Titanium oxide ($TiO_2$) thin films were fabricated by unbalanced magnetron (UBM) sputtering. The fabricated $TiO_2$ films were treated by oxygen plasma under various RF powers. We investigated the characteristics of oxygen plasma treatment on the surface, structural, and physical properties of $TiO_2$ films prepared at various plasma treatment RF powers. UBM sputtered $TiO_2$ films exhibited higher contact angle value, smooth surface, and amorphous structure. However, the rms surface roughness $TiO_2$ films were rough, and the contact angle value was decreased with the increase of the plasma treatment RF power Also, the hardness value of $TiO_2$ film as physical properties was slightly increased with the increase of the plasma treatment RF power. In the results, the performance of $TiO_2$ films for self cleaning critically depended on the with the plasma treatment RF power.
Mo doped carbon (C:Mo) thin films were fabricated with various Mo target power densities by unbalanced magnetron sputtering (UBM). The effects of target power density on the surface, structural, and electrical properties of C:Mo films were investigated. UBM sputtered C:Mo thin films exhibited smooth and uniform surfaces. However, the rms surface roughness of C:Mo films were increased with the increase of target power density. Also, the resistivity value of C:Mo film as electrical properties was decreased with the increase of target power density. From the performance of organic thin filml transistor using conductive C:Mo gate electrode, the carrier mobility, threshold voltage, and on/off ratio of drain current (Ion/Ioff) showed $0.16cm^2/V{\cdot}s$, -6.0 V, and $7.7{\times}10^4$, respectively.
평판형 유도결합 플라즈마 식각장비(inductively coupled plasma etcher)를 이용하여 각종 공정조건들에 따른 GaAs의 식각특성을 연구하였다. 공정변수들은 ICP 소스파워(0-500 W), RIE 척파워(0-150 W), 가스 종류($BCl_3$, $BCl_3$/Ar, $BCl_3$/Ne) 및 가스혼합비였다. $BCl_3$ 가스만을 이용하여 GaAs를 식각한 경우보다 25%의 Ar이나 Ne같은 불활성 기체를 혼합한 $15BCl_3$/5Ar, $15BCl_3$/5Ne 가스를 이용한 경우의 식각률이 더 우수한 것을 확인하였다. 그리고 50% 이하의 Ar이 혼합된 $BCl_3$/Ar의 경우는 높은 식각률 (>4,000 $\AA$/min)과 평탄한 표면(RMS roughness : <2 nm)을 얻을 수 있었지만 지나친 양(>50%)의 Ar의 혼합은 오히려 표면을 거칠게 하거나 식각률을 떨어뜨리는 결과를 가져왔다. 그리고 20 sccm $BCl_3$, 100 W RIE 척파워, 300 W ICP 소스파워, 공정압력이 7.5 mTorr인 조건에서의 GaAs의 식각결과는 아주 우수한 특성(식각률: ∼ 4,000, $\AA$/min, 우수한 수직측벽도: >$87^{\circ}$, 평탄한 표면: RMS roughness : ∼0.6 nm)을 나타내었다.
Amorphous carbon (a-C) is an interesting materials and its characteristics can be varied by tuning it $sp^3$ fractions. The $sp^3$ fraction in a-C films depends on the kinetic energy of the deposited carbon ions. In this work, a-C films was synthesized on Si(100) and glass substrates at room temperature by closed-field unbalanced magnetron (CFUBM) sputtering with the increase of graphite target power density. The structural and physical properties of films were investigated by using Raman spectroscopy, X-ray photoelectron spectrometer (XPS), nano- indentation, atomic force microscope (AFM) and contact-angle measurement. We obtained the good tribological properties, such as high hardness up to 26 GPa., friction coefficient lower than 0.1 and the smooth surface (rms roughness: 0.12 nm). The increase of the physical properties with the increase of target power density are related to the increase of nano-clusters in the carbon network. Also, these results might be due to the increase of the subplantation and resputtering by the increase of ions density in the plasma.
AGZO thin films were deposited on glass substrates using RF magnetron sputtering system under Ar flow rates, and their structural, electrical, and optical properties were analyzed systematically. As a result of the XRD pattern, the peak of the (002) (2θ≈33.7˚) orientation was observed, and it was found to have a hexagonal wurtzite structure. The sheet resistance of Ar 5 sccm was 3.073×102 Ω/sq and showed the best electrical properties because of the improvement of mobility due to the increase of the grain size and the variation of RMS roughness. In addition, the average transmittance was more than 90% for all samples, which demonstrated good optical properties. It is expected that the TCO characteristics can be improved by controlling Ar flow rates, and this will increase the efficiency of photoelectronic devices such as OLED and solar cells.
Face milling is required to study cutting process with a view of multipoint cutter. This experimental study mainly deals with the single and multi-insert cutting characteristics using coated tool. Because metal cutting of the single and multi-insert has a large relation to the improvement of productivity, the economic cutting process can be achieved by the analysis of proper metal cutting mechanism. Therefore, machining characteristics of face molling in this paper has been studied by investigating the role of different insert number which is concerned with mean cutting force, the RMS values of AE(acoustic emission) signal, tool life and surface roughness in milling SS 41 and SUS 304. The cutting force and AE signal are monitored to make an analysis of cutting process. The surface roughness of the specimens machined by inserts of different numbers is measured at different speeds, feeds and depth of cut. The width of flank wear is also observed.
For a parabolic reflector antenna, a simple method is presented for computing efficiently the average power pattern degradations caused by the surface roughness of the reflector and misalignments between the reflector and the feed. In this procedure, both nonuniform surface errors and nonuniform illuminations are employed. The assumptions to derive the expressions are that in each annular region of the antenna, the rms value of the surface roughness is known, and in a zone in a annular region, the phase error by misalignments is constant, and can be taken to its value at the center of the zone. Detailed parametric studies are performed with derived expressions to determine the effects of those errors and illumination tapers on parameters such as gain and sidelobe levels.
Die polishing technology is very critical to determine quality and performance of the final products. Generally, the rotation-type tool is used most widely in the polishing process. However it is difficult to make the mirror surface, because the method using the rotation-type tool causes a lot of tiny scratch on the polished surface. This paper proposes a new method using the oscillation-type tool that reduces the scratch and improves the surface roughness. As result. the mirror surface was able to obtain by using the oscillation-type tool. AE is known to be closely related to material removal rate(MRR). As the surface is rougher, MRR gets larger and AE increase. The surface roughness can be indirectly estimated using the AE signal measured during automatic die polishing process. In this study. an AE sensor based monitoring system was developed to investigate the relation the level of AE RMS with the surface roughness during polishing process.
Turbine blade is subject to force of three types ; the torsional force by torsional mount, the centrifugal force by the rotation of rotor and the cyclic bending force by steam pressure. The cyclic bending force was a main factor on fatigue strength. SEM fractography in root of turbine blade showed micro-clack width was not dependent on stress intensity factor range. Especially, fatigue did not exist on SEM photograph in root of turbine blade. To clear out the fracture mechanism of turbine blade, nanofractography was needed on 3-dimensional crack initiation and crack growth with high magnification. Fatigue striation partially existed on AFM photograph in root of turbine blade. Therefore, to find a fracture mechanism of the torsion-mounted blade in nuclear power plant, the relation between stress intensity factor range and surface roughness measured by AFM was estimated, and then the load amplitude ΔP applied to turbine blade was predicted exactly by root mean square roughness.
A monitoring system is necessary to make the polishing process more reliable in order to ensure the high quality and performance of the final products. Generally, AE (Acoustic Emission) is known to be closely related to the material removal rate (MRR). As the surface becomes rougher, the MRR and AE increase. Therefore, the surface roughness can be indirectly estimated using the AE signal measured during the polishing. In this study, an AE sensor-based monitoring system was fabricated to detect the very small AE signal resulting from the friction between a tool and a workpiece during polishing. The performance of this monitoring system was estimated according to polishing conditions, the relation between the level of the AE RMS and the surface roughness during the polishing was investigated.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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