플라즈마 화학증착법에서 증착변수가 TiN 증착에 미치는 영향(III) -r.f. power 및 전극간 거리를 중심으로- (Effect of Deposition Parameters on TiN by Plasma Assisted Chemical Vapor Deposition(III) -Influence of r.f. power and electrode distance on the Tin deposition-)
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- 열처리공학회지
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- 제3권1호
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- pp.1-7
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- 1990