를 아크릴릭 레진으로 매몰한 다음, 800 grit SiC연마지로 연마를 시행하여 상아질을 노출시켰다. 15개의 치아를 한 군으로 하여, 세 가지 실험군으로 분류하였다. Group 1) 치면에 아무런 전처리 없이 RelyX Unicem 접착. Group 2) 치면에 인산 산부식 처리 후, RelyX Unicem 접착, Group 3) 치면에 Syntac primet + Syntac adhesive + Heliobond 처리 후 Variolink II 접착. 전처리가 완료된 치아 시편 위에 플라스틱 튜브 (직경 3 mm, 높이 3 mm)를 고정한 다음, 제조사의 지시에 따라 각 레진 시멘트를 혼합하여 링 안을 채우고, 광중합을 시행하였다. 접착이 완료된 시편은 $37^{\circ}C$ 항온수조 (증류수)에서 24시간 동안 보관 후, 만능 시험기를 이용하여 1mm/min의 cross head speed로 결합강도를 측정하였으며, 확대경 하에서 파절 양상을 분류 관찰하고, 주사전자현미경을 이용하여 미세구조를 관찰하였다. 측정결과는 SPSS WIN 12.0 프로그램을 사용하여 분석하였으며 다음과 같은 결과를 얻었다. 1. RelyX Unicem의 상아질에 대한 전단결합강도는 Variolink II와 유의한 차이를 보이지 않았다. 2. 상아질에 대한 인산 산부식 처리는 RelyX Unicem과의 전단결합강도를 낮게 하였다. 3. RelyX Unicem과 Variolink II에서는 혼합 파절의 비율이 컸으며, 전단결합강도가 낮았던 인산 산부식 처리 후 RelyX Unicem을 접착한 경우에서는 전체 시편에서 접착성 파절이 관찰되었다. 결론으로 말하면, 자가 접착 레진시멘트와 기존의 레진시멘트의 상아질에 대한 전단결합강도는 유의한 차이를 보이지 않으며, 인산 산부식 처리는 상아질에 대한 자가 접착 레진시멘트의 전단결합강도를 감소시킨다.

• 대한전기학회논문지:전기물성ㆍ응용부문C
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• 제55권12호
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• pp.601-605
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• 2006

The resistance-capacitance (RC) delay of signals through interconnection materials becomes a big hurdle for high speed operation of semiconductors which contain multi-layer interconnections in smaller scales with higher integration density. Low-k materials are applied to the inter-metal dielectric (IMD) materials in order to overcome the RC delay. Relaxation continuum (RCT) model that includes neutral-species transport model have developed to model the etching process in a capacitively coupled plasma (CCP) device. We present the parametric study of the modeling results of a two-frequency capacitively coupled plasma (2f-CCP) with $N_2/H_2$ gas mixture that is known as promising one for organic low-k materials etching. For the etching of low-k materials by $N_2/H_2$ plasma, N and H atoms have a big influence on the materials. Moreover the distributions of excited neutral species influence the plasma density and profile. We include the neutral transport model as well as plasma one in the calculation. The plasma and neutrals are calculated self-consistently by iterating the simulation of both species till a spatio-temporal steady state profile could be obtained.