본 연구에서는 InGaN/GaN multi quantum well (MQW)에서 Indium (In) 도핑효과에 따른 광전기화학적 특성을 관찰하였다. 기판으로는 Sapphire을 사용하였고, 각 Quantum well (QW)을 구성하고 있는 InGaN의 조성을 다르게 하였다. 투과도 측정 결과 일정한 In 조성을 가진 InGaN/GaN MQW에 비해 각 QW의 In 조성을 다르게 한 InGaN/GaN MQW에서 흡수도가 향상되는 것을 확인할 수 있었다. 이는 각각 다른 In 조성을 가진 InGaN 층이 더 넓은 영역의 스펙트럼 에너지를 가지는 빛을 흡수하기 때문인 것으로 생각된다. 광학적 특성을 평가하기 위해 진행한 상온 photoluminescence (PL) 실험을 진행한 결과, 역시 다양한 In 조성을 가진 InGaN/GaN MQW이 더 넓은 파장에서 발광이 나타나는 것을 확인할 수 있었다. 이들 샘플에 대한 광전기화학적 특성평가를 통하여, gradation In 조성을 가지고 있는 InGaN/GaN MQW이 일정한 In 조성을 가지는 InGaN/GaN MQW에 비해 광전기화학적 물분해 능력이 월등히 향상됨을 확인하였다.
A new constant growth technique to conserve an initial grating height of V-groove AlGaAs/InGaAs quantum nanostructures above 1.0 $\mu\textrm{m}$ thickness has been successfully embodied on submicron gratings using low pressure metalorganic chemical vapor deposition. A GaAs buffer prior to an AlGaAs barrier layer on submicron gratings plays an important role in overcoming mass transport effects and improving the uniformity of gratings. Transmission electron microscopy (TEM) image shows that high-density V-groove InGaAs quantum wires (QWRs) are well confined at the bottom of gratings. The photoluminescence (PL) peak of the InGaAs QWRs is observed in the temperature range from 10 to 280 K with a relatively narrow full width at half maximum less than 40 meV at room temperature PL. The constant growth technique is an important step to realize complex optoelectronic devices such as one-step grown distributed feedback lasers and two-dimensional photonic crystal.
In the area of optoelectronic devices based on GaN and related ternary compounds, the two-dimensional system like as quantum wells (QWs) has been investigated as an effective structure for improving the light-emitting efficiency. Generally, the quantum well active regions in III-nitride light-emitting diodes grown on conventional c-plane sapphire substrates have critical problems given by the quantum confined Stark effect (QCSE) due to the effects of strong piezoelectric and spontaneous polarizations. However, the QWs grown on nonpolar templates are free from the QCSE since the polar-axis lies within the growth plane of the template. Also the unique characteristic of linear polarized light emission from nonpolar QW structures is attracting attentions because it is proper to the application of back-light units of liquid crystal display. In this study, we characterized optical properties of the a-plane InGaN/GaN QW structures by temperature-dependent photoluminescence (TDPL) measurements. From the photoluminescence (PL) spectrum measured at 300 K, green emission centered at 520 nm was observed for the QW region. Since indium incorporation on nonpolar QWs is lower than that on c-plane, this high indium-doping on a-plane InGaN QWs is not common. Therefore, the effect of high indium composition on optical properties in a-plane InGaN QWs will be extensively studied.
In this paper, the single-photon avalanche diodes (SPADs) featuring three different p-well implantation doses (∅p-well) of 5.0 × 1012, 4.0 × 1012, and 3.0 × 1012 atoms/cm2 under the identical device layouts were fabricated and characterized to evaluate the effects of field enhanced mechanisms on primary dark pulses due to the maximum electric field. From the I-V curves, the breakdown voltages were found as 23.2 V, 40.5 V, and 63.1 V with decreasing ∅p-well, respectively. By measuring DCRs as a function of temperature, we found a reduction of approximately 8% in the maximum electric field lead to a nearly 72% decrease in the DCR at Vex = 5 V and T = 25 ℃. Also, the activation energy increased from 0.43 eV to 0.50 eV, as decreasing the maximum electric field. Finally, we discuss the importance of electric field engineering in reducing the field-enhanced mechanisms contributing to the DCR in SPADs and the benefits on the SPADs related to different types of radiation detection applications.
InGaN/GaN multiple quantum wells (MQWs) grown with various growth interruptions between the InGaN well and GaN barrier by metal-organic chemical vapor deposition were investigated using photoluminescence, high-resolution transmission electron microscopy, and energy filtered transmission electron microscopy (EFTEM). The luminescence intensity of the MQWs with growth interruptions is abruptly reduced compared to that of the MQW without growth interruption. Also, as the interruption time increases the peak emission shows a continuous blue shift. Evidence of indium clustering is directly observed both by using an indium ratio map of the MQWs and from indium composition measurements along an InGaN well using EFTEM. The higher intensity and lower energy emission of light from the MQW grown without interruption showing indium clustering is believed to be caused by the recombination of excitons localized in indium clustering regions and the increased indium composition in these recombination centers.
The trend of x-ray image sensor has been evolved from an amorphous silicon sensor to a crystal silicon sensor. A crystal silicon X-ray sensor, meaning a X-ray CIS (CMOS image sensor), is consisted of three transistors (Trs), i.e., a Reset Transistor, a Source Follower and a Select Transistor, and a photodiode. They are highly sensitive to radiation exposure. As the frequency of exposure to radiation increases, the quality of the imaging device dramatically decreases. The most well known effects of a X-ray CIS due to the radiation damage are increments in the reset voltage and dark currents. In this study, a pixel array of a X-ray CIS was made of $20{\times}20pixels$ and this pixel array was exposed to a high radiation dose. The radiation source was Co-60 and the total radiation dose was increased from 1 to 9 kGy with a step of 1 kGy. We irradiated the small pixel array to get the increments data of the reset voltage and the dark currents. Also, we simulated the radiation effects of the pixel by MCNP (Monte Carlo N-Particle) simulation. From the comparison of actual data and simulation data, the most affected location could be determined and the cause of the increments of the reset voltage and dark current could be found.
Kim, H.-S.;Hong, J.-D.;Lee, J.;Gokul, O.S.;Jang, C.
Corrosion Science and Technology
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제14권3호
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pp.113-119
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2015
Alloy 82/182 weld metals had been extensively used in joining the components of the PWR primary system. Unfortunately, there have been a number of incidents of cracking caused by PWSCC in Alloy 82/182 welds during the operation of PWR worldwide. To mitigate PWSCC, optimization of water-chemistry conditions, especially dissolved hydrogen (DH) and Zn contents, is considered as the most promising and effective remedial method. In this study, the PWSCC behaviours of Alloy 182 weld were investigated in simulated PWR environments with various DH content. Both in-situ and ex-situ oxide characterizations as well as PWSCC initiation tests were performed. The results showed that PWSCC crack initiation time was shortest in PWR water (DH: 30cc/kg). Also, high stress reduced crack initiation time. Oxide layer showed multi-layered structures consisted of the outer needle-like Ni-rich oxide layer, Fe-rich crystalline oxide, and inner Cr-rich inner oxide layers, which was not altered by the level of applied stress. To analyse the multi-layer structure of oxides, EIS measurement were fitted into an equivalent circuit model. Further analyses including TEM and EDS are underway to verify appropriateness of the equivalent circuit model.
Transparent conducting $SnO_2$-based thin films have been coated on float substrates such as fused quartz, and ceramic fiber cloths such as the Nexel and E-glass cloth from tin alkoxides by the sol-gel technique. Also, thin films of alternating layers of $SnO_2$ and $SiO_2$ have been fabricated by dip coating. The sheet resistance and average visible transmittance of the films were investigated in the aspect of the applications as transparent electrodes such as liquid crystal displays, photo-detectors and solar cells. The Nextel and E-glass cloths coated with antimony-doped tin oxide (ATO) had sheet resistance of as low as $20 \;ohm/{\Box}$ and $120ohm/\;{\Box}$, respectively. The promotion effects of additives as $La_2O_3$ and Pt on the ethanol gas sensing properties of the films were investigated in the aspects of the applications as an alcohol sensor and a breath alcohol checker. Possible evidence of quantum well effects in the oxide multilayers of $SnO_2$ and $SiO_2$ was investigated.
We present the effects of rapid thermal annealing (RTA) temperature on the structural and optical properties of self-assembled InAs quantum dot (QD) structures grown on GaAs substrates by molecular beam epitaxy (MBE). The photoluminescence (PL) measurements are performed in a closed-cycle refrigerator as a function of temperature for the unannealed and annealed samples. RTA at higher temperature results in the increase in island size, the corresponding decrease in the density of islands, and the redshift in the PL emission from the islands. The temperature dependence of the PL peak energy for the InAs QDs is well expressed by the Varshni equation. The thermal quenching activation energies for the samples unannealed and annealed at $600^{\circ}C$ are found to be $25{\pm}5meV$ and $47{\pm}5$ meV, respectively.
We investigated theoretically the current-voltage characteristics of resonant tunneling diodes with a single quantum well structure. using a self-consistent method. This method is a numerical analysis which is able to include the effects of the undoped spacer layer and the band bending by charge accumulation and depletion on the contact layers which have not been considered in the flat-band model reported by Esaki. so that it is better suited to explain experimental results. The structure used is an $AL_{0.5}Ga_{0.5}AS/GaAs/Al_{0.5}Ga_{0.5}AS$ single quantum well. In this work. we estimate the theoretical current-voltage characteristics of the same structure, and then, the dependence of the current-voltage curves on the thickness of undoped spacer layers sandwiched between the barrier and highly n-doped GaAs contact layer.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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