• 제목/요약/키워드: Quadrupole electrodes

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2차원 4극 전극 사이에서의 하전 입자의 동전기력학적 거동 (Electrodynamic Behavior of a Charged Particle among Two-Dimensional Quadrupole Electrodes)

  • 박석주;임정환;김상도;최호경;박현설;박영옥
    • 대한기계학회논문집B
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    • 제25권5호
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    • pp.741-749
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    • 2001
  • An inhomogeneous hyperbolic electric field is established among two-dimensional quadrupole electrodes to which an ac voltage is applied. Conditions under which charged particles are focused into a narrow axis region of the plug laminar flow are discussed. The aerodynamic forces influence the behavior of the charged particles in the quadrupole electric field. We derived the dimensionless equations of motion of a charged particle in the alternating quadrupole electric field, and discussed particle trajectories and focusing performance in terms of two dimensionless parameters, which are functions of particle size, operating pressure, and the amplitude and frequency of applied AC voltage, with the results of numerical simulations and experiments.

Experimental Study on the Operation of a Keyhole-Shaped Lens in a Microcolumn

  • Oh, Tae-Sik;Jin, Sang-Won;Choi, Sang-Kuk;Kim, Young-Chul;Kim, Dae-Wook;Ahn, Seung-Joon;Lee, Young-Bok;Kim, Ho-Seob
    • Journal of the Optical Society of Korea
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    • 제15권4호
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    • pp.368-372
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    • 2011
  • An advanced microcolumn is proposed which adopts a modified einzel lens structure. The newly designed einzel lens is composed of four electrodes. The two center electrodes are specially designed electrostatic quadrupole (EQ) einzel lenses having keyhole instead of circular apertures. We constructed the advanced microcolumn with the EQ-einzel lenses, and operated the newly designed microcolumn in single lens mode and double-lens mode. The preliminary results show that the EQ-einzel lens can improve the performance of the micro-column for large sample applications.

마이크로칼럼에서 변형된 4중극 디플렉터와 8중극 디플렉터의 스캔 영역 비교 (Study on the Scan Field of Modified Octupole and Quadrupole Deflector in a Microcolumn)

  • 김영철;김호섭;안승준;오태식;김대욱
    • 한국산학기술학회논문지
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    • 제19권11호
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    • pp.1-7
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    • 2018
  • 마이크로칼럼에서는 전자빔을 스캔하기 위해 초소형화된 정전디플렉터를 사용하는 경우가 많다. 주로 두 개의 8중극 디플렉터(double octupole deflector)를 사용하는 경우가 많은데, 이는 스캔 영역을 넓게 하면서도 전자빔이 대물렌즈를 통과할 때에 광축 근처에 위치하도록 함으로써 수차를 작게 유지할 수 있는 장점이 있기 때문이다. 마이크로칼럼은 최종적으로는 멀티 칼럼 형태로 사용하여 전자빔 장비의 throughput을 높이고자 하는 목적으로 연구가 되고 있는데, 칼럼의 수가 많아지게 되면 각 부품에 연결되는 배선의 수도 함께 증가하게 된다. 이에 따라 정전렌즈, 디플렉터 등의 마이크로칼럼 부품 배선을 진공 챔버 밖에 있는 제어장비와 연결하는 과정에서 실질적인 문제에 봉착하게 된다. 이러한 문제를 완화하기 위하여 렌즈 수를 최소화할 수 있도록 대물렌즈를 제거한 마이크로칼럼 구조를 선택하여, 변형된 4중극 및 8중극 디플렉터의 동작을 전산모사 방법으로 연구하였다. 기본적으로 MEMS 공정을 적용하기 용이한 실리콘 디플렉터 구조에서 각 전극의 크기를 동일하게 하지 않고, 서로 다른 크기의 전극을 교대로 배치하도록 디자인하였다. 8중극과 4중극 디플렉터 각각에서 디플렉터 전압을 인가하는 구동전극의 크기에 변화를 주었을 때 스캔 영역과 디플렉터 중심점에서의 전기장의 변화를 조사하여 비교하였다. 스캔 영역은 디플렉터전압에 따라 선형적으로 비례하였다. 스캔영역과 중심점에서의 전기장 세기 모두 8중극 디플렉터에 비해 4중극 디플렉터에서 더 크게 나타났으며, 전극의 크기에 따라 약 1.3 ~ 2.0 배 큰 것으로 조사되었다.

A Study of Etch Characteristics of ITO Thin Film using the Plasma Diagnostic Tools

  • Park, J.Y.;Lee, D.H.;Jeong, C.H.;Kim, H.S.;Kwon, K.H.;Yeom, G.Y.
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2000년도 제1회 학술대회 논문집
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    • pp.85-87
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    • 2000
  • In this study, high-density plasma etching characteristics of ITO(indium tin oxide) films used for transparent electrodes in display devices have been investigated. The etch characteristics of ITO as a function of $Ar/CH_4$ gas mixtures were analyzed using QMS(quadrupole mass spectrometry), OES(optical emission spectroscopy), and ESP(electrostatic probe). ITO etch rates were increased with the addition of moderate amount of $CH_4$ to Ar due to the increased chemical reaction between $CH_3$ or H and ITO in addition to the physical sputtering of ITO by Ar ion bombardment. However, the addition of excess amount of $CH_4$ decreased the ITO etch rates possibly due to the increased polymer formation on the ITO surface. Also, the measurement data obtained by QMS and OES suggested that $CH_3$ radicals are more activity involved in the etching of ITO compared to H radicals.

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새로운 소프트 플라스마 이온화(SPI) 장치의 개발 및 특성관찰 (Development and characteristics investigation of new soft plasma ionization(SPI) source)

  • 이휘원;박현국;이상천
    • 분석과학
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    • 제22권2호
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    • pp.152-158
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    • 2009
  • 본 연구에서는 유기화합물의 효과적인 소프트 이온화를 위하여 기존의 SPI장치를 개선한 새로운 형태의 방전 장치를 제작하였다. 새로 제작된 소프트 플라스마 이온화 장치는 반 원통 형태의 메쉬 음극과 속빈 원통 형태의 양극으로 구성하였다. 이온화원으로 사용하기에 앞서, 특정압력에서 전극간격에 따른 전압 전류 특성곡선을 조사하여 장치의 구성을 최적화 하였으며, 그 결과 넓은 전압 전류 영역에서 안정한 플라스마를 생성하는 조건을 결정하여 다양한 이온화 패턴을 기대 할 수 있게 하였다. 최적화된 이온화장치를 사중극자 질량분석기와 연결하여 디클로로메탄의 질량 스펙트럼을 관찰하였고, 분석결과 디클로로메탄은 전자충격이온화에 의한 분리 패턴과 비슷하게 나타나는 것을 확인하였다.

수리지질학 연구에 이용되는 대규모 끄는 방식 전기비저항 배열 자료의 1 차원 강력한 역산 (Robust 1D inversion of large towed geo-electric array datasets used for hydrogeological studies)

  • Allen, David;Merrick, Noel
    • 지구물리와물리탐사
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    • 제10권1호
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    • pp.50-59
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    • 2007
  • 물위나 육지에서 끄는 방식의 전기비저항 배열법의 등장은 그 자료량의 규모를 항공전자탐사의 규모에 가깝게 만들었으며, 이렇게 얻어진 자료들의 대부분은 해석을 위한 1 차원 역산이 시도되었다. 이 자료들의 믿을만한 해석과 자료처리를 실행 가능화시키기 위해서는 강력하고 완벽한 자동화 공정은 필수 불가결한 요소이다. 하상이나 염수 대수층의 상부와 같은 뾰족한 경계를 찾아내야 하므로 평활화제한법의 이용은 최소화 시켜야 한다. 적절한 역산 방식이라면 신호를 감쇠시키는 전도성 기반암의 경우에는 해석의 오류를 피하기 위해 낮은 신호대 잡음비를 현명하게 다룰 수 있어야 한다. 이를 위해 각각의 전극 배열법에 대해 하나의 탄력적 두께를 갖는 층을 운용하는 잡음 인지 역산 방법이 코딩되었다. 잡음 인지 역산법은 만약 전도성 기반암이 선호를 감쇠시켜 잡음 수준보다 작게 만들면 이를 감지하여 적당한 위치에 전도성 기반암을 갖는 모형을 구성해 준다. 초기모형의 층들은 4 극으로 구성된 각 전기 배열법의 유효깊이가 미치는 범위 내에서 제 위치를 찾아가게 된다. 이 알고리듬은 4 극의 유효깊이가 대략 지수함수적인 배열을 이루어 자료가 얻어졌을 때 가장 최상의 결과를 나타낸다. 접지저항을 줄이기 위한 선전극이나 용량선 안테나(capacitive-antenna)에 의한 자료의 역산도 가능하다. 이 논문은 이론자료와 오스트레일리아의 Murray 강의 염분차단 계획의 예를 들어 개발된 알고리듬의 유용성을 보여주었다.